JPS6365660B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/22—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with hetero atoms directly attached to ring nitrogen atoms
- C07D295/26—Sulfur atoms
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- G—PHYSICS
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Description
本発明は、２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導
体、その製法及びジアゾ型材料中でそれらをカツ
プリング成分として使用することに関する。 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン並びに２，
３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スルホン
酸、２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジス
ルホン酸及び２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，
７−ジスルホン酸の塩のような化合物は公知であ
りかつそれらは例えばジアゾ型法で青色カツプラ
ーとして使用される。それらはまた、カツプリン
グして黄色又は褐色を生ぜしめる成分と組合せ
て、黒色コピーを生ぜしめかつ更に複写するため
の中間オリジナルの材料として殊に適当であるジ
アゾ型材料に使われる。 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリンの欠点は高
いカツプリング活性であり、この性質により未露
光のジアゾ型材料中で不所望にも早過ぎるカツプ
リングが行なわれ、それ故耐久性及び貯蔵安定性
は低い。現像時に、異なる光学濃度を有するオリ
ジナル、所謂“ハーフトーン・オリジナル”から
得られるジアゾコピーが異なる色に対して異なる
濃度数値を与えることもまた不利である。一方、
２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スルホ
ン酸、２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジ
スルホン酸及び２−ヒドロキシ−ナフタリン−
３，７−ジスルホン酸の塩、特にナトリウム塩は
ジアゾ型法で常用のＰ−フエニレンジアミン型の
ジアゾ化合物と一般に極めて緩慢にカツプリング
するに過ぎない。緩慢にカツプリングする成分を
含有するジアゾ型材料を常温で乾式アンモニアガ
スを用いて加圧下に現像する場合にはこの欠点は
特に大きくなる。環境を汚染しないので使われて
いる圧力ガスによる現像ではそのようなジアゾ型
材料は非常に低いコントラストの帯緑灰色の色相
を顕色するに過ぎない。２，３−ジヒドロキシ−
ナフタリン−６−スルホン酸、２−ヒドロキシ−
ナフタリン−３，６−ジスルホン酸及び２−ヒド
ロキシ−ナフタリン−３，７−ジスルホン酸のナ
トリウム塩が有機溶剤中で実質的に不溶であるこ
とも不利である。従つて、実際にフイルムをベー
スとする透明なジアゾ型材料を製造する際に適用
されるように有機相から増感するには不適当であ
る。 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸アミド（西ド
イツ国特許公告公報第11 78 704号）及び６位で
ハロゲン又はアルコキシにより置換されている２
−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸アミド（西ドイツ
国特許公告公報第15 72 078号をジアゾ型材料中
の青色カツプリング成分として使用することも知
られている。これらの化合物の欠点は紫外線の長
波長部分と可視光線の短波長部分のスペクトル範
囲において像背景の不所望に高い光学濃度であ
る。しかしこれらの青色カツプラーの最も重大な
欠点は、カツプリングの際に常用のジアゾ化合物
と形成されるそれらのアゾ染料の不十分な耐光性
である。しかし、コピー、例えば技術的図面が長
期間日光に曝される場合或いは更にジアゾコピー
を作成するのに使われるジアゾ中間オリジナルが
市販のコピーランプの化学光線に曝される場合に
アゾ染料の高耐光性は望まれる。 ジアゾ型アゾ染料の耐光性に関する要求は特に
ジアゾマイクロフイルムコピーの場合に非常に高
い。そのようなコピーはその情報を判読する際に
読取り器及び読取り拡大器中でこれら装置中に設
けられている光源から殊に強い放射負荷−可視光
線及び紫外線、熱放射−に曝される。読取り器中
に設置されている白熱電球の発光に長時間曝され
るジアゾマイクロフイルムコピーは退色してそれ
に蓄積されている情報が読取りにくくなるという
ことがしばしば起る。 ジアゾ型アゾ染料の耐光性を改良するために、
６位にスルホンアミド基を有する２−ヒドロキシ
−３−ナフトエ酸もまた過去に提案された（西ド
イツ国特許出願第P2811 981.5号）。この化合物は
ジアゾ型法で常用のジアゾ化合物とカツプリング
して良好な耐光性を有する青色アゾ染料を形成す
る。しかしこれらの化合物のカツプリング速度
は、殊に低温で圧力ガス現像及び湿つたアンモニ
アガスを用いる通常の現像の際に実際の目的には
いつも完全には満足すべきものではない。 ランダウ・レポート，“クツプルンクスコンポ
ネンテン”（Landau Report，“Kupplungskomp
−onenten”），９〜17号（1962年）には、スルホ
ンアミド基の１個の水素原子又は両方の水素原子
がエチル基、ヒドロキシエチル基又はジエチルア
ミノエチル基により置換されている２，３−ジヒ
ドロキシ−ナフタリン−６−スルホンアミド並び
に２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−及び−
３，７−ジスルホン酸が記載されている。これら
の化合物はカツプリングして中程度の耐光性に過
ぎない帯赤青色乃至紫色のアゾ染料を生成する。 水に不溶なジアゾイミノ化合物を含有するネガ
ゴピーの作成に優れているジアゾ型材料もまた知
られており、これは感光層がアルカリ性反応する
ように調整されておりかつ２，３−ジヒドロキシ
−ナフタリン−６−スルホアニリドを青色カツプ
ラーとして使用する（米国特許第4055 425号明細
書）。この方法をポジコピーの作成に使用する場
合、更に層を酸性PH範囲に調整するので煩雑であ
ることが明らかである。更に、この材料は通常の
現像、特に圧力ガス現像の場合に十分に迅速には
カツプリングしない。 それ故、本発明の目的は前記の欠点を有してい
ないか又は極く僅かな程度で有するに過ぎず、か
つ特にそれらアゾ染料の耐光性に関して従来公知
のものよりも優れている新規化合物を開示するこ
とであつた。この目的は一般式： ［式中Ａは６−又は７位に存在して
体、その製法及びジアゾ型材料中でそれらをカツ
プリング成分として使用することに関する。 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン並びに２，
３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スルホン
酸、２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジス
ルホン酸及び２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，
７−ジスルホン酸の塩のような化合物は公知であ
りかつそれらは例えばジアゾ型法で青色カツプラ
ーとして使用される。それらはまた、カツプリン
グして黄色又は褐色を生ぜしめる成分と組合せ
て、黒色コピーを生ぜしめかつ更に複写するため
の中間オリジナルの材料として殊に適当であるジ
アゾ型材料に使われる。 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリンの欠点は高
いカツプリング活性であり、この性質により未露
光のジアゾ型材料中で不所望にも早過ぎるカツプ
リングが行なわれ、それ故耐久性及び貯蔵安定性
は低い。現像時に、異なる光学濃度を有するオリ
ジナル、所謂“ハーフトーン・オリジナル”から
得られるジアゾコピーが異なる色に対して異なる
濃度数値を与えることもまた不利である。一方、
２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スルホ
ン酸、２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジ
スルホン酸及び２−ヒドロキシ−ナフタリン−
３，７−ジスルホン酸の塩、特にナトリウム塩は
ジアゾ型法で常用のＰ−フエニレンジアミン型の
ジアゾ化合物と一般に極めて緩慢にカツプリング
するに過ぎない。緩慢にカツプリングする成分を
含有するジアゾ型材料を常温で乾式アンモニアガ
スを用いて加圧下に現像する場合にはこの欠点は
特に大きくなる。環境を汚染しないので使われて
いる圧力ガスによる現像ではそのようなジアゾ型
材料は非常に低いコントラストの帯緑灰色の色相
を顕色するに過ぎない。２，３−ジヒドロキシ−
ナフタリン−６−スルホン酸、２−ヒドロキシ−
ナフタリン−３，６−ジスルホン酸及び２−ヒド
ロキシ−ナフタリン−３，７−ジスルホン酸のナ
トリウム塩が有機溶剤中で実質的に不溶であるこ
とも不利である。従つて、実際にフイルムをベー
スとする透明なジアゾ型材料を製造する際に適用
されるように有機相から増感するには不適当であ
る。 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸アミド（西ド
イツ国特許公告公報第11 78 704号）及び６位で
ハロゲン又はアルコキシにより置換されている２
−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸アミド（西ドイツ
国特許公告公報第15 72 078号をジアゾ型材料中
の青色カツプリング成分として使用することも知
られている。これらの化合物の欠点は紫外線の長
波長部分と可視光線の短波長部分のスペクトル範
囲において像背景の不所望に高い光学濃度であ
る。しかしこれらの青色カツプラーの最も重大な
欠点は、カツプリングの際に常用のジアゾ化合物
と形成されるそれらのアゾ染料の不十分な耐光性
である。しかし、コピー、例えば技術的図面が長
期間日光に曝される場合或いは更にジアゾコピー
を作成するのに使われるジアゾ中間オリジナルが
市販のコピーランプの化学光線に曝される場合に
アゾ染料の高耐光性は望まれる。 ジアゾ型アゾ染料の耐光性に関する要求は特に
ジアゾマイクロフイルムコピーの場合に非常に高
い。そのようなコピーはその情報を判読する際に
読取り器及び読取り拡大器中でこれら装置中に設
けられている光源から殊に強い放射負荷−可視光
線及び紫外線、熱放射−に曝される。読取り器中
に設置されている白熱電球の発光に長時間曝され
るジアゾマイクロフイルムコピーは退色してそれ
に蓄積されている情報が読取りにくくなるという
ことがしばしば起る。 ジアゾ型アゾ染料の耐光性を改良するために、
