JPS6370421A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6370421A JPS6370421A JP61214699A JP21469986A JPS6370421A JP S6370421 A JPS6370421 A JP S6370421A JP 61214699 A JP61214699 A JP 61214699A JP 21469986 A JP21469986 A JP 21469986A JP S6370421 A JPS6370421 A JP S6370421A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment
- exposure
- wavelength
- light source
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の技術分野）
本発明は、エキシマレーザ（Ｅ ｘｃｉｍｅｒ Ｌ
ａｓｅｒ）によってレチクル上のパターンをウェハ上に
露光するようになした露光装置に関する。
ａｓｅｒ）によってレチクル上のパターンをウェハ上に
露光するようになした露光装置に関する。
（発明の背景）
近年、パルスレーザの一種であるエキシマレーザを露光
光源として用いた露光装置が提案されている。
光源として用いた露光装置が提案されている。
これらの露光装置は、レチクルの位置合せマークとウェ
ハの位置合せマークとを光電的に検出して位置合せを行
なった後、レチクル上のパターンをエキシマレーザによ
ってウェハ上に露光するようになしたものである。
ハの位置合せマークとを光電的に検出して位置合せを行
なった後、レチクル上のパターンをエキシマレーザによ
ってウェハ上に露光するようになしたものである。
そして、露光に先立って行なわれる位置合せの手法とし
て、エキシマレーザを位置合せのための光源としても用
い、エキシマレーザからのパルス波に同期して位置合せ
を行なう手法又は、エキシマレーザとは異なった波長の
光を射出する光源を用いて位置合せを行なう手法、が提
案されている。
て、エキシマレーザを位置合せのための光源としても用
い、エキシマレーザからのパルス波に同期して位置合せ
を行なう手法又は、エキシマレーザとは異なった波長の
光を射出する光源を用いて位置合せを行なう手法、が提
案されている。
しかして、前者は露光と位置合せに同じ光源を用いるた
め、露光光源としてのエキシマレーザの寿命が短くなる
という欠点があり、後者は露光波長と位置合せ波長とが
異なるため、投影レンズの色収差補正を行なったとして
も、ディストーションマツプが２波長で異なり、レンズ
ディストーションが位置合せのオフセットとして乗って
しまうので位置合せ精度が低下する、という欠点があっ
た。
め、露光光源としてのエキシマレーザの寿命が短くなる
という欠点があり、後者は露光波長と位置合せ波長とが
異なるため、投影レンズの色収差補正を行なったとして
も、ディストーションマツプが２波長で異なり、レンズ
ディストーションが位置合せのオフセットとして乗って
しまうので位置合せ精度が低下する、という欠点があっ
た。
（発明の目的）
本発明はこれらの欠点を解決し、露光光源の寿命を延ば
し、安価で位置合せ精度の良い露光装置、を得ることを
目的とする。
し、安価で位置合せ精度の良い露光装置、を得ることを
目的とする。
（発明の概要）
本発明は、レチクルの位置合せマークとウェハの位置合
せマークとを光電的に検出し７て位置合せを行なった後
、前記レチクル上のパターンをエキシマレーザによって
前記ウェハ上に露光するようになした露光装置において
、前記位置合せのための光源として前記エキシマレーザ
による露光波長にほぼ等しい波長を有する連続発光光源
を使用することを特徴とする露光装置であり、前記連続
発光光源を低圧水銀灯にすることでより良い実施態様が
得られる。
せマークとを光電的に検出し７て位置合せを行なった後
、前記レチクル上のパターンをエキシマレーザによって
前記ウェハ上に露光するようになした露光装置において
、前記位置合せのための光源として前記エキシマレーザ
による露光波長にほぼ等しい波長を有する連続発光光源
を使用することを特徴とする露光装置であり、前記連続
発光光源を低圧水銀灯にすることでより良い実施態様が
得られる。
（実施例）
第１図は本発明の実施例であってレーザ制御装置１５に
よって制御されたエキシマレーザ１４からのパルス波は
発散レンズ１３によって適当な大きさに広げられ、対物
レンズ１２によってインテグレタ−１１に導びかれる。
よって制御されたエキシマレーザ１４からのパルス波は
発散レンズ１３によって適当な大きさに広げられ、対物
レンズ１２によってインテグレタ−１１に導びかれる。
インテグレタ−１１で均一な照明光となり、ミラー１０
によって晃路を変えられ、コンデンサーレンズ９により
、レチクル８を背後から照明する構成となっている。レ
チクル８のパターンは投影レンズ７によってウェハ６上
に投影される。制御装置１は干渉計２で計測したステー
ジ４の位置をモニターしつつ駆動装置３に制御信号を送
ってステージ４を移動させ、ステップアンドリピートを
繰返し、またステージの動作に同期させてレーザ制御装
置１５にエキシマレーザ１４の駆動指令を入力せしめエ
キシマレーザ１４を発光させることによってウェハ６上
にレチクル８上の同一のパターンを焼付ける構成である
。さらにレチクル８上の位置合せマーク（レチクルマー
