JPS6365035A - 銅細線とその製造方法 - Google Patents
銅細線とその製造方法Info
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- JPS6365035A JPS6365035A JP61208893A JP20889386A JPS6365035A JP S6365035 A JPS6365035 A JP S6365035A JP 61208893 A JP61208893 A JP 61208893A JP 20889386 A JP20889386 A JP 20889386A JP S6365035 A JPS6365035 A JP S6365035A
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- copper wire
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子機器用途に用いられる銅細線に関し、特
に半導体製造に用いられるボンディングワイヤに関する
。
に半導体製造に用いられるボンディングワイヤに関する
。
(従来の技術)
ICやトランジスタ等の半導体の製造において、Siチ
ップ上の回路素子と外部の電源への接続や、外部との情
報のやりとりを行うために、回路素子に接続したバッド
と、半導体のリード間に線径15〜lo01Lmの金や
アルミニウムあるいはアルミニウム合金等の細線が用い
られている。
ップ上の回路素子と外部の電源への接続や、外部との情
報のやりとりを行うために、回路素子に接続したバッド
と、半導体のリード間に線径15〜lo01Lmの金や
アルミニウムあるいはアルミニウム合金等の細線が用い
られている。
(発明が解決しようとする問題点)
このうち、アルミニウムやアルミニウム合金は電源との
接合は同種金属で行える利点を有し、安価であるけれど
もボールボンドが困難であり、生産性に劣る超音波を用
いるウェッジボンドが行われているのみならず、さらに
耐食性に劣るために、樹脂封止型の半導体では透湿水に
よるワイヤの腐食が生じるので、一部の気密対土型半導
体に専ら使用されている。
接合は同種金属で行える利点を有し、安価であるけれど
もボールボンドが困難であり、生産性に劣る超音波を用
いるウェッジボンドが行われているのみならず、さらに
耐食性に劣るために、樹脂封止型の半導体では透湿水に
よるワイヤの腐食が生じるので、一部の気密対土型半導
体に専ら使用されている。
一方、金は耐食性に優れ、生産性の高いボールボンディ
ングを利用できる等の利点を有し、樹脂封止型の半導体
を中心に広く利用されている。しかしながら、素材であ
る金が著しく高価であるばかりか、電極パッドのアルミ
ニウムやアルミニウム合金と脆弱なA l −A uの
金属間化合物を形成したり、あるいは透湿水の存在下で
アルミニウムと電食対を形成してアルミニウムを腐食せ
しめる等により、電気回路の断線を生じることか知られ
ている。特に半導体の高度集積化によって熱発生による
温度上昇やチップ面積の増大による透湿水経路の短縮と
ともに多ピン化による信頼性の大幅な低下か懸念される
。
ングを利用できる等の利点を有し、樹脂封止型の半導体
を中心に広く利用されている。しかしながら、素材であ
る金が著しく高価であるばかりか、電極パッドのアルミ
ニウムやアルミニウム合金と脆弱なA l −A uの
金属間化合物を形成したり、あるいは透湿水の存在下で
アルミニウムと電食対を形成してアルミニウムを腐食せ
しめる等により、電気回路の断線を生じることか知られ
ている。特に半導体の高度集積化によって熱発生による
温度上昇やチップ面積の増大による透湿水経路の短縮と
ともに多ピン化による信頼性の大幅な低下か懸念される
。
このために金に代替でき、かつ、特性的にも金に劣らな
いワイヤの開発が望まれていた。
いワイヤの開発が望まれていた。
このために、銅のワイヤが提案されているけれども、そ
の変形能が金に劣り、パッド下にクラックを生じたり、
電極のアルミニウムとの接合が不十分であるという問題
点を生じている。特に高集!X1ICでは、電極パッド
下にS 10 z等の脆い絶縁層が存在する例が多く、
金に匹敵するかまたはそれ以上の変形能を有する銅ワイ
ヤの開発が期待されていた。
の変形能が金に劣り、パッド下にクラックを生じたり、
電極のアルミニウムとの接合が不十分であるという問題
点を生じている。特に高集!X1ICでは、電極パッド
下にS 10 z等の脆い絶縁層が存在する例が多く、
金に匹敵するかまたはそれ以上の変形能を有する銅ワイ