６位にスルホンアミド基を有する２−ヒドロキシ
−３−ナフトエ酸もまた過去に提案された（西ド
イツ国特許出願第P2811 981.5号）。この化合物は
ジアゾ型法で常用のジアゾ化合物とカツプリング
して良好な耐光性を有する青色アゾ染料を形成す
る。しかしこれらの化合物のカツプリング速度
は、殊に低温で圧力ガス現像及び湿つたアンモニ
アガスを用いる通常の現像の際に実際の目的には
いつも完全には満足すべきものではない。 ランダウ・レポート，“クツプルンクスコンポ
ネンテン”（Landau Report，“Kupplungskomp
−onenten”），９〜17号（1962年）には、スルホ
ンアミド基の１個の水素原子又は両方の水素原子
がエチル基、ヒドロキシエチル基又はジエチルア
ミノエチル基により置換されている２，３−ジヒ
ドロキシ−ナフタリン−６−スルホンアミド並び
に２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−及び−
３，７−ジスルホン酸が記載されている。これら
の化合物はカツプリングして中程度の耐光性に過
ぎない帯赤青色乃至紫色のアゾ染料を生成する。 水に不溶なジアゾイミノ化合物を含有するネガ
ゴピーの作成に優れているジアゾ型材料もまた知
られており、これは感光層がアルカリ性反応する
ように調整されておりかつ２，３−ジヒドロキシ
−ナフタリン−６−スルホアニリドを青色カツプ
ラーとして使用する（米国特許第4055 425号明細
書）。この方法をポジコピーの作成に使用する場
合、更に層を酸性PH範囲に調整するので煩雑であ
ることが明らかである。更に、この材料は通常の
現像、特に圧力ガス現像の場合に十分に迅速には
カツプリングしない。 それ故、本発明の目的は前記の欠点を有してい
ないか又は極く僅かな程度で有するに過ぎず、か
つ特にそれらアゾ染料の耐光性に関して従来公知
のものよりも優れている新規化合物を開示するこ
とであつた。この目的は一般式： ［式中Ａは６−又は７位に存在して
【式】を表わしかつＸは−OH又は
【式】を表わし、その際にR1及びR3は
水素を表わし、かつR2及びR4は同じか又は異な
つていて、場合により低級アルキル基により置換
されている炭素原子８個までを有するシクロアル
キル基か、炭素原子10個までを有するアルアルキ
ル基かもしくは低級アルキル基、低級アルコシキ
基、ハロゲノアルキル基、アルキル置換アミノ基
又はハロゲンにより置換されているアリール1基
を表わすか或いはそれぞれR1とR2もしくはR3と
R4はそれらが結合している窒素原子と一緒にな
つてメチルピペラジン又はモルホリンを表わす〕
を有する２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導体によ
り達成される。 殊に、R2及びR4が同じか又は異なつていて、
炭素原子７個までを有するシクロアルキル基もし
くは炭素原子４個までを有するアルキル基、アル
コシキ基、ハロゲノアルキル基又はジアルキルア
ミノ基か又はハロゲンにより置換されている炭素
原子10個までを有するアリーキ基を表わすか或い
はR1とR2もしくはR3とR4がそれらが結合してい
る窒素原子と一緒になつてメチルピペラジン又は
モルホリンを表わす２−ヒドロキシ−ナフタリン
誘導体が適当である。 Ｘがヒドロキシル基である２−ヒドロキシ−ナ
フタリン誘導体が殊に適当である。この種類の化
合物はそのカツプリング速度が高いので、特に二
成系ジアゾ材料で常用されるような低いカツプリ
ング速度のジアゾ化合物と組合せると好適であ
る。この場合、R1が水素を表わしかつR2が低級
アルキル基、低級アルコシキ基、ハロゲノアルキ
ル基又はジアルキルアミノ基少なくとも１個及
び／又はハロゲンにより置換されているフエニル
基、殊にメチル基又はトリフルオルメチル基少な
くとも１個及び／又は塩素により置換されている
フエニル基を表わすスルホンアミド基を担持する
誘導体が優れていることが明らかである。 Ｘがスルホンアミド基を表わす２−ヒドロキシ
−ナフタリンの誘導体もまた適当である。この種
類の化合物はカツプリング速度が低いので、一成
分系ジアゾ型材料で常用であるような高いカツプ
リング速度のジアゾ化合物と組合せると特に好適
である。これらの化合物においてR1とR3は水素
を表わしかつR2とR4は同じか又は異なり、低級
アルキル基、低級アルコシキ基、ハロゲノアルキ
ル基又はジアルキルアミノ基少なくとも１個及
び／又はハロゲンにより置換されているフエニル
基、殊にメチル基又はトリフルオルメチル基少な
くとも１個及び／又は塩素により置換されている
フエニル基を表わす。 特に、この新規化合物は、溶剤をベースとする
センシタイジング製剤が使用されるジアゾ型法で
有利に使われる。R1及びR3が水素でありかつR2
とR4が同じか又は異なるシクロアルキル基、ア
ルアルキル基又は塩形成する塩基の基により、例
えばジアルキルアミノ基により置換されているア
リール基である前記一般式の化合物は水性調剤中
で使用するのに優れている。R1及びR3が水素で
ありかつR2及び／又はR4が、そのままで、塩と
して、重金属錯体塩として又は第四級アンモニウ
ム塩として存在する塩基性基少なくとも１個によ
り置換されているフエニル基である前記一般式の
化合物が殊に優れている。塩基性基に対する塩形
成は公知方法で安定なアミン塩を形成する任意の
酸を用いて行なうことができる。ヒドロクロリド
が優れている。塩化亜鉛錯塩は錯体重金属／アミ
ン塩として優れている。塩基性基が四級化されて
いる場合、第４有機基はメチル基である。塩基性
基はアルキル置換ヘテロ環式基であつてもよく、
その化合物はメチルピペラジン又はモルホリンで
ある。 ジアゾ型材料中でカツプリング成分として有利
に使われる本発明による２−ヒドロキシ−ナフタ
リン誘導体の例は、後記の式に関する表中に総括
した。 本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導
体は、２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−
スルホンアミドを例として記載しているが、次の
経過で生成することができる： 工業的には“ジノール塩”という名前で知られ
ている２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−
スルホン酸（Na塩）をシヨツテン・バウマン
（Schotten−Baumann）法によりベンゼンスルホ
ニルクロリドと60〜70℃、PH７〜８で反応させて
２，３−ジベンゼンスルホニルオキシーナフタリ
ン−６−スルホン酸（Na塩）を生成する。単離
しかつ乾燥した後で、この塩を過剰のオキシ塩化
燐を用いて相応するスルホクロリドに変換する。
反応混合物を氷水中に撹拌装入しかつ２，３−ジ
ベンゼンスルホニルオキシーナフタリン−６−ス
ルホクロリドを無色の結晶物質（融点151〜152
℃）として単離する。このスルホクロリドと、基
R1及びR2により置換されているアミン塩基とを
トルエン中100〜115℃で反応させる際に、相応す
る２，３−ジベンゼンスルホニルオキシーナフタ
リン−６−スルホンアミドが得られ、初めは油状
形で、しかし稀塩酸で処理することによりそれは
非常に迅速に無色の結晶化合物に固化する。次
に、ベンゼンスルホニル保護基を、アルカリ性水
溶液中で80〜90℃（蒸気浴温度）で短時間加熱す
ることにより分離する。アルカリ性水溶液を酸性
化することにより２，３−ジヒドロキシーナフタ
リン−６−スルホンアミドが沈澱し、初めは油状
形であるが、短時間後に種添加又は容器の内壁の
擦過により固化する（収率：ジノール塩に対して
理論量の70〜80％）。 ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−及び−
３，７−ジスルホンアミドの生成は同じ方法で行
なうが、それぞれ２−ヒドロキシ−ナフタリン−
３，６−又は−３，７−ジスルホン酸（Na塩）
をこれら化合物を合成する際の出発物質として使
用する。この合成ルートの中間工程で得られる２
−ベンゼンスルホニルオキシーナフタリン−３，
６−ジスルホクロリドは188〜190℃で溶融しかつ
異性体の２−ベンゼンスルホニルオキシーナフタ
リン−３，７−ジスルホクロリドは177〜181℃で
溶融する。このスルホクロリドを基R1とR2もし
くはR3とR4により置換されているアミノ塩基と
反応させることにより相応する３，６−又は３，
７−ジスルホンアミドが得られ、ベンゼンスルホ
ニル保護基を分離することにより各々２−ヒドロ
キシ−ナフタリン−３，６−又は−３，７−ジス
ルホンアミドに変換する（収率：出発物質に対し
て理論量の60〜70％）。 ジアゾ型層の支持材としては常用の任意のベー
ス、例えば被覆したか又は未被覆で、不透明であ
るか、透明か又は着色した紙、繊維又はプラスチ
ツクフイルムが適当である。殊に適当なプラスチ
ツクフイルムはセルロース２ 1/2−アセテート又
はセルローストリアセテートのようなセルロース
エステル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレートのようなポリエステル又はポリビニルア
セテート又はポリスチレンのようなビニル重合体
より成るものである。 青色の色相を形成する際に本発明によるカツプ
リング成分と一緒に使われるジアゾ化合物は公知
である。有利には、これらは一方の側でジアゾ化
されておりかつアミノ基に少なくとも１個の置換
基、例えば場合により置換されているアルキル
基、シクロアルキル基、アルアルキル基又はアリ
ール基を有するＰ−フエニレンジアミン誘導体で
ある。一方の側でジアゾ化されているＰ−フエニ
レンジアミン型のこれらジアゾ化合物はジアゾニ
ウム基に対して２位と５位でアルコシキ基により
置換されておりかつアミノ窒素原子の置換基は結
合してヘテロ環系、例えばモルホリノ環を形成す
る。 本発明による２−ヒドロキシナフタリン誘導体
はジアゾ型法で公知のジアゾ化合物と結合して深
青色のアゾ染料を生成する。公知の青色アゾ染料
に比べて、新規染料は耐光性の点で異なり、殆ん
どの場合に改良される。ジアゾ化合物とカツプリ
ング成分のモル比が１〜1.2：１、殊に1.1：１で
あると最良の結果が得られる。この比は、通常過
剰のカツプリング成分が使われているので驚異的
である。しかし通常の比を適用する場合、余り良
好ではない耐光性が得られる。ジアゾ成分の比に
左右される耐光性は従来知られていなかつた。 有利には、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸ア
ミド及び６位で臭素原子又はメトキシ基により置
換されている誘導体に比較して、本発明による誘
導体の固有色相は明らかに低く、この点に関連し
てジアゾコピーは像背景が改良される。 本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン、殊
に新規化合物である。２，３−ジヒドロキシ−ナ
フタリン−６−スルホンアミドの誘導体の他の利
点は、既に知られている２，３−ジヒドロキシ−
ナフタリン−６−スルホン酸の塩及び２−ヒドロ
キシ−３−ナフトエ酸アミド−６−スルホンアミ
ドに比べて高いカツプリング速度である。ジアゾ
型材料中で優れている、一方の側でジアゾ化され
ているＰ−フエニレンジアミン型のジアゾ化合物
と組合せると、この高いカツプリング速度は更は
迅速かつ完全な現像を惹起する。殊に、高いカツ
