JPS6366720A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6366720A JPS6366720A JP21050286A JP21050286A JPS6366720A JP S6366720 A JPS6366720 A JP S6366720A JP 21050286 A JP21050286 A JP 21050286A JP 21050286 A JP21050286 A JP 21050286A JP S6366720 A JPS6366720 A JP S6366720A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film layer
- fine particles
- metal
- layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体およびその製造方法に関し、さらに詳しくは摩擦
係数が小さくて走行性および耐久性に優れた前記の磁気
記録媒体およびその製造方法に関する。
録媒体およびその製造方法に関し、さらに詳しくは摩擦
係数が小さくて走行性および耐久性に優れた前記の磁気
記録媒体およびその製造方法に関する。
強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつ（ら
れ、高密度記録に通した特性を有するが、反面磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて走行性が悪く、摩耗や損傷を
受は易い。
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつ（ら
れ、高密度記録に通した特性を有するが、反面磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が大きくて走行性が悪く、摩耗や損傷を
受は易い。
このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護層
を設けるなどして走行性および耐久性を改善することが
行われており、たとえば、高級脂肪酸やフッ素系化合物
等の潤滑剤を被着させたりすることが行われている。（
特開昭５３’−８８７０４号、特開昭５８−９４１３０
号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、これらの１８Ｉ滑剤層は、磁気ヘッドとのｔ
Ｊ接によって比較的短時間で剥離、破壊して、ヘッド目
づまりの原因となる場合があり、未だ走行性および耐久
性は充分に改善されていない。
を設けるなどして走行性および耐久性を改善することが
行われており、たとえば、高級脂肪酸やフッ素系化合物
等の潤滑剤を被着させたりすることが行われている。（
特開昭５３’−８８７０４号、特開昭５８−９４１３０
号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、これらの１８Ｉ滑剤層は、磁気ヘッドとのｔ
Ｊ接によって比較的短時間で剥離、破壊して、ヘッド目
づまりの原因となる場合があり、未だ走行性および耐久
性は充分に改善されていない。
この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、まず、基体上に金属または無機化合物もし
くは有機高分子化合物からなる微粒子を島状に分散析出
させた下地層を形成し、次いで、この上に金属もしくは
それらの合金からなる強磁性金属Ｎ膜層を設けることに
よって、島状に分散析出した微粒子の影響で強磁性金属
薄膜層の表面に凹凸を形成し、磁気ヘッド等との摺動の
際の真実接触面積を低減して、摩擦係数を充分に小さく
し、走行性および耐久性を充分に向上させたものである
。
れたもので、まず、基体上に金属または無機化合物もし
くは有機高分子化合物からなる微粒子を島状に分散析出
させた下地層を形成し、次いで、この上に金属もしくは
それらの合金からなる強磁性金属Ｎ膜層を設けることに
よって、島状に分散析出した微粒子の影響で強磁性金属
薄膜層の表面に凹凸を形成し、磁気ヘッド等との摺動の
際の真実接触面積を低減して、摩擦係数を充分に小さく
し、走行性および耐久性を充分に向上させたものである
。
この発明において、基体上に微粒子を島状に分散析出し
て形成する下地層の形成材料としては、パーマロイ、ア
ルミニウム、銅、金、ニッケルークロム合金、チタン、
タングステン、β−タンタル等の金属またはこれらの合
金、またはシリコン、Ｃ，Ｂ５ＳｉＣ，Ｓｉ３ Ｎ４、
Ａ１２０３％ Ｓｌ ０２ 、Ｔ Ｉ Ｃ％ Ｗ Ｃｓ
Ｔ Ｉ Ｎ ％ Ｂ Ｎ ｓ Ｔ Ｉ Ｂ ２、Ｃｒ
Ｂ２ ｓ ＺｒＯ２等の無機化合物、あるいはフッ素系
樹脂、シリコーン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂
、フェノール系樹脂、アニリン系樹脂、メラミン系樹脂
、ホルマリン系樹脂、尿素系樹脂、フラン系樹脂、エポ