ヤの開発が期待されていた。
(問題点を解決するための手段)
本発明は上記に鑑みて鋭意検討の結果成されたものであ
り、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni及びCoからなる群
から選択された少なくとも1種を0.1〜4.5ppm
含有し、残部Cuから成ることを特徴とする銅細線及び
真空または非酸化性雰囲気下で鋳造されたTi、Cr、
Mn、Fe、Ni及びCoからなる群から選択された少
なくとも1種をO,1〜4.5ppm含有し、残部Cu
から成る鋳塊を、伸線加工と焼鈍処理を繰り返して所定
の線径にするに当り、少なくとも最終加工率を70〜9
9.99%とし、焼鈍処理により2〜20%の伸びとす
ることを特徴とする銅細線の製造方法を提供するもので
ある。
り、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni及びCoからなる群
から選択された少なくとも1種を0.1〜4.5ppm
含有し、残部Cuから成ることを特徴とする銅細線及び
真空または非酸化性雰囲気下で鋳造されたTi、Cr、
Mn、Fe、Ni及びCoからなる群から選択された少
なくとも1種をO,1〜4.5ppm含有し、残部Cu
から成る鋳塊を、伸線加工と焼鈍処理を繰り返して所定
の線径にするに当り、少なくとも最終加工率を70〜9
9.99%とし、焼鈍処理により2〜20%の伸びとす
ることを特徴とする銅細線の製造方法を提供するもので
ある。
本発明の銅細線の製造は、非酸化性雰囲気、もしくは真
空中で前記組成の銅合金の鋳塊ビレットを鋳造した後、
必要に応して熱間加工を行い、その後伸線加工と焼鈍を
繰り返して所定線径とした後、最終焼鈍を行って所定の
性能とする工程により行うことができる。この際少なく
とも焼鈍前の最終加工率を70〜99.99%、好まし
くは90〜99.95%とし、さらに150〜400°
Cの温度で所定時間焼鈍して伸びを2〜20%、好まし
くは6〜16%に調整すると、より優れた特性とするこ
とができる。また、焼鈍により細線の特性を発現する代
わりに、過剰に焼鈍した後、1〜5%の加工率の伸線加
工を行って同様の特性としてもよい。
空中で前記組成の銅合金の鋳塊ビレットを鋳造した後、
必要に応して熱間加工を行い、その後伸線加工と焼鈍を
繰り返して所定線径とした後、最終焼鈍を行って所定の
性能とする工程により行うことができる。この際少なく
とも焼鈍前の最終加工率を70〜99.99%、好まし
くは90〜99.95%とし、さらに150〜400°
Cの温度で所定時間焼鈍して伸びを2〜20%、好まし
くは6〜16%に調整すると、より優れた特性とするこ
とができる。また、焼鈍により細線の特性を発現する代
わりに、過剰に焼鈍した後、1〜5%の加工率の伸線加
工を行って同様の特性としてもよい。
半導体素子とインナーリード間のワイヤボンディングは
ポールボンディングされる例が多い。
ポールボンディングされる例が多い。
ポールボンディングにおいて、細線はH2炎又は放電に
より先端をメルトしてボールを形成されるがボールが真
珠に近く偏芯していないこと、ボールか電極であるアル
ミニウムパッドに容易に接合すること、ワイヤのループ
が適当な高さを保持すること、ステッチ側の接合が十分
であること等が必要とされる。
より先端をメルトしてボールを形成されるがボールが真
珠に近く偏芯していないこと、ボールか電極であるアル
ミニウムパッドに容易に接合すること、ワイヤのループ
が適当な高さを保持すること、ステッチ側の接合が十分
であること等が必要とされる。
銅は純度の向上により、変形能が優れたものとできるけ
れども、常温軟化し易くループのダレを生じたりするこ
と、ロットによる特性のバラツキを生じ易いこと、また
ボールボンディング時に電極パッドのアルミニウムと接
合しない、ボール浮き現象を生じ易いことなどの欠点を
有していた。
れども、常温軟化し易くループのダレを生じたりするこ
と、ロットによる特性のバラツキを生じ易いこと、また
ボールボンディング時に電極パッドのアルミニウムと接
合しない、ボール浮き現象を生じ易いことなどの欠点を
有していた。
本発明によれば、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni、C6
の1種又は2種以上を0.1〜4.5ppm添加するこ
とにより上記欠点を解消できるばかりでなく、チップの
機械的損傷を防止するため低荷重、低超行波出力条件を
要求される高集積ICのボールボンディングにおいても
金に匹敵する以上のボンディング特性が得られる。