プリング速度という利点は、ジアゾ型材料の現像
を常用の複写装置中で低温で圧力下に乾式アンモ
ニアガスを用いて又は湿つたアンモニアガスを用
いて実施する場合、生産技術的に極めて重要であ
る。未露光のジアゾ型材料の貯蔵安定性は高めら
れたカツプリング速度によつて不利な作用を受け
ない。本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン
誘導体はジアゾ型材料において単独で及び他のも
のとの混合物で使用することができる。所望の他
の色相、例えば黒色を得るために、カツプリング
の際に他の色相を付与する成分との混合物として
使用することもできる。 従つて、本発明は感光層においてジアゾ化合物
少なくとも１種を含有するジアゾ型材料に関し、
これは前記一般式の２−ヒドロキシ−ナフタリン
少なくとも１種をカツプリング成分として含有す
ることを特徴とする。 二成分系ジアゾ型材料に使用すると有利である
本発明によるカツプリング成分をジアゾ成分と一
緒に適当な支持材に対して公知方法で水溶液、水
性アルコール性溶液又は純有機溶液から施す。 プラスチツクフイルムを支持材料として使用す
る場合、ジアゾ型成分をフイルム形成結合剤を含
有する有機媒体からラツカー溶液の形で層支持材
上に施すと有利である。結合剤中の染料形成成分
の濃度は結合剤100重量部当り15〜30重量部で変
動させることができる。適当な結合剤の例は全く
多種多様の重合体物質、例えばエチルセルロース
のようなセルロースエーテル、セルロースエステ
ル、例えばセルロース２1/2−アセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセトプロピ
オネート、セルロースアセトブチレート及びセル
ロースブチレート、ビニル重合体、例えばポリビ
ニルアセテート、ポリビニリデンクロリド、塩化
ビニル／酢酸ビニル−共重合体、アルキルアクリ
レートとアクリル酸とのポリ（メチルメタクリレ
ート）共重合体、並びに他の重合体、例えばポリ
フエニレンオキシド、ポリオレフイン、例えばポ
リエチレン又はポリプロピレン、エチレングリコ
ール／イソフタル酸／テレフタル酸−タ−ポリマ
ーである。 更に、染料形成成分と共に感光層は酸性安定
剤、例えば塩酸、硼酸、クエン酸、酒石酸、蟻酸
及び５−スルホサリチル酸を含有していてよい。
ジアゾ型法で常用の助剤、例えばコントラストを
高める塩化亜鉛又は硫酸アンモニウムのような無
機塩、カツプリング促進剤としての尿素、ジメチ
ル尿素、エチルグリコール、エチルグリコールモ
ノメチルエーテル、グリセロール、グリセロール
ジアセテート及びグリセロールトリアセテート、
青味剤としてのチオ尿素及びチオ尿素誘導体、並
びにジアゾコピーの完全露光区域を着色する低濃
度の染料を感光層中に含有させてもよい。 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例に関する説明 Ａ 例１〜５及び７〜８のジアゾ型材料の製造に
使用する基礎ラツカーはアセトン、メタノー
ル、ｎ−ブタノール及びグリコールモノメチル
エーテルより成る溶剤混合物中に溶解したセル
ロースアセトプロピオネート7.5重量％を含有
する。 Ｂ 例１〜５及び７〜８で生成した現像フイルム
試料の光学濃度はマクベス・クアンタローグ・
デンシトメーター（MACBETH Quantalog
densitometer）TD205を使つて測定する。 可視光線スペクトル範囲の濃度（Dvis）測定
に際し使用するフイルターは範囲510〜580nm
で透過し（Kodak，WrattenNo.93）かつ紫外線
吸収スペクトル範囲の濃度（Duv）測定に際し
使用するフイルターは範囲310〜410nm
（Schott，UG4）で有効である。 Ｃ フルトーンまで現像された例１，７及び８の
ジアゾ型染料の耐光性を試験しかつ評価するた
めに、市販の読取り器（Saul，LG16F4）を使
用した。これは15V／150Wのハロゲン白熱電
球、冷却ユニツト及び倍率24倍のレンズ系を備
えている。 Ｄ 例１〜５及び７〜８により製造したジアゾフ
イルム試料の露光及び現像を市販のシート・マ
イクロフイルム複写装置（Kalle，Ozafiche）
で行なう。 例６のジアゾ型材料を市販のジアゾ印刷装置で
露光しかつ現像する。 例５のジアゾフイルムを市販のパンチカード複
写装置中で乾式アンモニアガスを用いて圧力下に
現像する。 例 １ 各々基礎ラツカー50mlから出発して次の組成を
有する４種類の異なるコーチング溶液を生成す
る： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 290mg 青色カツプラー0.69×10-3モル。その際に使用
する青色カツプラーは次の通りである： １ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド（分子量277）
191mg ２ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン（分子量
160） 110mg ３ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド−６−スルホン酸
−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド（分子量
446） 307mg ４ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（３−トリフルオルメチルフエ
ニル）−アミド（分子量383），式13 264mg。 各溶液を付着層を有する厚さ100μｍのポリエ
チレンテレフタレートフイルムに、循環空気乾燥
箱中60〜70℃で乾燥後に得られた種種のジアゾフ
イルム材料が光学可視濃度1.60〜2.20に現像でき
るように施す。このように製造したジアゾフイル
ム材料を使用した増感液に応じて連続番号１〜４
を付する。現像を完全にするために、ジアゾフイ
ルム試料１〜４をそれぞれ２度現像する。次の色
相が得られる： ジアゾフイルム試料１：僅かに帯赤した青色 ジアゾフイルム試料２：紫色 ジアゾフイルム試料３：帯緑青色 ジアゾフイルム試料４：帯赤青色。 次いで、フルトーン（full tone）まで現像し
たジアゾフイルムを12時間日中の散光に曝す。 このように処理した各々のフルトーン試料から
面積0.5cm×５cmの条片を切断しかつこの条片の
染料担持側に約0.3cm2の円形測定区域の印を付け
る。可視光線スペクトルの緑色範囲の光学濃度
（Kodak社，Wratten−FilterNo.93）をそれぞれ
の測定区域で測定する。 フルトーンまで現像した標示したフイルム条片
を市販の読取り器（Saul社，LG16F4）の光源で
同時にスペクトル放射する。各々４時間放射後、
光学濃度（Dvis．，END）をフルトーン試料の測
定区域で再度測定しかつ最初の濃度（Dvis．，
IN.）と比較する。合計してフルトーン試料を読
取り器中で36時間放射する。 ジアゾフイルム試料１〜４の光安定性を試験す
るために開始時（IN.）と終結時（END）の可視
光線の光学濃度を表１に総括する。各フルトーン
試料の“半減期（half−life：τ）、即ち光学濃度
が放射試験の開始時に測定した濃度の半分に低下
する時間も表中に記載する。
つていて、場合により低級アルキル基により置換
されている炭素原子８個までを有するシクロアル
キル基か、炭素原子10個までを有するアルアルキ
ル基かもしくは低級アルキル基、低級アルコシキ
基、ハロゲノアルキル基、アルキル置換アミノ基
又はハロゲンにより置換されているアリール1基
を表わすか或いはそれぞれR1とR2もしくはR3と
R4はそれらが結合している窒素原子と一緒にな
つてメチルピペラジン又はモルホリンを表わす〕
を有する２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導体によ
り達成される。 殊に、R2及びR4が同じか又は異なつていて、
炭素原子７個までを有するシクロアルキル基もし
くは炭素原子４個までを有するアルキル基、アル
コシキ基、ハロゲノアルキル基又はジアルキルア
ミノ基か又はハロゲンにより置換されている炭素
原子10個までを有するアリーキ基を表わすか或い
はR1とR2もしくはR3とR4がそれらが結合してい
る窒素原子と一緒になつてメチルピペラジン又は
モルホリンを表わす２−ヒドロキシ−ナフタリン
誘導体が適当である。 Ｘがヒドロキシル基である２−ヒドロキシ−ナ
フタリン誘導体が殊に適当である。この種類の化
合物はそのカツプリング速度が高いので、特に二
成系ジアゾ材料で常用されるような低いカツプリ
ング速度のジアゾ化合物と組合せると好適であ
る。この場合、R1が水素を表わしかつR2が低級
アルキル基、低級アルコシキ基、ハロゲノアルキ
ル基又はジアルキルアミノ基少なくとも１個及
び／又はハロゲンにより置換されているフエニル
基、殊にメチル基又はトリフルオルメチル基少な
くとも１個及び／又は塩素により置換されている
フエニル基を表わすスルホンアミド基を担持する
誘導体が優れていることが明らかである。 Ｘがスルホンアミド基を表わす２−ヒドロキシ
−ナフタリンの誘導体もまた適当である。この種
類の化合物はカツプリング速度が低いので、一成
分系ジアゾ型材料で常用であるような高いカツプ
リング速度のジアゾ化合物と組合せると特に好適
である。これらの化合物においてR1とR3は水素
を表わしかつR2とR4は同じか又は異なり、低級
アルキル基、低級アルコシキ基、ハロゲノアルキ
ル基又はジアルキルアミノ基少なくとも１個及
び／又はハロゲンにより置換されているフエニル
基、殊にメチル基又はトリフルオルメチル基少な
くとも１個及び／又は塩素により置換されている
フエニル基を表わす。 特に、この新規化合物は、溶剤をベースとする
センシタイジング製剤が使用されるジアゾ型法で
有利に使われる。R1及びR3が水素でありかつR2
とR4が同じか又は異なるシクロアルキル基、ア
ルアルキル基又は塩形成する塩基の基により、例
えばジアルキルアミノ基により置換されているア
リール基である前記一般式の化合物は水性調剤中
で使用するのに優れている。R1及びR3が水素で
ありかつR2及び／又はR4が、そのままで、塩と
して、重金属錯体塩として又は第四級アンモニウ
ム塩として存在する塩基性基少なくとも１個によ
り置換されているフエニル基である前記一般式の
化合物が殊に優れている。塩基性基に対する塩形
成は公知方法で安定なアミン塩を形成する任意の
酸を用いて行なうことができる。ヒドロクロリド
が優れている。塩化亜鉛錯塩は錯体重金属／アミ
ン塩として優れている。塩基性基が四級化されて
いる場合、第４有機基はメチル基である。塩基性
基はアルキル置換ヘテロ環式基であつてもよく、
その化合物はメチルピペラジン又はモルホリンで
ある。 ジアゾ型材料中でカツプリング成分として有利
に使われる本発明による２−ヒドロキシ−ナフタ
リン誘導体の例は、後記の式に関する表中に総括
した。 本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導
体は、２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−
スルホンアミドを例として記載しているが、次の
経過で生成することができる： 工業的には“ジノール塩”という名前で知られ
ている２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−