キシ系樹脂等の有機高分子化合物などが好適なものとし
て使用され、これらの金属、無機化合物、有機高分子化
合物等は、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーテ
ィング等の物理蒸着によって、基体上に分散析出され、
下地層が形成される。
て形成する下地層の形成材料としては、パーマロイ、ア
ルミニウム、銅、金、ニッケルークロム合金、チタン、
タングステン、β−タンタル等の金属またはこれらの合
金、またはシリコン、Ｃ，Ｂ５ＳｉＣ，Ｓｉ３ Ｎ４、
Ａ１２０３％ Ｓｌ ０２ 、Ｔ Ｉ Ｃ％ Ｗ Ｃｓ
Ｔ Ｉ Ｎ ％ Ｂ Ｎ ｓ Ｔ Ｉ Ｂ ２、Ｃｒ
Ｂ２ ｓ ＺｒＯ２等の無機化合物、あるいはフッ素系
樹脂、シリコーン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂
、フェノール系樹脂、アニリン系樹脂、メラミン系樹脂
、ホルマリン系樹脂、尿素系樹脂、フラン系樹脂、エポ
キシ系樹脂等の有機高分子化合物などが好適なものとし
て使用され、これらの金属、無機化合物、有機高分子化
合物等は、真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーテ
ィング等の物理蒸着によって、基体上に分散析出され、
下地層が形成される。
このような真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーテ
ィング等の物理蒸着は、不活性ガスまたは酸素ガスもし
くは窒素ガスあるいはこれらの混合ガス中で行うのが好
ましく、またこれらのガスのガス圧は、１×１０トール
の範囲内とし、さらに５Ｘ１０−２〜５トールの範囲内
にするの好ましく、ｌＸｌ０−２より低くすると微粒子
が形成されずに薄膜化が進み、１０トールより高くする
と微粒子が大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及
ぼす。
ィング等の物理蒸着は、不活性ガスまたは酸素ガスもし
くは窒素ガスあるいはこれらの混合ガス中で行うのが好
ましく、またこれらのガスのガス圧は、１×１０トール
の範囲内とし、さらに５Ｘ１０−２〜５トールの範囲内
にするの好ましく、ｌＸｌ０−２より低くすると微粒子
が形成されずに薄膜化が進み、１０トールより高くする
と微粒子が大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及
ぼす。
このようにして基体上に分散析出される金属または無機
化合物もしくは有機高分子化合物からなる微粒子は、粒
子径が５０〜５００人の範囲内であることが好ましく、
５０人より小さいと、次いでこの上に形成される強磁性
金属薄膜層の表面に良好な凹凸を形成して、摩擦係数を
充分に小さくすることができず、５００人より大きくて
は、強磁性金属薄膜層の表面の凹凸が大きくなりすぎて
、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。
化合物もしくは有機高分子化合物からなる微粒子は、粒
子径が５０〜５００人の範囲内であることが好ましく、
５０人より小さいと、次いでこの上に形成される強磁性
金属薄膜層の表面に良好な凹凸を形成して、摩擦係数を
充分に小さくすることができず、５００人より大きくて
は、強磁性金属薄膜層の表面の凹凸が大きくなりすぎて
、電磁変換特性に悪影響を及ぼす。
このようにして、粒子径が５０〜５００人の金属または
無機化合物もしくは有機高分子化合物からなる微粒子を
、基体上に島状に分散析出して下地層を形成し、次いで
この上に強磁性金属薄膜層を形成すると、この微粒子の
凹凸に沿って強磁性金属薄膜層が形成され、この島状の
微粒子の影響によって強磁性金属薄膜層の表面に、中心
線平均粗さにして０．００１ ｔＪ ｍ Ｒａから０．
００８＃ｍＲａの程度の凹凸が形成される。従って、磁
気ヘッド等との摺動の際の真実接触面積が低減され、摩
擦係数が充分に小さくなって走行性が充分に改善され、
耐久性が一段と向上される。
無機化合物もしくは有機高分子化合物からなる微粒子を
、基体上に島状に分散析出して下地層を形成し、次いで
この上に強磁性金属薄膜層を形成すると、この微粒子の
凹凸に沿って強磁性金属薄膜層が形成され、この島状の
微粒子の影響によって強磁性金属薄膜層の表面に、中心
線平均粗さにして０．００１ ｔＪ ｍ Ｒａから０．
００８＃ｍＲａの程度の凹凸が形成される。従って、磁
気ヘッド等との摺動の際の真実接触面積が低減され、摩
擦係数が充分に小さくなって走行性が充分に改善され、
耐久性が一段と向上される。
強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Ｃｏ、Ｆｅ５Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金、
（：、ｏ−Ｎｉ −Ｐ合金などの強磁性材が使用され、
これらの強磁性材からなる強磁性金属薄膜層は、真空蒸
