JPS6369784A - 窒化アルミニウム用メタライズペースト組成物 - Google Patents

窒化アルミニウム用メタライズペースト組成物

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JPS6369784A
JPS6369784A JP21057186A JP21057186A JPS6369784A JP S6369784 A JPS6369784 A JP S6369784A JP 21057186 A JP21057186 A JP 21057186A JP 21057186 A JP21057186 A JP 21057186A JP S6369784 A JPS6369784 A JP S6369784A
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明 宮井
正浩 伊吹山
保宏 大橋
征彦 中島
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、窒化アルミニウムのメタライズペー(従来の
技術) セラミックスは、これまで酸化物が主流であったが、要
求物性の多様化により酸化物以外のセラミ・7クスの用
途が拡がりつつある。特に電子部品のセラミック基板材
料は、素子の高密度化に伴ない発生する熱の放散が極め
て重要な問題となっており、これまでのアルミナに代わ
る高熱伝導性の材料の使用が検討されている。この高熱
伝導性の基板材料として、最も実用の可能性の高い素材
に、窒化アルミニウムがある。
基板材料としての使用に際しては、その表面に、導体材
料で回路を描いてやる必要があるが、アルミナの場合に
は、次の技術がある。
■ モリブデン−マンガンペーストを基板に印刷し、湿
潤水素あるいは湿潤水素/窒素混合ガス中、1350〜
1450℃で焼成し回路を形成する方法。
■ Ag/Pd、Ag/P t、Au、、Cuの金属微
粉末をガラスフリット、有機バインダー等と混合しペー
スト化したものを、基板に印刷、焼成することによって
、回路を形成する方法。
■ セラミック基板に銅板を置き、加圧しながら、反応
性雰囲気中で加熱する方法。
しかしながら、これらの方法をそのまま窒化アルミニウ
ムに適用することはできない。なぜなら、配線基板に要
求される最も重要な性質である高い密着力が得られない
からである。これは、上記方法が、いずれもアルミナ基
板が酸化物であることの特性を利用した接着機構によっ
て十分な密着強度を得るのに対し、窒化アルミニウムの
ような非酸化物セラミックスの場合には、アルミナ基板
の場合に形成される接合層が形成されないという理由に
よる。
従って、非酸化物セラミックス用のメタライズ組成物と
メタライズ方法については種々検討されており、炭化珪
素や窒化珪素については、いくつか実用化されている様
だが、窒化アルミニウムのメタライズ品で、実用強度を
備えたものは、未だ実用化されていないというのが現状
である。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、窒化アルミニウムとの密着性に優れ、
充分な実用強度を示す、新規なメタライズペースト組成
物を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明者は、高融点金属であるタングステン、モリブデ
ンをベースにして、これと、チタン、ジルコニウム、バ
ナジウム、ニオビウム、タンタル、クロム、シリコン、
マンガン、ハフニウム等の金属を組合せた種々のメタラ
イズペースト組成物について比較検討を行ったところ、
ニオビウムを存在させれば、窒化アルミニウム基板上に
緻密で高い密着強度を有するメタライズ層を形成できる
ということを見い出し本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、タングステン(W)及び/又はモ
リブデン(Mo)粉末78〜95重量%、マンガン粉末
(Mn)4〜21重景%重量ニオビウム粉末1〜10重
量%を含有してなる窒化アルミニウム用メタライズペー
スト用組成物である。
以下、さらに詳しく本発明について説明する。
本発明のメタライズペースト組成物を用いる密着強度増
大の作用は、次のように説明することができる。
マンガンとニオビウムは、メタライズ処理温度に加熱さ