スルホン酸（Na塩）をシヨツテン・バウマン
（Schotten−Baumann）法によりベンゼンスルホ
ニルクロリドと60〜70℃、PH７〜８で反応させて
２，３−ジベンゼンスルホニルオキシーナフタリ
ン−６−スルホン酸（Na塩）を生成する。単離
しかつ乾燥した後で、この塩を過剰のオキシ塩化
燐を用いて相応するスルホクロリドに変換する。
反応混合物を氷水中に撹拌装入しかつ２，３−ジ
ベンゼンスルホニルオキシーナフタリン−６−ス
ルホクロリドを無色の結晶物質（融点151〜152
℃）として単離する。このスルホクロリドと、基
R1及びR2により置換されているアミン塩基とを
トルエン中100〜115℃で反応させる際に、相応す
る２，３−ジベンゼンスルホニルオキシーナフタ
リン−６−スルホンアミドが得られ、初めは油状
形で、しかし稀塩酸で処理することによりそれは
非常に迅速に無色の結晶化合物に固化する。次
に、ベンゼンスルホニル保護基を、アルカリ性水
溶液中で80〜90℃（蒸気浴温度）で短時間加熱す
ることにより分離する。アルカリ性水溶液を酸性
化することにより２，３−ジヒドロキシーナフタ
リン−６−スルホンアミドが沈澱し、初めは油状
形であるが、短時間後に種添加又は容器の内壁の
擦過により固化する（収率：ジノール塩に対して
理論量の70〜80％）。 ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−及び−
３，７−ジスルホンアミドの生成は同じ方法で行
なうが、それぞれ２−ヒドロキシ−ナフタリン−
３，６−又は−３，７−ジスルホン酸（Na塩）
をこれら化合物を合成する際の出発物質として使
用する。この合成ルートの中間工程で得られる２
−ベンゼンスルホニルオキシーナフタリン−３，
６−ジスルホクロリドは188〜190℃で溶融しかつ
異性体の２−ベンゼンスルホニルオキシーナフタ
リン−３，７−ジスルホクロリドは177〜181℃で
溶融する。このスルホクロリドを基R1とR2もし
くはR3とR4により置換されているアミノ塩基と
反応させることにより相応する３，６−又は３，
７−ジスルホンアミドが得られ、ベンゼンスルホ
ニル保護基を分離することにより各々２−ヒドロ
キシ−ナフタリン−３，６−又は−３，７−ジス
ルホンアミドに変換する（収率：出発物質に対し
て理論量の60〜70％）。 ジアゾ型層の支持材としては常用の任意のベー
ス、例えば被覆したか又は未被覆で、不透明であ
るか、透明か又は着色した紙、繊維又はプラスチ
ツクフイルムが適当である。殊に適当なプラスチ
ツクフイルムはセルロース２ 1/2−アセテート又
はセルローストリアセテートのようなセルロース
エステル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレートのようなポリエステル又はポリビニルア
セテート又はポリスチレンのようなビニル重合体
より成るものである。 青色の色相を形成する際に本発明によるカツプ
リング成分と一緒に使われるジアゾ化合物は公知
である。有利には、これらは一方の側でジアゾ化
されておりかつアミノ基に少なくとも１個の置換
基、例えば場合により置換されているアルキル
基、シクロアルキル基、アルアルキル基又はアリ
ール基を有するＰ−フエニレンジアミン誘導体で
ある。一方の側でジアゾ化されているＰ−フエニ
レンジアミン型のこれらジアゾ化合物はジアゾニ
ウム基に対して２位と５位でアルコシキ基により
置換されておりかつアミノ窒素原子の置換基は結
合してヘテロ環系、例えばモルホリノ環を形成す
る。 本発明による２−ヒドロキシナフタリン誘導体
はジアゾ型法で公知のジアゾ化合物と結合して深
青色のアゾ染料を生成する。公知の青色アゾ染料
に比べて、新規染料は耐光性の点で異なり、殆ん
どの場合に改良される。ジアゾ化合物とカツプリ
ング成分のモル比が１〜1.2：１、殊に1.1：１で
あると最良の結果が得られる。この比は、通常過
剰のカツプリング成分が使われているので驚異的
である。しかし通常の比を適用する場合、余り良
好ではない耐光性が得られる。ジアゾ成分の比に
左右される耐光性は従来知られていなかつた。 有利には、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸ア
ミド及び６位で臭素原子又はメトキシ基により置
換されている誘導体に比較して、本発明による誘
導体の固有色相は明らかに低く、この点に関連し
てジアゾコピーは像背景が改良される。 本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン、殊
に新規化合物である。２，３−ジヒドロキシ−ナ
フタリン−６−スルホンアミドの誘導体の他の利
点は、既に知られている２，３−ジヒドロキシ−
ナフタリン−６−スルホン酸の塩及び２−ヒドロ
キシ−３−ナフトエ酸アミド−６−スルホンアミ
ドに比べて高いカツプリング速度である。ジアゾ
型材料中で優れている、一方の側でジアゾ化され
ているＰ−フエニレンジアミン型のジアゾ化合物
と組合せると、この高いカツプリング速度は更は
迅速かつ完全な現像を惹起する。殊に、高いカツ
プリング速度という利点は、ジアゾ型材料の現像
を常用の複写装置中で低温で圧力下に乾式アンモ
ニアガスを用いて又は湿つたアンモニアガスを用
いて実施する場合、生産技術的に極めて重要であ
る。未露光のジアゾ型材料の貯蔵安定性は高めら
れたカツプリング速度によつて不利な作用を受け
ない。本発明による２−ヒドロキシ−ナフタリン
誘導体はジアゾ型材料において単独で及び他のも
のとの混合物で使用することができる。所望の他
の色相、例えば黒色を得るために、カツプリング
の際に他の色相を付与する成分との混合物として
使用することもできる。 従つて、本発明は感光層においてジアゾ化合物
少なくとも１種を含有するジアゾ型材料に関し、
これは前記一般式の２−ヒドロキシ−ナフタリン
少なくとも１種をカツプリング成分として含有す
ることを特徴とする。 二成分系ジアゾ型材料に使用すると有利である
本発明によるカツプリング成分をジアゾ成分と一
緒に適当な支持材に対して公知方法で水溶液、水
性アルコール性溶液又は純有機溶液から施す。 プラスチツクフイルムを支持材料として使用す
る場合、ジアゾ型成分をフイルム形成結合剤を含
有する有機媒体からラツカー溶液の形で層支持材
上に施すと有利である。結合剤中の染料形成成分
の濃度は結合剤100重量部当り15〜30重量部で変
動させることができる。適当な結合剤の例は全く
多種多様の重合体物質、例えばエチルセルロース
のようなセルロースエーテル、セルロースエステ
ル、例えばセルロース２1/2−アセテート、セル
ローストリアセテート、セルロースアセトプロピ
オネート、セルロースアセトブチレート及びセル
ロースブチレート、ビニル重合体、例えばポリビ
ニルアセテート、ポリビニリデンクロリド、塩化
ビニル／酢酸ビニル−共重合体、アルキルアクリ
レートとアクリル酸とのポリ（メチルメタクリレ
ート）共重合体、並びに他の重合体、例えばポリ
フエニレンオキシド、ポリオレフイン、例えばポ
リエチレン又はポリプロピレン、エチレングリコ
ール／イソフタル酸／テレフタル酸−タ−ポリマ
ーである。 更に、染料形成成分と共に感光層は酸性安定
剤、例えば塩酸、硼酸、クエン酸、酒石酸、蟻酸
及び５−スルホサリチル酸を含有していてよい。
ジアゾ型法で常用の助剤、例えばコントラストを
高める塩化亜鉛又は硫酸アンモニウムのような無
機塩、カツプリング促進剤としての尿素、ジメチ
ル尿素、エチルグリコール、エチルグリコールモ
ノメチルエーテル、グリセロール、グリセロール
ジアセテート及びグリセロールトリアセテート、
青味剤としてのチオ尿素及びチオ尿素誘導体、並
びにジアゾコピーの完全露光区域を着色する低濃
度の染料を感光層中に含有させてもよい。 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例に関する説明 Ａ 例１〜５及び７〜８のジアゾ型材料の製造に
使用する基礎ラツカーはアセトン、メタノー
ル、ｎ−ブタノール及びグリコールモノメチル
エーテルより成る溶剤混合物中に溶解したセル
ロースアセトプロピオネート7.5重量％を含有
する。 Ｂ 例１〜５及び７〜８で生成した現像フイルム
試料の光学濃度はマクベス・クアンタローグ・
デンシトメーター（MACBETH Quantalog
densitometer）TD205を使つて測定する。 可視光線スペクトル範囲の濃度（Dvis）測定
に際し使用するフイルターは範囲510〜580nm
で透過し（Kodak，WrattenNo.93）かつ紫外線
吸収スペクトル範囲の濃度（Duv）測定に際し
使用するフイルターは範囲310〜410nm
（Schott，UG4）で有効である。 Ｃ フルトーンまで現像された例１，７及び８の
ジアゾ型染料の耐光性を試験しかつ評価するた
めに、市販の読取り器（Saul，LG16F4）を使
用した。これは15V／150Wのハロゲン白熱電
球、冷却ユニツト及び倍率24倍のレンズ系を備
えている。 Ｄ 例１〜５及び７〜８により製造したジアゾフ
イルム試料の露光及び現像を市販のシート・マ
イクロフイルム複写装置（Kalle，Ozafiche）
で行なう。 例６のジアゾ型材料を市販のジアゾ印刷装置で
露光しかつ現像する。 例５のジアゾフイルムを市販のパンチカード複
写装置中で乾式アンモニアガスを用いて圧力下に
現像する。 例 １ 各々基礎ラツカー50mlから出発して次の組成を
有する４種類の異なるコーチング溶液を生成す
る： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 290mg 青色カツプラー0.69×10-3モル。その際に使用
する青色カツプラーは次の通りである： １ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド（分子量277）
191mg ２ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン（分子量
160） 110mg ３ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド−６−スルホン酸
−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド（分子量
446） 307mg ４ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（３−トリフルオルメチルフエ
ニル）−アミド（分子量383），式13 264mg。 各溶液を付着層を有する厚さ100μｍのポリエ
チレンテレフタレートフイルムに、循環空気乾燥
箱中60〜70℃で乾燥後に得られた種種のジアゾフ
イルム材料が光学可視濃度1.60〜2.20に現像でき
るように施す。このように製造したジアゾフイル
ム材料を使用した増感液に応じて連続番号１〜４
を付する。現像を完全にするために、ジアゾフイ
ルム試料１〜４をそれぞれ２度現像する。次の色
相が得られる： ジアゾフイルム試料１：僅かに帯赤した青色 ジアゾフイルム試料２：紫色 ジアゾフイルム試料３：帯緑青色 ジアゾフイルム試料４：帯赤青色。 次いで、フルトーン（full tone）まで現像し
たジアゾフイルムを12時間日中の散光に曝す。 このように処理した各々のフルトーン試料から
面積0.5cm×５cmの条片を切断しかつこの条片の
染料担持側に約0.3cm2の円形測定区域の印を付け
