JPS6364975A - 導電性サイアロン焼結体の製造方法 - Google Patents
導電性サイアロン焼結体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6364975A JPS6364975A JP61208957A JP20895786A JPS6364975A JP S6364975 A JPS6364975 A JP S6364975A JP 61208957 A JP61208957 A JP 61208957A JP 20895786 A JP20895786 A JP 20895786A JP S6364975 A JPS6364975 A JP S6364975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- sintered body
- sialon
- tin
- sialon sintered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 claims description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 25
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 4
- 229910003564 SiAlON Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、サイアロン焼結体の製造方法に関するもので
あり、特にβサイアロン相とTiN相を主体とする導電
性サイアロン焼結体の製造方法に関するものである。
あり、特にβサイアロン相とTiN相を主体とする導電
性サイアロン焼結体の製造方法に関するものである。
βサイアロン焼結体は、高温強度および耐酸化性に優れ
、熱膨張係数が小さく耐熱衝撃性が非常に大きい等の利
点があるため、近年種々の分野において利用されている
。このβサイアロン焼結体は1例えば特公昭58−14
391号公報または特公昭58−52949号公報など
により知られているように、窒化ケイ素、窒化アルミニ
ウムおよびアルミナからなる第1成分と、イツトリウム
、スカンジウム、セリウム、ランタンおよびランタニド
系譜金属のうちの少なくとも1つの元素の酸化物からな
る第2成分とからなる粉末混合物を成形し、この成形体
を加圧下または非加圧下において保護雰囲気内で焼結す
ることにより得られている。
、熱膨張係数が小さく耐熱衝撃性が非常に大きい等の利
点があるため、近年種々の分野において利用されている
。このβサイアロン焼結体は1例えば特公昭58−14
391号公報または特公昭58−52949号公報など
により知られているように、窒化ケイ素、窒化アルミニ
ウムおよびアルミナからなる第1成分と、イツトリウム
、スカンジウム、セリウム、ランタンおよびランタニド
系譜金属のうちの少なくとも1つの元素の酸化物からな
る第2成分とからなる粉末混合物を成形し、この成形体
を加圧下または非加圧下において保護雰囲気内で焼結す
ることにより得られている。
しかし、βサイアロン焼結体は加工性に足点があり、通
常、ダイヤモンド砥石を用いて加工が行なわれているも
のの、加工時間及びコストが非常に大きくなるという問
題点がある。
常、ダイヤモンド砥石を用いて加工が行なわれているも
のの、加工時間及びコストが非常に大きくなるという問
題点がある。
このため、最近、一般式Si、、Al、OzN、−、で
表わされるβサイアロンのうち、特に2が1.ないし4
.2である組成物に、容量比にして15−50%のIV
a、Va、VIa族元素の酸化物、窒化物、炭化物、硼
化物のうち1種以上の化合物および/または5iC1A
1.C,より選ばれた1種以上を添加することにより導
電性を付与し、放電加工を可能としたサイアロン焼結体
を得ることが提案されている(特開昭59−20788
1号公報)。
表わされるβサイアロンのうち、特に2が1.ないし4
.2である組成物に、容量比にして15−50%のIV
a、Va、VIa族元素の酸化物、窒化物、炭化物、硼
化物のうち1種以上の化合物および/または5iC1A
1.C,より選ばれた1種以上を添加することにより導
電性を付与し、放電加工を可能としたサイアロン焼結体
を得ることが提案されている(特開昭59−20788
1号公報)。
本発明者は上記公知事実に従い、導電性を有するサイア
ロン焼結体を作製し、放電加工して複雑形状の製品を得
るべく種々実験検討を行なった結果、実用的にはより一
層放電加工性を改善し、さらに加工性に優れた焼結体を