れた時、接合界面で窒化アルミニウムと反応し、窒化ニ
オビウムマンガンと思われる化合物及びニオビウム−ア
ルミ合金を生成し、これが強固な結合層を形成する。
また、マンガンとニオビウムは、それぞれ単独でも窒化
アルミニウムと反応し、マンガンはM n 4N、−−
オビウムはNbzN、Aj!Nbzの化合物を生成する
ので、密着性のすぐれたメタライズ層の形成が期待され
るが、しかし、マンガン又はニオビウムを単独でモリブ
デンやタングステンのような高融点金属に配合しても実
用的な密着強度を備えたメタライズ層を形成させること
はできなかった。
すなわち、−例として、モリブデンにマンガンを20重
量%配合したペーストを用いて、水素中、メタライズ処
理温度に加熱した場合、接合界面でマンガンは窒化アル
ミニウムと反応してMrzNを生成するが、このM n
 a Nは、その温度で、M n 4 N  →4 M
 n + % N 、の如く一部が分解してN2を放出
する。このN2が接合界面に空隙を生じさせることにな
り、充分な接合強度を得ることができなくなる。一方、
モリブデンにニオビウムを10重量%配合したペースト
を用いた場合、焼結が不充分となり、ナイフでこすると
簡単に剥れてしまうメタライズ層しか得られない。しが
しながら、マンガンとニオビウムを同時に配合したペー
ストを用いると、不安定なMn4Nは生成せず、接合界
面で空隙をつくらない高密着のメタライズ層を得ること
ができ、しがも、そのメタライズ層は十分に緻密となっ
た。
本発明において、モリブデン及び/又はタングステン、
マンガン及びニオビウムの割合を前記のように限定した
理由は、以上の作用効果を十分に発揮させるためである
すなわち、モリブデン及び/又はタングステンを78〜
95重量%とじたのは、78重量%未満では、ニオビウ
ムとマンガンの総量が22重量%を超えることになり、
難焼結性の反応生成物層の厚みが厚くなって焼結不足に
よる空隙が生じ、小さい密着強度しか得られない。また
、95重量%を超えると、逆に、反応生成物量が少な過
ぎることによる強度低下や、メタライズ層の焼結不足な
どが起こる。
マンガンを4〜21重量%とじたのは、4重量%未満で
は、メタライズ層の焼結が不十分であり、また、21重
量%を超えると接合界面に空隙が生じるようになる。
ニオビウムを1〜10重量%とじたのは、1重量%未満
では密着強度の改善効果はほとんど認められず、また、
10重量%を超えてもその効果は増大せず、斐\總iS
モ嗅ブデシ及卦%叉はヌシヴ気チン*i合か少な東な優
姿メタライズ層の焼結不十分による緻密性が低下するこ
とによる。特に好ましいニオビウムの割合は、マンガン
に対して0.1〜1重量倍量である。
金属粉末の粒径としては、接合面での反応を高めメタラ
イズ層の緻密化を高めるために、できるだけ微粉である
ことが好ましく、具体的には、モリブデンとタングステ
ンについては平均粒径5μ以下、マンガンとニオビウム
については44μ以下であることが望ましい。
以上の金属粉末を用いて、メタライズペーストを調製す
るには、一般のメタライズペーストに用いられている有
機バインダー例えばエチルセルローズやPMMAと共に
、溶剤例えばテレピネオールやトルエンに加えて混合す
ればよい。
配合の一例を示せば、溶剤100容量部に対し、金属粉
末30〜60重量部及び有機バインダー30〜60重量
部である。ペーストの粘度としては20,000〜15
0,000 CP S程度である。
本発明のメタライズペーストの使用法を説明すると、窒
化アルミニウム基板の表面にスクリーン印刷などの方法
でペーストを塗布し乾燥した後、水素雰囲気あるいは窒
素やアルゴン等の不活性雰囲気中で、メタライズ処理温
度に約1時間程度加熱するメタライズ処理温度としては
、1000〜1400℃の範囲が好ましく、特に好適に
は、ニオビウムとマンガンが窒化アルミニウムと活発に
反応し反応生成物の分解が殆んど起らない温度範囲であ
る1150〜1350℃である。以上のようにして得ら
れたメタライズ層に、さらに無電解メッキあるいは電解
メッキなどでニッケルや銅のメッキを施し、ろう付など
の方法で金属体を接合できるような構造にすることもで
きる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を示す。
実施例1 表1に示す組成粉末の全量2gを秤取し、これにPMM
Aを30重重量含むトルエン溶液0.5 cc及びテレ