の1種又は2種以上を0.1〜4.5ppm添加するこ
とにより上記欠点を解消できるばかりでなく、チップの
機械的損傷を防止するため低荷重、低超行波出力条件を
要求される高集積ICのボールボンディングにおいても
金に匹敵する以上のボンディング特性が得られる。
この添加元素の作用は前記濃度範囲で有利に発現できる
。
。
また以上の作用は高純度の銅でより有効に発現できるの
で、その不純物は少ないほど良く、銅純度99.999
%以上、望ましくは99.9/999%以上が良い。
で、その不純物は少ないほど良く、銅純度99.999
%以上、望ましくは99.9/999%以上が良い。
銅細線については以上のボール及びステッチ側ボンディ
ング性と共にループ形状やワイヤ強度が実用的に重要で
ある。これらの特性には、ワイヤの機械的特性が関与す
るけれども半導体の種類や、ボンディング方式及び装置
条件によって要求される特性は異なる。しかしながら、
伸びが著しく小さいと、ループ高さが大きくなり、ワイ
ヤ間でのショートを引起こす原因となる他、ワイヤ変形
1駈か小さく、ステッチボンドを行うに高荷重、高超音
波出力を必要とするほど、ボンディング性が低下する。
ング性と共にループ形状やワイヤ強度が実用的に重要で
ある。これらの特性には、ワイヤの機械的特性が関与す
るけれども半導体の種類や、ボンディング方式及び装置
条件によって要求される特性は異なる。しかしながら、
伸びが著しく小さいと、ループ高さが大きくなり、ワイ
ヤ間でのショートを引起こす原因となる他、ワイヤ変形
1駈か小さく、ステッチボンドを行うに高荷重、高超音
波出力を必要とするほど、ボンディング性が低下する。
一方、伸びが著しく大きいと、ループ高さが低くなり、
チップとの接触を招く危険がある他、ステッチボンドで
のワイヤ漬れが大きくなり、ネック部が脆弱となり易い
、また、ボンド後のワイヤテイルが不均一となり、ボー
ル形成が行えない事態が生じることとなる。
チップとの接触を招く危険がある他、ステッチボンドで
のワイヤ漬れが大きくなり、ネック部が脆弱となり易い
、また、ボンド後のワイヤテイルが不均一となり、ボー
ル形成が行えない事態が生じることとなる。
このため、前記の機械的特性が実用上有効である。これ
らの特性を実用的に安定して有利に発現するためには、
製造工程、特に最終伸線工程での加工率が特に重要であ
り、前記加工範囲が必要とされる。
らの特性を実用的に安定して有利に発現するためには、
製造工程、特に最終伸線工程での加工率が特に重要であ
り、前記加工範囲が必要とされる。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳しく説明する。
実施例1
真空溶解炉を用いて99.9996%の純銅に添加元素
を加え第1表の実験No、1〜20に示した合金組成の
鋳塊(25■■x140+■)ビレットを鋳造した。こ
のビレットを面出して約20mm(直径)xlOO■m
(長さ)とした後、熱間圧延で直径約10鳳■とし、そ
の後直径8臘1まて皮ムキを入れて伸線を行った。
を加え第1表の実験No、1〜20に示した合金組成の
鋳塊(25■■x140+■)ビレットを鋳造した。こ
のビレットを面出して約20mm(直径)xlOO■m
(長さ)とした後、熱間圧延で直径約10鳳■とし、そ
の後直径8臘1まて皮ムキを入れて伸線を行った。
さらに92%の加工率での伸線と、350℃での真空焼
鈍を繰り返して、直径25gmのワイヤとした。最後に
アルゴン雰囲気中250〜400℃の温度とした走間焼
鈍炉で焼鈍を行い、伸び約15%前後にしたワイヤを製
造した。この実験No−1〜20で得られたワイヤの機
械的特性を第2表に示した。同表中Blは破断強度、E
文は伸びである。
鈍を繰り返して、直径25gmのワイヤとした。最後に
アルゴン雰囲気中250〜400℃の温度とした走間焼
鈍炉で焼鈍を行い、伸び約15%前後にしたワイヤを製
造した。この実験No−1〜20で得られたワイヤの機
械的特性を第2表に示した。同表中Blは破断強度、E
文は伸びである。
ワイヤ中の酸素量はいずれも5ppm以下であった。
第1表
第2表
これらのワイヤを10%H2−N2′jE囲気中で、ボ
ンディング条件を、荷重35g、a音波出力0.02W
、時間30 m s e c、ステージ温度275℃と
してマニュアル型のワイヤボンダーてボールボンドを行
い1次の項目について比較試験した。
ンディング条件を、荷重35g、a音波出力0.02W
、時間30 m s e c、ステージ温度275℃と
してマニュアル型のワイヤボンダーてボールボンドを行
い1次の項目について比較試験した。