得ることが必要であることが判明した。
ロン焼結体を作製し、放電加工して複雑形状の製品を得
るべく種々実験検討を行なった結果、実用的にはより一
層放電加工性を改善し、さらに加工性に優れた焼結体を
得ることが必要であることが判明した。
すなわち、上記提案による導電性サイアロンは、実施例
1.2.3に見られるように電気抵抗率がいずれの場合
とも1O−1(Ω・c!1)以上であり、放電加工は可
能であるものの加工速度が遅いとか、一定以上の厚さの
焼結体のワイヤーカットは不可能になる等の問題点があ
ることが明らかとなった。
1.2.3に見られるように電気抵抗率がいずれの場合
とも1O−1(Ω・c!1)以上であり、放電加工は可
能であるものの加工速度が遅いとか、一定以上の厚さの
焼結体のワイヤーカットは不可能になる等の問題点があ
ることが明らかとなった。
また、上記提案によるサイアロンは実施例に見られるよ
うにホットプレス焼結を行なうことが主体となっており
、製品の形状が極めて限定されることも問題点として浮
び上がってきた。
うにホットプレス焼結を行なうことが主体となっており
、製品の形状が極めて限定されることも問題点として浮
び上がってきた。
本発明は、上記事情に鑑み、より放電加工性に優れ、か
つ本来βサイアロンが持つ耐酸化性、耐熱衝撃性等の劣
化を最小限に抑制した導電性サイアロン焼結体の製造方
法を提供とすることを目的とするものである。
つ本来βサイアロンが持つ耐酸化性、耐熱衝撃性等の劣
化を最小限に抑制した導電性サイアロン焼結体の製造方
法を提供とすることを目的とするものである。
c問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するために本発明は、主としてSi、N
、粉末、A1□O1粉末、AINポリタイプ粉末(AI
Nを含む)、Sio、粉末および1種以上のma族元素
の酸化物または窒化物粉末およびこれらに対し、25〜
70容量%のTiN粉末を添加し、混合、成形の後、こ
の成形体を1600−2000℃において常圧または加
圧窒素中で焼結することにより、βサイアロン相および
TiN相を主体として残部が、Si、 Al、1種以上
のma族元素、O,Nからなる粒界相で構成される導電
性サイアロン焼結体を得る方法において、前記T i
N粉末が気相反応により得られたものであることを特徴
とする導電性サイアロン焼結体の製造方法である。
、粉末、A1□O1粉末、AINポリタイプ粉末(AI
Nを含む)、Sio、粉末および1種以上のma族元素
の酸化物または窒化物粉末およびこれらに対し、25〜
70容量%のTiN粉末を添加し、混合、成形の後、こ
の成形体を1600−2000℃において常圧または加
圧窒素中で焼結することにより、βサイアロン相および
TiN相を主体として残部が、Si、 Al、1種以上
のma族元素、O,Nからなる粒界相で構成される導電
性サイアロン焼結体を得る方法において、前記T i
N粉末が気相反応により得られたものであることを特徴
とする導電性サイアロン焼結体の製造方法である。
1 TiNの ゛
本製造法における最大の特徴は、TiN粉末として気相
反応により得られたTiN粉末を用いることである。こ
こでTiNの製造方法として表1に記すような各種の方
法がある。大別すると、■Tiを直接窒化しT i N
とする、oTie、を還元、窒化する、 ■T i H,を窒化する、 ■気相反応によりT i Nとする、 の4方法に分けられる。ここで現在量産化されているプ
ロセスは、■のTiを直接窒化するやり方である0本発
明者は、各種プロセスにより作られたTiN粉末を集め
検討を行なった。粉末の粒子構造を第1図に示す(比表
面積も併示)、これより直接窒化法による粉末は、塊状
のものを粉砕しているため、微粒のものがかなり多く含
まれることがわかる。また、TiO□より還元、窒化し
たものは比表面積は、直接窒化によるものと変わらない
が、粒径がよくそろっている。一方、気相反応により作
製したものは、上記のものに比べ粒径が非常に細かく、
比表面積も約7倍となる。そこで、これらのTiN粉末
を用い、導電性サイアロンを作製したところ、同一の体
積%を加えた場合にも電気抵抗率に大きな差が生じるこ
とが判明した。
反応により得られたTiN粉末を用いることである。こ
こでTiNの製造方法として表1に記すような各種の方
法がある。大別すると、■Tiを直接窒化しT i N
とする、oTie、を還元、窒化する、 ■T i H,を窒化する、 ■気相反応によりT i Nとする、 の4方法に分けられる。ここで現在量産化されているプ
ロセスは、■のTiを直接窒化するやり方である0本発