る。可視光線スペクトルの緑色範囲の光学濃度
（Kodak社，Wratten−FilterNo.93）をそれぞれ
の測定区域で測定する。 フルトーンまで現像した標示したフイルム条片
を市販の読取り器（Saul社，LG16F4）の光源で
同時にスペクトル放射する。各々４時間放射後、
光学濃度（Dvis．，END）をフルトーン試料の測
定区域で再度測定しかつ最初の濃度（Dvis．，
IN.）と比較する。合計してフルトーン試料を読
取り器中で36時間放射する。 ジアゾフイルム試料１〜４の光安定性を試験す
るために開始時（IN.）と終結時（END）の可視
光線の光学濃度を表１に総括する。各フルトーン
試料の“半減期（half−life：τ）、即ち光学濃度
が放射試験の開始時に測定した濃度の半分に低下
する時間も表中に記載する。
【表】
濃度を比較することにより、フルトーン試料４
の優れている光安定性が明らかである。フルトー
ン試料４のアゾ染料は読取り器中に36時間放置し
た後で最初の光学濃度の50％を有しているが、比
較試料２及び３はそれぞれ既に９％及び21％に低
下し、比較試料１のそれは初めの光学濃度の2.5
％に低下した。 フルトーン試料１〜４の半減期“τ”を比較す
ると、本発明による試料４が読取り器中に36時間
放置した後でも極めて優れていることが明らかで
ある。フルトーン試料４の半減期は試料１，２及
び３の半減期に比べて７倍、３倍及び２倍長い。 フルトーン試料１〜４の測定した光学濃度（縦
軸）と半減期（τ）を、使用した読取り器中の放
射時間（ｔ）の関数として第１図にグラフで記載
した。 例 ２ それぞれ基礎ラツカ−50mlから出発して次の組
成を有する異なる６種類のコーチング溶液を生成
する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 260mg 青色カツプラ−0.69×10-3モルで、使用する青
色カツプラーは次のものである： ５ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（３
−モルホリノプロピル）−アミド（分子量344）
236mg ６ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド（分子量277）
191mg ７ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド−６−スルホン酸
−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド（分子量
446） 307mg ８ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（２−メタルフエニル）−アミド
（分子量329）、式８ 227mg ９ ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジス
ルホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
（分子量482）、式17 332mg 10 ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，７−ジス
ルホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
（分子量482）、式18 332mg。 例１に記載したように、ジアゾフイルム試料を
各溶液から生成する。次いで、各々のジアゾフイ
ルム試料の条片を全階調にわたつて現像する。そ
れぞれのジアゾフイルム試料の他の条片を十分に
かつ完全に露光し、次に同様に現像する。このよ
うにして得られた現像フイルム試料の光学濃度を
可視光線のスペクトル範囲で（Dvis）と紫外線の
スペクトル範囲（Duv）で測定する。濃度測定値
を表２に記載する。 現像時に、試料５と７は帯緑青色の色相、試料
６，９及び10は中間青色の色相並びに試料８は帯
赤青色の色相である。
の優れている光安定性が明らかである。フルトー
ン試料４のアゾ染料は読取り器中に36時間放置し
た後で最初の光学濃度の50％を有しているが、比
較試料２及び３はそれぞれ既に９％及び21％に低
下し、比較試料１のそれは初めの光学濃度の2.5
％に低下した。 フルトーン試料１〜４の半減期“τ”を比較す
ると、本発明による試料４が読取り器中に36時間
放置した後でも極めて優れていることが明らかで
ある。フルトーン試料４の半減期は試料１，２及
び３の半減期に比べて７倍、３倍及び２倍長い。 フルトーン試料１〜４の測定した光学濃度（縦
軸）と半減期（τ）を、使用した読取り器中の放
射時間（ｔ）の関数として第１図にグラフで記載
した。 例 ２ それぞれ基礎ラツカ−50mlから出発して次の組
成を有する異なる６種類のコーチング溶液を生成
する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 260mg 青色カツプラ−0.69×10-3モルで、使用する青
色カツプラーは次のものである： ５ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（３
−モルホリノプロピル）−アミド（分子量344）
236mg ６ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド（分子量277）
191mg ７ ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（２
−メチルフエニル）−アミド−６−スルホン酸
−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド（分子量
446） 307mg ８ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（２−メタルフエニル）−アミド
（分子量329）、式８ 227mg ９ ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジス
ルホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
（分子量482）、式17 332mg 10 ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，７−ジス
ルホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
（分子量482）、式18 332mg。 例１に記載したように、ジアゾフイルム試料を
各溶液から生成する。次いで、各々のジアゾフイ
ルム試料の条片を全階調にわたつて現像する。そ
れぞれのジアゾフイルム試料の他の条片を十分に
かつ完全に露光し、次に同様に現像する。このよ
うにして得られた現像フイルム試料の光学濃度を
可視光線のスペクトル範囲で（Dvis）と紫外線の
スペクトル範囲（Duv）で測定する。濃度測定値
を表２に記載する。 現像時に、試料５と７は帯緑青色の色相、試料
６，９及び10は中間青色の色相並びに試料８は帯
赤青色の色相である。
【表】
濃度測定値からフイルム試料８，９及び10の画
像背景のUV濃度が比較試料５，６及び７のもの
よりも著しく低いことが明らかである。それ故、
試料８，９及び10で使用した本発明による青色カ
ツプラーが試料５，６及び７よりも中間オリジナ
ル用材料を製造するための色調成分として適当で
ある。 例 ３ それぞれ基礎ラツカー50mlから出発して３種類
の溶液を生成する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 260mg 青色カツプラ−0.69×10-3モルで、次の青色カ
ツプラーを使用する： 11 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（フ
エニル）−アミド−６−スルホン酸−Ｎ−（フエ
ニル）−アミド（分子量418） 287mg 12 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−モルホリド（分子量309）、式２
214mg 13 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）−アミド
（分子量350）、式11 240mg 例１に記載したように、ジアゾフイルム試料を
各々の溶液から生成し、使用する溶液に応じて連
続番号を付け、大きさ約５cm×６cmの各フイルム
試料の条片を市販のシートフイルム複写装置の現
像部で１回現像する。 現像部を出た直後に得られたフルトーン試料の
UV濃度（DUV,IN）を測定する。アゾ染料にカツ
プリングしなかつたジアゾ化合物が光分解し、そ
れ故UV濃度は低下する。DUV,IN−DUV,ENDの差
（△Ｄ）が小さい程、その都度のフイルム材料を
より速く現像することができ、即ち差△Ｄが現像
速度の尺度でありかつ△Ｄが現像速度に逆比例す
る。 フイルム試料11〜13の現像速度を判定するため
にUV濃度DUV,IN．及びDUV,END並びに濃度差△Ｄ
を表３に総括する。
像背景のUV濃度が比較試料５，６及び７のもの
よりも著しく低いことが明らかである。それ故、
試料８，９及び10で使用した本発明による青色カ
ツプラーが試料５，６及び７よりも中間オリジナ
ル用材料を製造するための色調成分として適当で
ある。 例 ３ それぞれ基礎ラツカー50mlから出発して３種類
の溶液を生成する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノベンゼン
ジアゾニウムフルオボレート 260mg 青色カツプラ−0.69×10-3モルで、次の青色カ
ツプラーを使用する： 11 ２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−Ｎ−（フ
エニル）−アミド−６−スルホン酸−Ｎ−（フエ
ニル）−アミド（分子量418） 287mg 12 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−モルホリド（分子量309）、式２
214mg 13 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）−アミド
（分子量350）、式11 240mg 例１に記載したように、ジアゾフイルム試料を
各々の溶液から生成し、使用する溶液に応じて連
続番号を付け、大きさ約５cm×６cmの各フイルム
試料の条片を市販のシートフイルム複写装置の現
像部で１回現像する。 現像部を出た直後に得られたフルトーン試料の
UV濃度（DUV,IN）を測定する。アゾ染料にカツ
プリングしなかつたジアゾ化合物が光分解し、そ
れ故UV濃度は低下する。DUV,IN−DUV,ENDの差
（△Ｄ）が小さい程、その都度のフイルム材料を
より速く現像することができ、即ち差△Ｄが現像
速度の尺度でありかつ△Ｄが現像速度に逆比例す
る。 フイルム試料11〜13の現像速度を判定するため
にUV濃度DUV,IN．及びDUV,END並びに濃度差△Ｄ
を表３に総括する。
【表】
試料11〜13の濃度差△Ｄを比較する際に、フイ
ルム試料12及び13では染料カツプリングが実質的
に完全に終結しているが、感光層中に公知の青色
カツプラーを含む比較試料11では実際に多量の残
留ジアゾ化合物を含有することは全く明らかであ
る。これは、フイルム試料12と13が比較試料11よ