着、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって基体上に被着形成される。
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｐ合金、
（：、ｏ−Ｎｉ −Ｐ合金などの強磁性材が使用され、
これらの強磁性材からなる強磁性金属薄膜層は、真空蒸
着、イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって基体上に被着形成される。
また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム板およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと摺接する構造の
種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
第１図に示す真空蒸着室を隣接した真空蒸着装置を使用
し、ポリエステルフィルムｌを真空蒸着室２の原反ロー
ル３からガイドロール４を介して円筒状キャン５に摺接
させながら移動させ、ガイドロール６および隣接する真
空蒸着室７との連通部に配設した上下一対のガイドロー
ル８，８、さらに真空蒸着室７内に配設したガイドロー
ル９を介してさらに円筒状キャンｌＯに摺接させながら
移動させ、ガイドロール１１を介して巻き取りロール１
２に巻き取るようにセットした。次いで、夏空蒸着室２
に取りつけたガス導入管工３から真空蒸着室２内にアル
ゴンガスを導入して、ガス圧をｌＸ１Ｏ−Ｉｌ−−ルに
設定するとともに、円筒状キャン５の下方に配設したる
つぼ１４内にパーマロイ１５をセットして加熱蒸発させ
、ポリエステルフィルム１上にパーマロイからなる粒子
径が１６０人の島状の微粒子を分散析出して下地層を形
成した。さらに蒸着室７に取りつけたガス導入管１６か
ら酸素ガスを導入してガス圧をｌＸｌ０−５トールに設
定し、蒸着室７内の円筒状キャン１０の下方に配設した
るつぼ１７内にコバルト−ニッケル合金（重量比、８０
：２０）１８をセットして加熱蒸発させ、厚さが１５０
０人のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属′ｇ
ｔ膜層を形成した。しかる後、所定の幅に裁断して、第
２図に示すように分散析出した微粒子からなる下地層２
１および強磁性金属薄膜層２２をポリエステルフィルム
１上に積層形成した磁気テープＡをつくった、なお、図
中１９および２０はそれぞれ真空蒸着室２および７内を
減圧するための排気系である。
し、ポリエステルフィルムｌを真空蒸着室２の原反ロー
ル３からガイドロール４を介して円筒状キャン５に摺接
させながら移動させ、ガイドロール６および隣接する真
空蒸着室７との連通部に配設した上下一対のガイドロー
ル８，８、さらに真空蒸着室７内に配設したガイドロー
ル９を介してさらに円筒状キャンｌＯに摺接させながら
移動させ、ガイドロール１１を介して巻き取りロール１
２に巻き取るようにセットした。次いで、夏空蒸着室２
に取りつけたガス導入管工３から真空蒸着室２内にアル
ゴンガスを導入して、ガス圧をｌＸ１Ｏ−Ｉｌ−−ルに
設定するとともに、円筒状キャン５の下方に配設したる
つぼ１４内にパーマロイ１５をセットして加熱蒸発させ
、ポリエステルフィルム１上にパーマロイからなる粒子
径が１６０人の島状の微粒子を分散析出して下地層を形
成した。さらに蒸着室７に取りつけたガス導入管１６か
ら酸素ガスを導入してガス圧をｌＸｌ０−５トールに設
定し、蒸着室７内の円筒状キャン１０の下方に配設した
るつぼ１７内にコバルト−ニッケル合金（重量比、８０
：２０）１８をセットして加熱蒸発させ、厚さが１５０
０人のコバルト−ニッケル合金からなる強磁性金属′ｇ
ｔ膜層を形成した。しかる後、所定の幅に裁断して、第
２図に示すように分散析出した微粒子からなる下地層２
１および強磁性金属薄膜層２２をポリエステルフィルム
１上に積層形成した磁気テープＡをつくった、なお、図
中１９および２０はそれぞれ真空蒸着室２および７内を
減圧するための排気系である。
実施例２〜７
実施例１における下地層の形成において、アルゴンガス
のガス圧を下記第１表に示すように種々に変更した以外
は、実施例１と同様にしてポリエステルフィルム１上に
、粒子径が下記第１表に示すように種々に異なる島状の
パーマロイ微粒子を分散析□出して下地層を形成し、さ
らに強磁性金属薄膜層を形成して磁気テープＡをつくっ
た。
のガス圧を下記第１表に示すように種々に変更した以外
は、実施例１と同様にしてポリエステルフィルム１上に
、粒子径が下記第１表に示すように種々に異なる島状の
パーマロイ微粒子を分散析□出して下地層を形成し、さ
らに強磁性金属薄膜層を形成して磁気テープＡをつくっ
た。
第１表
比較例１
実施例１において、島状の微粒子からなる下地層の形成
を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テープをつく
った。
を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テープをつく