ク）２０とステージ４上の標準マーク５及びウェハ６上
の位置合せマーク（ウェハマーク）２６の位置合せを行
う為に、位置合せ用光源としての低圧水銀灯１７からの
照明光は光ファイバ１６を通ってフィルタ２７によって
露光波長に近傍の波長（はぼ等しい波長）のみが選択さ
れる。
によって晃路を変えられ、コンデンサーレンズ９により
、レチクル８を背後から照明する構成となっている。レ
チクル８のパターンは投影レンズ７によってウェハ６上
に投影される。制御装置１は干渉計２で計測したステー
ジ４の位置をモニターしつつ駆動装置３に制御信号を送
ってステージ４を移動させ、ステップアンドリピートを
繰返し、またステージの動作に同期させてレーザ制御装
置１５にエキシマレーザ１４の駆動指令を入力せしめエ
キシマレーザ１４を発光させることによってウェハ６上
にレチクル８上の同一のパターンを焼付ける構成である
。さらにレチクル８上の位置合せマーク（レチクルマー
ク）２０とステージ４上の標準マーク５及びウェハ６上
の位置合せマーク（ウェハマーク）２６の位置合せを行
う為に、位置合せ用光源としての低圧水銀灯１７からの
照明光は光ファイバ１６を通ってフィルタ２７によって
露光波長に近傍の波長（はぼ等しい波長）のみが選択さ
れる。
フィルタ２７で選択された光は、対物レンズ２４、ハー
フミラ−２３，２２を通り、ミラー２１によってレチク
ルマーク２０を照明する。この照明によってステージ４
上の標準マーク５及びウェハマーク２６も投影レンズ７
を介して照明され、それらマークからの戻り光は投影レ
ンズ７、レチクル８、ミラー２１、対物レンズ２２を通
ってハーフミラ−２３によって反射され、レンズ２５を
通り、ＩＴＶカメラ１８の撮像面に結像する。その結果
、周知のように第２図（ｂ）の様な映像信号が得られ、
第２図（ａ）に示した２つのレチクルマーク２０と標準
マーク５もしくはウェハマーク２６の位置ずれ量 を位置合せ処理装置１９によって時間に変換して計測し
、その結果を制御装置１に送って駆動装置３にフィード
バックして位置ずれ量を零にすれば位置合せが終了する
。なお、上述の位置ずれ量を表わす式中のＲＲは基準位
置から右側のレチクルマークＲＲのほぼ中心までの距離
、ＲＬは基準位置から左側のレチクルマークＲＬのほぼ
中心まで左右のレチクルマークＲＲ，ＲＬの中心までの
距離を示す。
フミラ−２３，２２を通り、ミラー２１によってレチク
ルマーク２０を照明する。この照明によってステージ４
上の標準マーク５及びウェハマーク２６も投影レンズ７
を介して照明され、それらマークからの戻り光は投影レ
ンズ７、レチクル８、ミラー２１、対物レンズ２２を通
ってハーフミラ−２３によって反射され、レンズ２５を
通り、ＩＴＶカメラ１８の撮像面に結像する。その結果
、周知のように第２図（ｂ）の様な映像信号が得られ、
第２図（ａ）に示した２つのレチクルマーク２０と標準
マーク５もしくはウェハマーク２６の位置ずれ量 を位置合せ処理装置１９によって時間に変換して計測し
、その結果を制御装置１に送って駆動装置３にフィード
バックして位置ずれ量を零にすれば位置合せが終了する
。なお、上述の位置ずれ量を表わす式中のＲＲは基準位
置から右側のレチクルマークＲＲのほぼ中心までの距離
、ＲＬは基準位置から左側のレチクルマークＲＬのほぼ
中心まで左右のレチクルマークＲＲ，ＲＬの中心までの
距離を示す。
また同じ＜ＷＲは基準位置からウェハマークＷの右側の
エツジまでの距離であり、ＷＬは基準位置からウェハマ
ークＷの左側のエツジまでの距離ハマークＷの中心まで
の距離になる。従って、位左右のレチクルマークＲＲ，
ＲＬの中心とウェハマークＷの中心とのずれ量を表わす
ことになる。
エツジまでの距離であり、ＷＬは基準位置からウェハマ
ークＷの左側のエツジまでの距離ハマークＷの中心まで
の距離になる。従って、位左右のレチクルマークＲＲ，
ＲＬの中心とウェハマークＷの中心とのずれ量を表わす
ことになる。
この様な構造であるから、エキシマレーザ１４は露光の
みに使用すればよく、その寿命を伸ばすことが可能であ
り、また露光波長近傍の光を位置合せ波長として用いて
いるので、レンズディストーションの相異や、フォーカ
スずれをおこすことがない精度の高い位置合せを行うこ
とができるという利点がある。
みに使用すればよく、その寿命を伸ばすことが可能であ
り、また露光波長近傍の光を位置合せ波長として用いて
いるので、レンズディストーションの相異や、フォーカ
スずれをおこすことがない精度の高い位置合せを行うこ
とができるという利点がある。
位置合せはレチクルマーク幅ＲＲ−ＲＬ （ＲＲとＲＬ
の間の長さ）を設計値としてサンプリング値をミクロン
単位で計算する。すなわち、レチクルマーク幅がＡポイ
ントで表わされた時、１ポイント当りの長さ±Ｂ（μｍ
／ポイント）を求め、ポイントで求めたずれ量にＢを掛
けて、ずれ量をμｍ単位で求めることができる。位置合
せは（ＲＲ＋ＲＬ）／２− （Ｗｔ、＋ｗＲ）／２が位
置合せのずれ量として制御装置１に報告される。
の間の長さ）を設計値としてサンプリング値をミクロン
単位で計算する。すなわち、レチクルマーク幅がＡポイ
ントで表わされた時、１ポイント当りの長さ±Ｂ（μｍ
／ポイント）を求め、ポイントで求めたずれ量にＢを掛
けて、ずれ量をμｍ単位で求めることができる。位置合
せは（ＲＲ＋ＲＬ）／２− （Ｗｔ、＋ｗＲ）／２が位
置合せのずれ量として制御装置１に報告される。
（発明の効果）
以上のように本発明によればエキシマレーザを位置合せ
に使用しないので、同レーザの寿命を伸ばずごとができ