り著しく速く現像されることを表わす。後記の表
に挙げた本発明によるすべての化合物の挙動は基
本的には同じである。 例 ４ 付着層を有するポリエチレンテレフタレートフ
イルムの片側でベース面に次の組成の溶液でコー
チングする： 基礎ラツカー 50ml ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジスル
ホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド、
式17 332mg ２，５−ジエトキシ−４−（4′−メチルフエニ
ルメルカプト）−ベンゼンジアゾニウムフルオ
ボレート 250mg。 乾燥後、増感フイルムを透明な銀画像オリジナ
ルの下で露光しかつ市販のシートフイルム複写装
置（KALLE社、Ozafiche）で現像する。明瞭な
透明背景上に帯赤青色の線画を有するコントラス
トの豊かなフイルムコピーが得られる。 未露光のジアゾフイルム材料は良好な貯蔵安定
性を有する。 例 ５ それぞれ基礎ラツカー50mlから出発して、次の
組成を有する異なる２種類のコーチング溶液を生
成する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 290mg 青色カツプラ− 0.69×10-3モル。 その際に使用する青色カツプラーは次の通りで
ある： 14 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（３−トリフルオルメチルフエ
ニル）−アミド、式13 264mg 15 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸（アニリン塩） 230mg。 例１に記載したように、連続番号14〜15を有す
るジアゾフイルム試料を各々の溶液から製造す
る。それぞれ、面積約３cm×５cmを有する小片２
個をこれら２種類のフイルム試料の各各から切断
する。その切断片をそれぞれ14a及び14b並びに
15a及び15bと表わす。14aび15aを湿式アンモニ
アガスを用いて約60〜70℃で現像し、かつ14b及
び15bを乾式アンモニアガスを用いて圧力下に約
20〜25℃で現像する。現像条件を変えて得られた
可視光線光学濃度及び色相を表４に掲載する。
ルム試料12及び13では染料カツプリングが実質的
に完全に終結しているが、感光層中に公知の青色
カツプラーを含む比較試料11では実際に多量の残
留ジアゾ化合物を含有することは全く明らかであ
る。これは、フイルム試料12と13が比較試料11よ
り著しく速く現像されることを表わす。後記の表
に挙げた本発明によるすべての化合物の挙動は基
本的には同じである。 例 ４ 付着層を有するポリエチレンテレフタレートフ
イルムの片側でベース面に次の組成の溶液でコー
チングする： 基礎ラツカー 50ml ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２−ヒドロキシ−ナフタリン−３，６−ジスル
ホン酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド、
式17 332mg ２，５−ジエトキシ−４−（4′−メチルフエニ
ルメルカプト）−ベンゼンジアゾニウムフルオ
ボレート 250mg。 乾燥後、増感フイルムを透明な銀画像オリジナ
ルの下で露光しかつ市販のシートフイルム複写装
置（KALLE社、Ozafiche）で現像する。明瞭な
透明背景上に帯赤青色の線画を有するコントラス
トの豊かなフイルムコピーが得られる。 未露光のジアゾフイルム材料は良好な貯蔵安定
性を有する。 例 ５ それぞれ基礎ラツカー50mlから出発して、次の
組成を有する異なる２種類のコーチング溶液を生
成する： ５−スルホサリチル酸 90mg 塩化亜鉛 90mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 290mg 青色カツプラ− 0.69×10-3モル。 その際に使用する青色カツプラーは次の通りで
ある： 14 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸−Ｎ−（３−トリフルオルメチルフエ
ニル）−アミド、式13 264mg 15 ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−ス
ルホン酸（アニリン塩） 230mg。 例１に記載したように、連続番号14〜15を有す
るジアゾフイルム試料を各々の溶液から製造す
る。それぞれ、面積約３cm×５cmを有する小片２
個をこれら２種類のフイルム試料の各各から切断
する。その切断片をそれぞれ14a及び14b並びに
15a及び15bと表わす。14aび15aを湿式アンモニ
アガスを用いて約60〜70℃で現像し、かつ14b及
び15bを乾式アンモニアガスを用いて圧力下に約
20〜25℃で現像する。現像条件を変えて得られた
可視光線光学濃度及び色相を表４に掲載する。
【表】
現像結果から、異なる現像条件下ではフイルム
試料15を現像すると著しく異なる可視光線の光学
濃度及び色相が得られることが明らかである。こ
れとは反対に、本発明による化合物を使つたフイ
ルム試料14ではその差は極めて僅かである。 例 ６ 青色で、天然透明な、酢酸セルロース（酢酸約
50〜54％）で塗布した紙（ラツカー適用量10〜
20g／m2）に次の溶液を施し、過剰分は適当な方
法で除去しかつ材料を乾燥させる： イソプロパノール 32.5mg 水 12.5ml 蟻 酸 2.5ml クエン酸 1.25ｇ 硼 酸 0.75ｇ チオ尿素 1.5ｇ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スル
ホン酸−Ｎ−（４−ジエチルアミノフエニル）−
アミド、式16 1.55mg ２，５−ジエトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムクロリド（塩化亜鉛複塩）
1.53g。 オリジナルの下で露光後、湿式アンモニアガス
用いて現像することにより非常にコントラストの
豊かな帯赤青色の線画が得られ、これはコピーの
背景の極めて良好な透明性を伴なう。 例 ７ 両面に付着層を有するポリエチレンテレフタレ
ートフイルムを片側で次の溶液を用いてコーチン
グする： 基礎ラツカー100mlの中のフアツトエロー5G
（C.I.Solvent Yellow68）1.0g。このフイルムを
循環空気乾操箱中60〜70℃で乾燥し、担持フイル
ニムと黄色コーチングとからの合成材が得られ
る。乾燥層重量は約６ｇ／m2である。 乾燥後、フイルムの他の面を次の組成の溶液で
増感する： 基礎ラツカー 120ml ５−スルホサリチル酸 240mg Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素 400mg ２，３−ジヒドロキシナフタリン−６−スルホ
ン酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）−アミド、式
11 540mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 660mg。 再度循環空気乾燥箱中60〜70℃で乾燥させた
後、このように製造した増感フイルムを透明な銀
画像オリジナルの下で露光しかつ現像する。フイ
ルムの一方の面で青色アゾ染料の画像及び他方の
面で黄色画像背景を有する非常にコントラストの
豊かな２色のオリジナルコピーが得られる。黄色
の背景上の帯緑黒色の画像はフイルム映写機を通
して又はマイクロフイルム読取り器中で認められ
る。フイルムコピーの判続性は極めて良好であ
る。本発明による青色カツプラーの代りに当モル
量の公知青色カツプラーの２−ヒドロキシ−３−
ナフトエ酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
を感光層中で使用する場合、露光した後で２色の
フイルムコピーが同様に得られる。フイルム映写
機又はマイクロフイルム読取り器で観ると、黄色
の背景上に帯緑青色の画像が見られるが、そのコ
ントラスト及び判読性は本発明による青色カツプ
ラーを使つて達成されたよりも劣つている。 両方のジアゾフイルムコピーからもジアゾ材料
上に更にコピーすることはできない。 両方のフイルムコピーの光安定性を比較する
と、12時間放置後に本発明による青色カツプラー
を用いたフイルムコピーは殆んど退色せず、従つ
て実際に比較コピーよりも判読し易い。 より良好な光安定性を判定するために、本発明
による青色カツプラーを含有するフイルム試料
（試料17）と比較に使用した青色カツプラーを含
有するフイルム試料（試料18）をフルトーンまで
現像する。これら２つのフルトーン試料のそれぞ
れから切断した１つの切断片をマイクロフイルム
読取り器中で光源のスペクトル放射に12時間同時
に露光する。この放射時間の開始時と終結時の光
学濃度を次の表５に総括する。
試料15を現像すると著しく異なる可視光線の光学
濃度及び色相が得られることが明らかである。こ
れとは反対に、本発明による化合物を使つたフイ
ルム試料14ではその差は極めて僅かである。 例 ６ 青色で、天然透明な、酢酸セルロース（酢酸約
50〜54％）で塗布した紙（ラツカー適用量10〜
20g／m2）に次の溶液を施し、過剰分は適当な方
法で除去しかつ材料を乾燥させる： イソプロパノール 32.5mg 水 12.5ml 蟻 酸 2.5ml クエン酸 1.25ｇ 硼 酸 0.75ｇ チオ尿素 1.5ｇ ２，３−ジヒドロキシ−ナフタリン−６−スル
ホン酸−Ｎ−（４−ジエチルアミノフエニル）−
アミド、式16 1.55mg ２，５−ジエトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムクロリド（塩化亜鉛複塩）
1.53g。 オリジナルの下で露光後、湿式アンモニアガス
用いて現像することにより非常にコントラストの
豊かな帯赤青色の線画が得られ、これはコピーの
背景の極めて良好な透明性を伴なう。 例 ７ 両面に付着層を有するポリエチレンテレフタレ
ートフイルムを片側で次の溶液を用いてコーチン
グする： 基礎ラツカー100mlの中のフアツトエロー5G
（C.I.Solvent Yellow68）1.0g。このフイルムを
循環空気乾操箱中60〜70℃で乾燥し、担持フイル
ニムと黄色コーチングとからの合成材が得られ
る。乾燥層重量は約６ｇ／m2である。 乾燥後、フイルムの他の面を次の組成の溶液で
増感する： 基礎ラツカー 120ml ５−スルホサリチル酸 240mg Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素 400mg ２，３−ジヒドロキシナフタリン−６−スルホ
ン酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）−アミド、式
11 540mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノ−ベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 660mg。 再度循環空気乾燥箱中60〜70℃で乾燥させた
後、このように製造した増感フイルムを透明な銀
画像オリジナルの下で露光しかつ現像する。フイ
ルムの一方の面で青色アゾ染料の画像及び他方の