l)ボールの形状(真球度、偏芯)
2)ボールの歪(ボールアップ直後のボールの径と押潰
した後のボール径との比較) 3)ボール浮き(Siウェハ上に蒸着した17tm厚の
Anにボールボンドした時の接合不成功率) 4)チップ割れ 5)接合ワイヤ破断モード(ボンディング後ワイヤプル
試験を行った時の破断の部位か接合部かワイヤ切れかを
みる。ワイヤ切れの割合(%)で示す、) 6)ループ形状(ボンディング後のループの形状) なお、5)、6)の項目については基材としてメッキレ
スのCu−0,15Cr−0,ISn合金条(0,25
m鳳厚)を用いた。
した後のボール径との比較) 3)ボール浮き(Siウェハ上に蒸着した17tm厚の
Anにボールボンドした時の接合不成功率) 4)チップ割れ 5)接合ワイヤ破断モード(ボンディング後ワイヤプル
試験を行った時の破断の部位か接合部かワイヤ切れかを
みる。ワイヤ切れの割合(%)で示す、) 6)ループ形状(ボンディング後のループの形状) なお、5)、6)の項目については基材としてメッキレ
スのCu−0,15Cr−0,ISn合金条(0,25
m鳳厚)を用いた。
この結果を第3表に示した。同表の結果より本発明のワ
イヤはボール特性が優れるのに対して実験No、1B(
無添加)や実験No、14〜17(多量添加)は同じレ
ベルのボール変形箋を有するけれども常温軟化し易く、
またボール浮き率が太きいこと、ループ形状が通出でな
いことがわかる。
イヤはボール特性が優れるのに対して実験No、1B(
無添加)や実験No、14〜17(多量添加)は同じレ
ベルのボール変形箋を有するけれども常温軟化し易く、
またボール浮き率が太きいこと、ループ形状が通出でな
いことがわかる。
7″′
、、/’
、〆′
、/
7、/′
実施例2
実施例1の実験No、2と同じ合金組成の鋳塊ビレット
を用いてワイヤを製造した。この場合最終伸線加工率を
80.99.95.99.97%とするとともに、焼鈍
温度を変えて種々の伸びのものを作った以外は実施例1
と同様にして行った。
を用いてワイヤを製造した。この場合最終伸線加工率を
80.99.95.99.97%とするとともに、焼鈍
温度を変えて種々の伸びのものを作った以外は実施例1
と同様にして行った。
これらワイヤについて実施例1の条件でメッキレスのC
u−0,15Cr−0,1sn合金条(0,25mm厚
)にボールボンドを行い、そのプル試験を実施して、ワ
イヤ破断モードの割合を求めた。
u−0,15Cr−0,1sn合金条(0,25mm厚
)にボールボンドを行い、そのプル試験を実施して、ワ
イヤ破断モードの割合を求めた。
結果を第1図に示した。
同図の結果より高加工率でも、2〜20%の範囲内で良
好なボンディング特性が得られることかわかる。
好なボンディング特性が得られることかわかる。
(発明の効果)
本発明の銅細線は変形能が優れるばかりでなく、ワイヤ
強度か高く、常温軟化せず、ループのダレを生じない。
強度か高く、常温軟化せず、ループのダレを生じない。
またボールの形状が良好でボールボンディングにおいて
電極バッドのアルミニウムとの接合性がよく、ボール浮
き率が大きいという優れた効果を奏する。
電極バッドのアルミニウムとの接合性がよく、ボール浮
き率が大きいという優れた効果を奏する。
さらに本発明の銅細線によれば、チップの機械的損傷を
防止できるため低荷重、低超音波出力条件を要求される
高集aICのボールボンドに3いても金に匹敵する以上
のボンディング特性が得られる。
防止できるため低荷重、低超音波出力条件を要求される
高集aICのボールボンドに3いても金に匹敵する以上
のボンディング特性が得られる。
本発明によれば安価な銅線を用いて金線を有利に代替で
きる。
きる。
本発明は、高純度Cuの特性を追求して得られた成果で
あり、上記の効果のほか長期の信頼性については、前述
の如< A l / A uは固相拡散して脆弱な界面
相を形成し、パープルプラーグ現象を起こし易いが、A
n−Cuはこれに比して数分の1以下であることか知ら
れており、この意味ても効果は極めて大きい。
あり、上記の効果のほか長期の信頼性については、前述
の如< A l / A uは固相拡散して脆弱な界面
相を形成し、パープルプラーグ現象を起こし易いが、A
n−Cuはこれに比して数分の1以下であることか知ら
れており、この意味ても効果は極めて大きい。
第1図はCu−0,15Cr−0,ISn条にボールボ
ンドしたワイヤの破断モード中、正常なワイヤ切れの割
合を、ワイヤの最終伸線加工率と伸びについて比較した
結果である。 特許出願人 古河電気工業株式会社 第 1 図 ワイヤ伸び(チ)