明者は、各種プロセスにより作られたTiN粉末を集め
検討を行なった。粉末の粒子構造を第1図に示す(比表
面積も併示)、これより直接窒化法による粉末は、塊状
のものを粉砕しているため、微粒のものがかなり多く含
まれることがわかる。また、TiO□より還元、窒化し
たものは比表面積は、直接窒化によるものと変わらない
が、粒径がよくそろっている。一方、気相反応により作
製したものは、上記のものに比べ粒径が非常に細かく、
比表面積も約7倍となる。そこで、これらのTiN粉末
を用い、導電性サイアロンを作製したところ、同一の体
積%を加えた場合にも電気抵抗率に大きな差が生じるこ
とが判明した。
すなわち、気相反応によるTiNを用いた場合には、直
接窒化によるT i Nを用いた場合に比べ、極めて電
気抵抗率が低いことが判明した。電気抵抗率が低いほど
放電加工性は良好となり、加工速度も大きくすることが
でき、加工の効率が上昇する。また、同一の電気抵抗率
とするためのT i N量も少なくてすみ、耐酸化性、
耐熱衝撃性を向上することが可能となる。
接窒化によるT i Nを用いた場合に比べ、極めて電
気抵抗率が低いことが判明した。電気抵抗率が低いほど
放電加工性は良好となり、加工速度も大きくすることが
でき、加工の効率が上昇する。また、同一の電気抵抗率
とするためのT i N量も少なくてすみ、耐酸化性、
耐熱衝撃性を向上することが可能となる。
ここでT i N粉末の添加量25−70容量%とする
のは、25容量%未満では、T i N粒子相互の接触
が不十分であり、良好な放電加工性を得られず、また抵
抗率のバラツキも大きいためであり、70容量%を越え
るとβサイアロン本来の特長である耐酸化性、高温強度
等の特性の低下が著しいからである。より好ましいT
i N量は、30〜50容量%である。
のは、25容量%未満では、T i N粒子相互の接触
が不十分であり、良好な放電加工性を得られず、また抵
抗率のバラツキも大きいためであり、70容量%を越え
るとβサイアロン本来の特長である耐酸化性、高温強度
等の特性の低下が著しいからである。より好ましいT
i N量は、30〜50容量%である。
なお、本発明においては、ma族元素が添加されるが、
これは常圧焼結、ガス圧焼結等を可能にするためである
。ここでma族元素は焼結時に液相を形成し焼結を促進
する。モしてβサイアロン中には固溶しないため、焼結
体中においては粒界相の主成分となる。このような作用
をもたらすためにはMgO等の使用も可能であるが、高
温強度を高く保持するためにはma族元素が望ましい。
これは常圧焼結、ガス圧焼結等を可能にするためである
。ここでma族元素は焼結時に液相を形成し焼結を促進
する。モしてβサイアロン中には固溶しないため、焼結
体中においては粒界相の主成分となる。このような作用
をもたらすためにはMgO等の使用も可能であるが、高
温強度を高く保持するためにはma族元素が望ましい。
なお、焼結は常圧又は加圧窒素中で1600〜2000
℃で行なうのが好ましい。1600℃未満の焼結温度で
は緻密化が十分に進まず、焼結温度が2000℃を越え
る場合には高圧の窒素ガス中で焼結した場合でも焼結体
からの分解ガスの発生を完全には抑制できなくなる。
℃で行なうのが好ましい。1600℃未満の焼結温度で
は緻密化が十分に進まず、焼結温度が2000℃を越え
る場合には高圧の窒素ガス中で焼結した場合でも焼結体
からの分解ガスの発生を完全には抑制できなくなる。
また、ma族元素の酸化物、窒化物のかわりに、焼結中
にこれら物質に変わるもの、例えばma族元素の硝酸塩
、水酸化物、アルコキシド等を用いてもよい。
にこれら物質に変わるもの、例えばma族元素の硝酸塩
、水酸化物、アルコキシド等を用いてもよい。
さらにまた、本発明において混合粉末を成形する際には
、射出成形、プレス、ラバープレス、スリップキャスト
等の成形方法を用いることができ、また焼結後HIP処
理により更に特性の向上を図ったり、熱処理を行ない粒
界相を強化することも可能である。
、射出成形、プレス、ラバープレス、スリップキャスト
等の成形方法を用いることができ、また焼結後HIP処
理により更に特性の向上を図ったり、熱処理を行ない粒
界相を強化することも可能である。
実施例I
Si□N4粉末(粒径0.7μ鳳、α化率93%)、A
INポリタイプ粉末(結晶型21R1粒径2μm、98
.8%)、A1□0.粉末(粒度0.5μ墓、99.5
%)、T20.粉末(粒径1μ瓢、99.99%)を用
い、βサイアロンにおいてz =0.5となるように配
合した( Y a Os量は7%)。
INポリタイプ粉末(結晶型21R1粒径2μm、98