面で黄色画像背景を有する非常にコントラストの
豊かな２色のオリジナルコピーが得られる。黄色
の背景上の帯緑黒色の画像はフイルム映写機を通
して又はマイクロフイルム読取り器中で認められ
る。フイルムコピーの判続性は極めて良好であ
る。本発明による青色カツプラーの代りに当モル
量の公知青色カツプラーの２−ヒドロキシ−３−
ナフトエ酸−Ｎ−（２−メチルフエニル）−アミド
を感光層中で使用する場合、露光した後で２色の
フイルムコピーが同様に得られる。フイルム映写
機又はマイクロフイルム読取り器で観ると、黄色
の背景上に帯緑青色の画像が見られるが、そのコ
ントラスト及び判読性は本発明による青色カツプ
ラーを使つて達成されたよりも劣つている。 両方のジアゾフイルムコピーからもジアゾ材料
上に更にコピーすることはできない。 両方のフイルムコピーの光安定性を比較する
と、12時間放置後に本発明による青色カツプラー
を用いたフイルムコピーは殆んど退色せず、従つ
て実際に比較コピーよりも判読し易い。 より良好な光安定性を判定するために、本発明
による青色カツプラーを含有するフイルム試料
（試料17）と比較に使用した青色カツプラーを含
有するフイルム試料（試料18）をフルトーンまで
現像する。これら２つのフルトーン試料のそれぞ
れから切断した１つの切断片をマイクロフイルム
読取り器中で光源のスペクトル放射に12時間同時
に露光する。この放射時間の開始時と終結時の光
学濃度を次の表５に総括する。
【表】
フルトーン試料17及び18の半減期を比較する際
に、フルトーン試料17の濃度が読取り器中に12時
間放置した後で初めて開始時の半分に低下し、比
較試料18の濃度が既に４時間後には開始時の半分
に低下することが認められる。それ故、読取り器
中のフルトーン試料17の光安定性は比較試料18よ
りも３倍高い。 例 ８ 付着層を有するポリエチレンテレフタレートフ
イルムの片側の基礎表面を次の組成の溶液で塗布
する： 基礎ラツカー 100ml ５−スルホサリチル酸 410mg ２−メチル−レゾルシノール 168mg ２，2′，４，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニ
ルスルフイド 33mg グリセロールトリアセート 200mg 塩化亜鉛 168mg Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素 60mg ２，３−ジヒドロキシナフタリン−６−スルン
酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）ーアミド、式
11 320mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノーベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 726mg ４−ジプロピルアミノ−ベンゼンジアゾニウム
フルオボレート 77mg。 乾燥後、透明な銀画像オリジナルの下で露光し
かつ現像する。明瞭で透明な背景上に非常にコン
トラストの豊かな黒色線画によるフイルムコピー
が得られる。市販のマイクロフイルム読取り器中
でフイルムコピーは優れた光安定性を示す。 本発明による式11の青色カツプラーの代りに西
ドイツ国特許出願第P2746551.6号による当量の６
−メトキシ−２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−
Ｎ−（３−モルホリノプロピル）−アミドを感光層
中で使う際に僅かに黄色の透明な背景上に黒色線
画のコピーが同様に得られる。しかしマイクロフ
イルム読取り器中でのこのコピーの光安定性は本
発明による化合物を使つて製造したフイルムコピ
ーよりも著しく低い。 読取り器中のフイルム画像染料のより良好な光
安定性を黒色の複写を生成する公知のジアゾフイ
ルムに比べて示すために、本発明による式11の青
色カツプラ−を含有するフイルム試料（試料19）
及び比較するための青色カツプラーを含有するフ
イルム試料（20）をフルトーンまで現像する。こ
れら２つのフルトーン試料の切片を同時に読取り
器中で12時間放射する。フルトーン試料19及び20
の放射の開始時と終結時の光学濃度値を次の表６
に掲載する。
に、フルトーン試料17の濃度が読取り器中に12時
間放置した後で初めて開始時の半分に低下し、比
較試料18の濃度が既に４時間後には開始時の半分
に低下することが認められる。それ故、読取り器
中のフルトーン試料17の光安定性は比較試料18よ
りも３倍高い。 例 ８ 付着層を有するポリエチレンテレフタレートフ
イルムの片側の基礎表面を次の組成の溶液で塗布
する： 基礎ラツカー 100ml ５−スルホサリチル酸 410mg ２−メチル−レゾルシノール 168mg ２，2′，４，4′−テトラヒドロキシ−ジフエニ
ルスルフイド 33mg グリセロールトリアセート 200mg 塩化亜鉛 168mg Ｎ，Ｎ−ジメチル尿素 60mg ２，３−ジヒドロキシナフタリン−６−スルン
酸−Ｎ−（４−クロルフエニル）ーアミド、式
11 320mg ２，５−ジブトキシ−４−モルホリノーベンゼ
ンジアゾニウムフルオボレート 726mg ４−ジプロピルアミノ−ベンゼンジアゾニウム
フルオボレート 77mg。 乾燥後、透明な銀画像オリジナルの下で露光し
かつ現像する。明瞭で透明な背景上に非常にコン
トラストの豊かな黒色線画によるフイルムコピー
が得られる。市販のマイクロフイルム読取り器中
でフイルムコピーは優れた光安定性を示す。 本発明による式11の青色カツプラーの代りに西
ドイツ国特許出願第P2746551.6号による当量の６
−メトキシ−２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸−
Ｎ−（３−モルホリノプロピル）−アミドを感光層
中で使う際に僅かに黄色の透明な背景上に黒色線
画のコピーが同様に得られる。しかしマイクロフ
イルム読取り器中でのこのコピーの光安定性は本
発明による化合物を使つて製造したフイルムコピ
ーよりも著しく低い。 読取り器中のフイルム画像染料のより良好な光
安定性を黒色の複写を生成する公知のジアゾフイ
ルムに比べて示すために、本発明による式11の青
色カツプラ−を含有するフイルム試料（試料19）
及び比較するための青色カツプラーを含有するフ
イルム試料（20）をフルトーンまで現像する。こ
れら２つのフルトーン試料の切片を同時に読取り
器中で12時間放射する。フルトーン試料19及び20
の放射の開始時と終結時の光学濃度値を次の表６
に掲載する。
【表】
フルトーン試料19及び20の残留濃度を比較する
際に、フルトーン試料19は読取り器中で12時間放
置した後でも開始時の光学濃度の80％を有するが
フルトーン試料20は同時間後でその開始時の光学
濃度の僅か18％を有するに過ぎないことが明らか
である。それ故、フルトーン試料19の光安定性は
読取り器中で12時間放置した後で比較試料20のも
のよりも４，５倍高い。
際に、フルトーン試料19は読取り器中で12時間放
置した後でも開始時の光学濃度の80％を有するが
フルトーン試料20は同時間後でその開始時の光学
濃度の僅か18％を有するに過ぎないことが明らか
である。それ故、フルトーン試料19の光安定性は
読取り器中で12時間放置した後で比較試料20のも
のよりも４，５倍高い。
【表】
【表】
添付図表は本発明によるフルトーン試料(4)及び
比較試料（１〜３）のそれぞれの光学濃度と半減
期を放射時間（ｔ）の関数として示したグラフで
ある。
比較試料（１〜３）のそれぞれの光学濃度と半減
期を放射時間（ｔ）の関数として示したグラフで
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式： ［式中Ａは６−又は７位に存在して
【式】を表わしかつＸは−OH又は 【式】を表わし、その際にR1及びR3は 水素を表わし、かつR2及びR4は同じか又は異な
つていて、低級アルキル基により置換されていて
もよい炭素原子８個までを有するシクロアルキル
基か、炭素原子10個までを有するアルアルキル基
かもしくは低級アルキル基、低級アルコシキ基、
ハロゲノアルキル基、アルキル置換アミノ基又は
ハロゲンにより置換されているアリール基を表わ
すか或いはそれぞれR1とR2もしくはR3とR4はそ
れらが結合している窒素原子と一緒になつてメチ
ルピペラジン又はモルホリンを表わす］を有する
２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導体。 ２ R2及びR4が同じか又は異なつていて、炭素
原子７個までを有するシクロアルキル基か、炭素
原子10個までを有するアルアルキル基かもしくは
炭素原子４個までを有するアルキル基、アルコキ
シ基、ハロゲノアルキル基又はジアルキルアミノ
基又はハロゲンにより置換されている炭素原子10
個までを有するアリール基を表わすか或いはR1
とR2もしくはR3とR4がそれらが結合している窒
素原子と一緒になつてメチルピペラジン又はモル
ホリンを表わす特許請求の範囲第１項記載の誘導
体。 ３ Ｘがヒドロキシル基である特許請求の範囲第
１項記載の誘導体。 ４ Ａがスルホンアミド基を表わし、R1が水素
を表わしかつR2が低級アルキル基、低級アルコ
シキ基、ハロゲノアルキル基又はジアルキルアミ
ノ基少なくとも１個により及び／又はハロゲンに
より置換されているフエニル基を表わす特許請求
の範囲第１項又は第３項記載の誘導体。 ５ R1が水素を表わしかつR2がメチル基又はト
リフルオルメチル基少なくとも１個により及び／
又は塩素により置換されているフエニル基を表わ
す特許請求の範囲第４項記載の誘導体。 ６ Ｘがスルホンアミド基を表わす特許請求の範
囲第１項記載の誘導体。 ７ R1及びR3が水素を表わしかつR2及びR4が同
じか又は異なつていて、低級アルキル基、低級ア
ルコシキ基、ハロゲノアルキル基又はジアルキル
アミノ基少なくとも１個により及び／又はハロゲ
ンにより置換されているフエニル基を表わす特許
請求の範囲第１項又は第６項記載の誘導体。 ８ R1及びR3が水素を表わしかつR2及びR4が同
じか又は異なつていて、メチル基又はトリフルオ
ルメチル基少なくとも１個により及び／又は塩素
により置換されているフエニル基を表わす特許請
求の範囲第７項記載の誘導体。 ９ 感光層中にジアゾ化合物少なくとも１種を含
有するジアゾ型材料において、カツプリング成分
として一般式： ［式中Ａは６−又は７位に存在して
【式】を表わしかつＸは−OH又は 【式】を表わし、その際にR1及びR3は 水素を表わし、かつR2及びR4は同じか又は異な
つていて、低級アルキル基により置換されていて
もよい炭素原子８個までを有するシクロアルキル
基か、炭素原子10個までを有するアルアルキル基
かもしくは低級アルキル基、低級アルコシキ基、
ハロゲノアルキル基、アルキル置換アミノ基又は
ハロゲンにより置換されているアリール基を表わ
すか或いはそれぞれR1とR2もしくはR3とR4はそ
れらが結合している窒素原子と一緒になつてメチ
ルピペラジン又はモルホリンを表わす］を有する
２−ヒドロキシ−ナフタリン誘導体少なくとも１
種を含有するジアゾ型材料。 １０ ジアゾ化合物とカツプリング成分が１〜
1.2：１のモル比で存在する特許請求の範囲第９