ピネオールQ、 5 ccを加え、充分に混合して、均
一なペーストを調製した。このペーストをスクリーン印
刷により、21ovAのパターン9ケを251M角、0
.65m厚みの窒化アルミニウム焼結基板に印刷した。
この基板を80℃のオープン中に2時間開いて、ペース
トの乾燥を行ない、50φのアルミナ炉芯管内に置いた
モリブデンチューブ内にセットした後、117 m i
 nの水素を流しなから、メタライズ処理温度1300
℃に昇温し60分間保持した。冷却後、炉内をN2で置
換し、基板を取り出した。次に、このメタライズ層板の
メタライズ部に、無電解ニッケルメッキを施し、0.6
φのスズメッキ銅線を2m”lnメタライズパッドに半
田付けし、L型用っ張りによる、ビール強度の測定を行
なった。
次に、以上と同様にして作製した基板を150℃のオー
ブン中に1週間放置し、ビール強度の測定を行なってエ
ージングによる強度低下の有無を調べた。これらの結果
をまとめて表1に示す。なお、表1の値は9ケの平均値
である。
実験階1〜27は本発明例、実験隘28〜35は比較例
である。
使用したモリブデン粉末の平均粒径は2μ、マンガンと
ニオビウムは44μ以下である。
以下余白 表1 実施例2 実験嵐8のメタライズペースト組成物について、メタラ
イズ処理温度を種々変えたときの結果を表2に示す。
表2 実施例3 実施例1で示した実験隘8の組成について、焼成中の雰
囲気をアルゴンにかえた場合のビール強度は、エージン
グ処理前は4.1 kgf/ 2 :日、エージング処
理後は4.1 kgf/ 2 vXBであった。
実施例4 実施例1の実験階8において、Mo粉末88重量%のか
わりに、W粉末(平均粒径0.75μ)明細書の浄書(
内容に変更なし) 88重量%を用いた。その結果、エージング処理前のビ
ール強度は4.5 kgf/ 2 tmoであり、エー
ジング処理後のそれは4.5 kgf/ 2 m’であ
った。
実施例5 実施例1の実験隘8において、MO粉末のかわりに、M
O粉末(平均粒径2μ)44重量%とW粉末(平均粒径
0.75μ)44重貴簡を用いた。
その結果、エージング処理前のビール強度は4.3kg
f/2+n0であり、エージング処理後のそれは、4、
Okgf/2N0であった。
参考例 市販のPd/Agペーストを、25.4. tm角、0
,651m厚のアルミナ基板にスクリーン印刷によって
、2fi0のパターン9ケを印刷し、乾燥後、空気中、
925℃で焼き付け、0.6φのスズメッキ銅線を2*
:’Bパッドに半田付けした後、ビール強度の測定を行
なった。その結果、エージング処理前は4.1 kgf
72 m1°(83、エージング処理後は2.1kgf
/2t:団であった。
(発明の効果) 本発明によれば、窒化アルミニウム基板に、十分に高い
密着強度をもったメタライズ層を形成させることができ
、しかもそのメタライズ層は緻密となる。
特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正盲動式) 昭和61年12月2日 特許庁長官  黒 1)明 雄 殿 1、事件の表示 昭和61年特許願第210571号 2、発明の名称 窒化アルミニウム用メタライズペースト組成物3、補正
をする者 事件との関係  特許出願人 住所〒100 東京都千代田区有楽町1丁目4番1号 昭和61年11月25日(発送日) 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の棚

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、タングステン及び/又はモリブデン粉末78〜95
    重量%、マンガン粉末4〜21重量%及びニオビウム粉
    末1〜10重量%を含有してなる窒化アルミニウム用メ
    タライズペースト組成物。
JP21057186A 1986-09-09 1986-09-09 窒化アルミニウム用メタライズペースト組成物 Granted JPS6369784A (ja)

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JPH0513112B2 JPH0513112B2 (ja) 1993-02-19

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