.8%)、A1□0.粉末(粒度0.5μ墓、99.5
%)、T20.粉末(粒径1μ瓢、99.99%)を用
い、βサイアロンにおいてz =0.5となるように配
合した( Y a Os量は7%)。
これに対し、製造プロセスの異なる3種類のT i N
を35容量%添加し、これらを混合、成形後、1750
℃、4時間、1気圧窒素雰囲気中で焼結した。
を35容量%添加し、これらを混合、成形後、1750
℃、4時間、1気圧窒素雰囲気中で焼結した。
得られた焼結体の電気抵抗率、密度、常温強度を表2に
示す。
示す。
表2
これらよりTiO□気相合成法によるTiNを用いると
同量のTiNを添加した場合でも電気抵抗が大きく低下
することがわかる。
同量のTiNを添加した場合でも電気抵抗が大きく低下
することがわかる。
実施例2
実施例1と同様の粉末を用い、z=0.4のβサイアロ
ン組成になるよう配合し、これに31容量%の実施例1
で用いたT i Nを添加した。これを混合、成形後、
1780℃、4時間、5気圧の窒素雰囲気中で焼結した
。得られた焼結体の組織を第2図に示す、また、原料粉
末の比表面積、電気抵抗率を表3に示す。
ン組成になるよう配合し、これに31容量%の実施例1
で用いたT i Nを添加した。これを混合、成形後、
1780℃、4時間、5気圧の窒素雰囲気中で焼結した
。得られた焼結体の組織を第2図に示す、また、原料粉
末の比表面積、電気抵抗率を表3に示す。
表 3
第2図より、T1Ni料Aより作製した焼結体中のTi
Nの粒径ぼ、B、Cより作製したものに比べ、著しく細
かいことがわかる。
Nの粒径ぼ、B、Cより作製したものに比べ、著しく細
かいことがわかる。
そして、電気抵抗率もこれに対応して著しく低 ゛く
なる。
なる。
実施例3
実施例1と同様の粉末を用い、z =0.5のβサイア
ロン組成となるように配合し、これに20〜75容量%
のT i N (B粉末)を添加した。これを混合、成
形の後、1750℃、4時間、1気圧の窒素中で焼結し
た0表4に焼結体の相対密度、電気抵抗率、高温強度(
1100℃)を示す。
ロン組成となるように配合し、これに20〜75容量%
のT i N (B粉末)を添加した。これを混合、成
形の後、1750℃、4時間、1気圧の窒素中で焼結し
た0表4に焼結体の相対密度、電気抵抗率、高温強度(
1100℃)を示す。
表4
以上より、Si3N、粉末、Al、03粉末、AINポ
リタイプ粉末およびまたはSin、粉末および1種以上
のma族元素の化合物およびこれらに対し、25〜70
容量%のT i N粉末を添加し、混合、成形、焼結し
て導電性サイアロン焼結体を得る製造方法において、気
相反応により作られたT i Nを用いることにより電
気抵抗率が低く、機械的性質の優れた導電性サイアロン
焼結体が得られることがわかる。
リタイプ粉末およびまたはSin、粉末および1種以上
のma族元素の化合物およびこれらに対し、25〜70
容量%のT i N粉末を添加し、混合、成形、焼結し
て導電性サイアロン焼結体を得る製造方法において、気
相反応により作られたT i Nを用いることにより電
気抵抗率が低く、機械的性質の優れた導電性サイアロン
焼結体が得られることがわかる。
本発明により、放電加工性に優れ、かつ本来のβサイア
ロンが持つ耐酸化性、耐熱衝撃性等の劣化を最小限に抑
制した導電性サイフロン焼結体の製造が可能となる。こ
れにより、従来のサイアロンでは不可能であった複雑形
状の穴加工等が可能となり、ダイス、構造用部材等とし
ての応用範囲が拡がる他、導電性を利用したヒーター等
の分野ヘサイアロンを適用することが可能となる。
ロンが持つ耐酸化性、耐熱衝撃性等の劣化を最小限に抑
制した導電性サイフロン焼結体の製造が可能となる。こ
れにより、従来のサイアロンでは不可能であった複雑形
状の穴加工等が可能となり、ダイス、構造用部材等とし
ての応用範囲が拡がる他、導電性を利用したヒーター等
の分野ヘサイアロンを適用することが可能となる。
第1図は各種プロセスにより作られたT iN粉末の粒
子構造を示す顕微鏡写真、第2図はTiN粉末A、B、
Cを原料として作られた焼結体のミクロ組織を示す顕微
鏡写真である。 第 1 図 第2図 A、 ’ x 20 oO
子構造を示す顕微鏡写真、第2図はTiN粉末A、B、
Cを原料として作られた焼結体のミクロ組織を示す顕微
鏡写真である。 第 1 図 第2図 A、 ’ x 20 oO
Claims (1)
- 気相反応より得られたTiN粉末を用いることを特徴と