項記載の材料。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792903342 DE2903342A1 (de) | 1979-01-29 | 1979-01-29 | Derivate des 2-hydroxy-naphthalins |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55102556A JPS55102556A (en) | 1980-08-05 |
| JPS6365660B2 true JPS6365660B2 (ja) | 1988-12-16 |
Family
ID=6061649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP840380A Granted JPS55102556A (en) | 1979-01-29 | 1980-01-29 | 22hydroxyynaphthalene derivative and diazo type material containing it |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4492749A (ja) |
| EP (1) | EP0017699B1 (ja) |
| JP (1) | JPS55102556A (ja) |
| AT (1) | ATE1191T1 (ja) |
| BR (1) | BR8000511A (ja) |
| CA (1) | CA1146172A (ja) |
| DE (2) | DE2903342A1 (ja) |
| DK (1) | DK33680A (ja) |
| ES (1) | ES8103007A1 (ja) |
| FI (1) | FI75151C (ja) |
| PT (1) | PT70740B (ja) |
| ZA (1) | ZA80446B (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2815228A (en) * | 1952-02-01 | 1957-12-03 | Press Seal Gasket Corp | Gasket and pipe end construction for bell and spigot pipe |
| US3352341A (en) * | 1965-10-20 | 1967-11-14 | Eva N Schertz | Fast-action nut assembly |
| DE3633906A1 (de) * | 1986-10-04 | 1988-04-07 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von hydroxynaphthalin-sulfonsaeureamiden |
| US7179261B2 (en) | 2003-12-16 | 2007-02-20 | Depuy Spine, Inc. | Percutaneous access devices and bone anchor assemblies |
| US11419642B2 (en) | 2003-12-16 | 2022-08-23 | Medos International Sarl | Percutaneous access devices and bone anchor assemblies |
| US20050228380A1 (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-13 | Depuy Spine Inc. | Instruments and methods for minimally invasive spine surgery |
| US7918857B2 (en) | 2006-09-26 | 2011-04-05 | Depuy Spine, Inc. | Minimally invasive bone anchor extensions |
| US8414588B2 (en) | 2007-10-04 | 2013-04-09 | Depuy Spine, Inc. | Methods and devices for minimally invasive spinal connection element delivery |
| US20100198271A1 (en) * | 2009-02-02 | 2010-08-05 | Vincent Leone | Screw Sheath for Minimally Invasive Spinal Surgery and Method Relating Thereto |
| WO2013052943A2 (en) * | 2011-10-06 | 2013-04-11 | The Regents Of The University Of Michgian | Small molecule inhibitors of mcl-1 and uses thereof |
Family Cites Families (15)
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|---|---|---|---|---|
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| CH223303A (de) * | 1940-12-13 | 1942-09-15 | Geigy Ag J R | Verfahren zur Darstellung einer Sulfonsäure mit höhermolekularen Gruppen. |
| DE859027C (de) * | 1942-07-23 | 1952-12-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Oxyarylsulfonamiden |
| US2537098A (en) * | 1946-04-12 | 1951-01-09 | Gen Aniline & Film Corp | Sulfonamide azo coupling components used in diazo types |
| US2551570A (en) * | 1946-10-24 | 1951-05-01 | Gen Aniline & Film Corp | Azo dye components of the amino naphthol series for diazotypes |
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| DE1077670B (de) * | 1958-09-18 | 1960-03-17 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-Oxynaphthalin-3-sulfonsaeure bzw. deren Alkalisalzenund Amiden |
| BE617154A (ja) * | 1961-05-05 | |||
| NL136527C (ja) * | 1966-11-07 | |||
| GB1217294A (en) * | 1968-04-17 | 1970-12-31 | Ricoh Kk | Improvements in and relating to photosensitised materials |
| GB1278640A (en) * | 1969-01-09 | 1972-06-21 | Ricoh Kk | Improvements in and relating to photosensitive materials |
| US3875216A (en) * | 1972-10-06 | 1975-04-01 | American Cyanamid Co | Process for isolating R-salt and intermediate product |
| US4055425A (en) * | 1975-03-10 | 1977-10-25 | Gaf Corporation | Diazotype material and graphic reproduction processes employing the same |
| DE2811981A1 (de) * | 1978-03-18 | 1979-09-27 | Hoechst Ag | 2-hydroxy-3-naphthoesaeureamide |
| DE2907446A1 (de) * | 1979-02-26 | 1980-09-04 | Hoechst Ag | Zweikomponenten-diazotypiematerial |
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- 1979-01-29 DE DE19792903342 patent/DE2903342A1/de not_active Withdrawn
- 1979-12-28 CA CA000342764A patent/CA1146172A/en not_active Expired
-
1980
- 1980-01-21 AT AT80100287T patent/ATE1191T1/de active
- 1980-01-21 DE DE8080100287T patent/DE3060530D1/de not_active Expired
- 1980-01-21 EP EP80100287A patent/EP0017699B1/de not_active Expired
- 1980-01-25 FI FI800224A patent/FI75151C/fi not_active IP Right Cessation
- 1980-01-25 ZA ZA00800446A patent/ZA80446B/xx unknown
- 1980-01-28 BR BR8000511A patent/BR8000511A/pt unknown
- 1980-01-28 PT PT70740A patent/PT70740B/pt not_active IP Right Cessation
- 1980-01-28 DK DK33680A patent/DK33680A/da not_active Application Discontinuation
- 1980-01-29 ES ES488370A patent/ES8103007A1/es not_active Expired
- 1980-01-29 JP JP840380A patent/JPS55102556A/ja active Granted
-
1983
- 1983-09-15 US US06/532,302 patent/US4492749A/en not_active Expired - Lifetime
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| DK33680A (da) | 1980-07-30 |
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| EP0017699A1 (de) | 1980-10-29 |
| PT70740B (pt) | 1982-06-08 |
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