るという利点があるのみならず、同レーザのパルス制御
も露光のみに対応すればよいので、その構成が簡単にな
るという効果が期待できる。さらに位置合せ波長が露光
波長と異なる場合、精度が悪化するだけでなく、投影レ
ンズも両波長に対して透過するような複雑な構造をして
いなければならないが、露光波長と近傍の波長（はぼ等
しい波長）を位置合せ波長として用いれば、精度が高く
、投影レンズも簡単な構造のものを使用することができ
る。さらに本発明で位置合せヲ行なう前に、エキシマレ
ーザで位置合せマークを照射し、レジストをあらかじめ
感光させておけば、位置合せ時にレジストが感光してそ
の屈折率が変化し、位置合せ波形が変化する為の感光待
ち時間が必要なくなるので、位置合せ時間が短縮できる
という理由で有効である。
に使用しないので、同レーザの寿命を伸ばずごとができ
るという利点があるのみならず、同レーザのパルス制御
も露光のみに対応すればよいので、その構成が簡単にな
るという効果が期待できる。さらに位置合せ波長が露光
波長と異なる場合、精度が悪化するだけでなく、投影レ
ンズも両波長に対して透過するような複雑な構造をして
いなければならないが、露光波長と近傍の波長（はぼ等
しい波長）を位置合せ波長として用いれば、精度が高く
、投影レンズも簡単な構造のものを使用することができ
る。さらに本発明で位置合せヲ行なう前に、エキシマレ
ーザで位置合せマークを照射し、レジストをあらかじめ
感光させておけば、位置合せ時にレジストが感光してそ
の屈折率が変化し、位置合せ波形が変化する為の感光待
ち時間が必要なくなるので、位置合せ時間が短縮できる
という理由で有効である。
第１図は本発明の実施例を示すブロック図、第２図はＩ
ＴＶカメラの撮像面におけるレチクルマークとウェハマ
ークの重なり具合（ａ）と、ＩＴ■カメラの一走査線か
ら得られる信号波形（ｂ）を対応させて示す図、である
。 （主要部分の符号の説明）
ＴＶカメラの撮像面におけるレチクルマークとウェハマ
ークの重なり具合（ａ）と、ＩＴ■カメラの一走査線か
ら得られる信号波形（ｂ）を対応させて示す図、である
。 （主要部分の符号の説明）
Claims (2)
- （１）レチクルの位置合せマークとウェハの位置合せマ
ークとを光電的に検出して位置合せを行なった後、前記
レチクル上のパターンをエキシマレーザによって前記ウ
ェハ上に露光するようになした露光装置において、 前記位置合せのための光源として前記エキシマレーザに
よる露光波長にほぼ等しい波長を有する連続発光光源を
使用することを特徴とする露光装置。 - （２）前記連続発光光源は低圧水銀灯であることを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61214699A JPS6370421A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61214699A JPS6370421A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370421A true JPS6370421A (ja) | 1988-03-30 |
Family
ID=16660138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61214699A Pending JPS6370421A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6370421A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552891A (en) * | 1994-10-31 | 1996-09-03 | International Business Machines Corporation | Automated mask alignment for UV projection expose system |
| JP2008062790A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Sanden Corp | 車両用空調装置 |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP61214699A patent/JPS6370421A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5552891A (en) * | 1994-10-31 | 1996-09-03 | International Business Machines Corporation | Automated mask alignment for UV projection expose system |
| US5569570A (en) * | 1994-10-31 | 1996-10-29 | International Business Machines Corporation | Automated mask alignment for UV projection exposure system |
| JP2008062790A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Sanden Corp | 車両用空調装置 |
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