する、導電相がTiN相である導電性サイアロン焼結体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208957A JPS6364975A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 導電性サイアロン焼結体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208957A JPS6364975A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 導電性サイアロン焼結体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6364975A true JPS6364975A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16564948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61208957A Pending JPS6364975A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 導電性サイアロン焼結体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6364975A (ja) |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP61208957A patent/JPS6364975A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102555662B1 (ko) | 질화규소 소결체의 제조방법 및 이에 따라 제조된 질화규소 소결체 | |
| JPS59207881A (ja) | セラミツク焼結体およびその製造法 | |
| JP2649220B2 (ja) | 窒化珪素/炭化珪素複合粉末及び複合成形体並びにそれらの製造方法及び窒化珪素/炭化珪素複合焼結体の製造方法 | |
| JPS6364974A (ja) | 導電性サイアロン焼結体の製造方法 | |
| JPH05279129A (ja) | 低熱伝導セラミックス及びその製造方法 | |
| JP2631115B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体の製法 | |
| JPS6317264A (ja) | 導電性サイアロン焼結体 | |
| JPH0380750B2 (ja) | ||
| JPH0254297B2 (ja) | ||
| WO1987003867A1 (fr) | Ceramiques de resistance elevee contenant de l'alpha-sialon | |
| JPH01153574A (ja) | 導電性サイアロン焼結体 | |
| US5334339A (en) | Boron nitride sinter and process for its production | |
| JPS632861A (ja) | 導電性サイアロンおよびその製造方法 | |
| JPH01179761A (ja) | 導電性窒化珪素焼結体 | |
| JP2949936B2 (ja) | 窒化ケイ素焼結体の製造方法 | |
| JP3241215B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体の製造方法 | |
| JP2820846B2 (ja) | 高靱性サイアロン焼結体及びその製造方法 | |
| JP2541150B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体 | |
| JPH10259061A (ja) | 粒子分散型複合セラミックスの製造方法 | |
| JP2001322874A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法 | |
| JPH05279130A (ja) | 炭化ケイ素−窒化ケイ素基複合材料及びその製造方法 | |
| JPH09157031A (ja) | 窒化珪素セラミックス及びその製造方法 | |
| JPS6126566A (ja) | SiC質複合体の焼結方法 | |
| JPS60155576A (ja) | 高靭性窒化ケイ素焼結体の製造方法 | |
| JPH0678195B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体 |