ンドしたワイヤの破断モード中、正常なワイヤ切れの割
合を、ワイヤの最終伸線加工率と伸びについて比較した
結果である。 特許出願人 古河電気工業株式会社 第 1 図 ワイヤ伸び(チ)
Claims (4)
- (1)Ti、Cr、Mn、Fe、Ni及びCoからなる
群から選択された少なくとも1種を0.1〜4.5pp
m含有し、残部Cuから成ることを特徴とする銅細線。 - (2)残部のCuが純度99.999重量%以上のCu
である特許請求の範囲第1項記載の銅細線。 - (3)真空または非酸化性雰囲気下で鋳造されたTi、
Cr、Mn、Fe、Ni及びCoからなる群から選択さ
れた少なくとも1種を0.1〜4.5ppm含有し、残
部Cuから成る鋳塊を、伸線加工と焼鈍処理を繰り返し
て所定の線径にするに当り、少なくとも最終加工率を7
0〜99.99%とし、焼鈍処理により2〜20%の伸
びとすることを特徴とする銅細線の製造方法。 - (4)焼鈍処理後に1〜5%の加工を加えて2〜20%
の伸びとする特許請求の範囲第3項記載の銅細線の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208893A JPS6365035A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61208893A JPS6365035A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6365035A true JPS6365035A (ja) | 1988-03-23 |
Family
ID=16563871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61208893A Pending JPS6365035A (ja) | 1986-09-05 | 1986-09-05 | 銅細線とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6365035A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5968292A (ja) * | 1982-10-12 | 1984-04-18 | Canon Inc | インクジエツト記録方法 |
| JPH02258284A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-10-19 | Fuji Xerox Co Ltd | インク記録方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199645A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS62102551A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-13 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS62127437A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-09 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 半導体素子用ボンデイング線 |
| JPS62145756A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ボンデイング用銅線 |
| JPS63903A (ja) * | 1986-06-18 | 1988-01-05 | 日本鉱業株式会社 | ビデオ及び又はテレビ用に使用する銅材 |
-
1986
- 1986-09-05 JP JP61208893A patent/JPS6365035A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199645A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
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| JPH02258284A (ja) * | 1989-03-03 | 1990-10-19 | Fuji Xerox Co Ltd | インク記録方法 |
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