った。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
、摩擦係数を測定し、またスチル試験機で常温スチル寿
命を測定した。
、摩擦係数を測定し、またスチル試験機で常温スチル寿
命を測定した。
下記第２表はその結果である。
第２表
〔発明の効果〕
上表から明らかなように、この発明で得られた磁気テー
プ（実施例工ないし７）は、いずれも比較例１で得られ
た磁気テープに比し、■擦係数が小さくて、常温スチル
寿命が長く、このことがらこの発明によれば一段と走行
性が良好で耐久性に優れた磁気記録媒体が得られること
がわかる。
プ（実施例工ないし７）は、いずれも比較例１で得られ
た磁気テープに比し、■擦係数が小さくて、常温スチル
寿命が長く、このことがらこの発明によれば一段と走行
性が良好で耐久性に優れた磁気記録媒体が得られること
がわかる。
第１図は真空蒸着装置の１例を示す概略断面図、第２図
はこの発明によって得られた磁気テープの部分拡大断面
図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、２１・・・下
地層、２２・・・強磁性金属薄膜層、Ａ・・・磁気テー
プ（磁気記録媒体） 特許出願人 日立マクセル株式会社 第２図
はこの発明によって得られた磁気テープの部分拡大断面
図である。 １・・・ポリエステルフィルム（基体）、２１・・・下
地層、２２・・・強磁性金属薄膜層、Ａ・・・磁気テー
プ（磁気記録媒体） 特許出願人 日立マクセル株式会社 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基体上に、金属または無機化合物もしくは有機高分
子化合物からなる微粒子を島状に分散析出させた下地層
を形成し、この上に金属もしくはそれらの合金からなる
強磁性金属薄膜層を設けて、強磁性金属薄膜層の表面に
凹凸を形成したことを特徴とする磁気記録媒体 ２、基体上に、不活性ガスまたは酸素ガスもしくは窒素
ガスあるいはこれらの混合ガス中で、ガス圧が１×１０
＾−＾２〜１０トールの雰囲気下に、金属または無機化
合物もしくは有機高分子化合物を物理蒸着させて、金属
または無機化合物もしくは有機高分子化合物からなる微
粒子を島状に分散析出させた下地層を形成し、次いで、
この上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性金属
薄膜層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21050286A JPS6366720A (ja) | 1986-09-06 | 1986-09-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21050286A JPS6366720A (ja) | 1986-09-06 | 1986-09-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6366720A true JPS6366720A (ja) | 1988-03-25 |
Family
ID=16590427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21050286A Pending JPS6366720A (ja) | 1986-09-06 | 1986-09-06 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6366720A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620958A (ja) * | 1992-04-10 | 1994-01-28 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 粗いシリコン表面の形成およびその応用 |
| JP2002310456A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Daikin Ind Ltd | 空気調和機の室外機 |
-
1986
- 1986-09-06 JP JP21050286A patent/JPS6366720A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620958A (ja) * | 1992-04-10 | 1994-01-28 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 粗いシリコン表面の形成およびその応用 |
| JP2002310456A (ja) * | 2001-04-11 | 2002-10-23 | Daikin Ind Ltd | 空気調和機の室外機 |
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