JPS6376113A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ディスクの製造方法に関し、特にプレー
トを使用して、そのプレートとの距離と傾きとの：Ａ！
１により、膜厚を制御するような磁気ディスクの製造方
法に関する。

〔従来の技術〕

従来より、磁気ディスク媒体の磁性薄膜を両面同時に塗
布するための設備として、垂直塗布装置が知られている
。

一方、磁気ディスク装置に対する最近の要求としては、
大容量化と小型化という互いに相反する要求がある。こ
の対策として、近年では薄膜ヘッドが注目をあびており
、この薄膜ヘッドを使用する際に、磁気ディスクとして
は磁性膜の均一化が必須の条件となる。

従来の磁気ディスクの製造方法は、例えば、特開昭５２
−６９６０３号公報に記載されているように、磁性塗料
を塗布する円板と平行で、円板と同軸の回転する円板プ
レートを取り付けていた。

この円板プレートは、コーティングすべき支持板の上方
の僅かな間隔を介して配置されており、このプレートに
より支持板上に空気力学上の境界層が形成される。この
境界層内では、空気が支持板とともに回転し、かつ支持
板に対してほぼ不動である。すなわち、支持板表面全体
にわたって分布する磁気分散物に均一な薄膜厚と、表面
に関して有害な作用を及ぼす空気流が起らないと記載さ
れている。

しかし、上記公報記載の方法では、円板上に塗布された
磁性膜の膜厚は変えられるが、内外周膜厚差は減少でき
ないという問題がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このように、従来の製造方法では、円板を回転させなが
ら磁性材料を塗布するので、遠心力により外周に材料が
移動してしまい、磁性膜の膜厚が内周と外周とで異なる
。その結果、内外周では分解能等の電気特性に差が生じ
ていた。また、近年、薄膜ヘッドを磁気ディスク装置に
搭載する予定であり、これを実現するためには、非磁性
円板上の磁性膜を薄くするのみでなく、内外周膜厚差を
減少させることが必要である。

内外周膜厚差を減少させる方法としては、（ａ）塗布に
より減少させる方法と、（ｂ）加工により減少させる方
法とがある。すなわち、（、）では塗布する際に膜厚差
がなくなるように工夫するものであり、（ｂ）では塗布
して乾燥した後、厚さの大きい場所を削り取るものであ
る。しかし、（ｂ）の加工による方法では、内周から外
周にかけての加工量の設定が困難であり、さらに、乾燥
して固くなった後に削り取るので、作業量は多くなる反
面。

精度は低下する。従って、（ａ）の塗布工程において内
外周膜厚差を減少させる方法が有利である。

本発明の目的は、このような問題を解決し、非磁性板に
磁性塗料を塗布した際に、磁性膜の内外周膜厚差を減少
させ、均一膜厚化を図ることができる磁気ディスクの製
造方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明による磁気ディスクの
製造方法は、磁性塗料を非磁性円板の両面に塗布して、
該非磁性円板上に磁性膜を形成するための磁気ディスク
の製造方法において、該非磁性円板に相対して２対の半
円状のプレートを設け、該プレートと該非磁性円板との
距離、および該プレートの該非磁性円板に対する傾きの
一方ないし両方を可変にすることに特徴がある。

〔作　　用〕

本発明においては、磁性塗料を塗布する円板に対して、
距離と傾きとが可変である２対の半円状プレートを取り
付けることにより、磁性膜の内外周膜厚差を減少させる
。塗布工程は、磁性塗料を非磁性円板に塗布し、塗布後
に円板を高速で回転させることにより、円板上の磁性塗
料を振り切り、磁性膜を形成させるものである。塗布工
程中に磁性膜の内外周膜厚差を減少させるには、磁性塗
料の振り切り中に、円板周辺の気流の量および流れ方を
変えることが有効である。本発明における２対の半円状
プレートは、円板に対して距離と傾きとを可変にするこ
とにより、回転している円板とプレートとの間の気流を
変化させることができる。

塗布工程終了時の磁性膜の膜厚は、円板に塗布した磁性
塗料の振り切りの際の円板周辺の気流により変化する。

従って、このプレートを取り付けることにより、磁性膜
の膜厚が変化して、磁性膜の内外周膜厚差を減少させる
ことができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を、図面により詳細に説明する。

第１図は、本発明の一実施例を示す塗布装置の塗布部の
概略図であり、第４図は第１図の部材の詳細図である。

第１図において、■、１′が本発明により取り付けられ
た２対の円板状プレート、２は塗料が振り切られて飛ん
だ時に、傾斜辺を伝わって流れるようにした外チャンバ
ー、３は内部に回転円板を取り付けた内チヤンバ−，４
は非磁性円板、５はスリット、６はプレート１の傾き角
度、７はプレート１と円板４との距離、８はノズルを固
定して、円板４に接近したり、離れたり移動が可能なノ
ズルブロック、９は磁性塗料を噴射するノズルである。

内チヤンバ−２の中央部には、回転軸に取り付けられた
非磁性円板４がｔｉされ、非磁性円板４の上側と下側の
両方には、所定の間隔７を置いてプレート１，１′が１
つの回転軸に取り付けられて配置される。第４図（、）
は非磁性円板４とプレート１の間隔を示したもので、例
えば８ｍｍの間隔で円板４とプレート１ａを平行に配置
するか、あるいはある角度を持ってプレート１ｂを配置
する。第４図（ｂ）はプレート１の平面図であり、上側
の半円状プレート１と下側の半円状プレート１′が僅か
の間隔を置いて円を形成している。中央部に見える部材
は、非磁性円板４の回転軸である。

下側のプレート１′には、切り込みが設けられており、
ここからノズル９が非磁性円板４上に磁性材料を噴射す
る。第４図（ｃ）は非磁性円板４の平面図であり、ノズ
ル９からの噴射により外周から内周に向って磁性塗料が
塗布されるが、円板４の回転により内周から外周に向っ
て塗料が振り切られる。第４図（ｄ）は第１図では図示
省略されている上下プレート１，１′の回転軸と取り付
は具の構造図である。プレート１，１′は、半円状に上
下に分割されているため、それぞれに取り付は具で１本
の回転軸に取り付けら九る。上下プレート１．１′は、
非磁性円板４の回転とは非同期で回転されるか、または
同期して回転される。

塗布工程は、先ず、非磁性円板４に塗料を塗布する。こ
の場合には、ノズルブロック８が非磁性円板４に接近す
る。次に、ノズル９の先端はプレート１′の切り込みを
介して円板４に面しており、そのとき円板４上の外周に
あるが、塗料の噴射開始とともに塗料を吐出しながら内
周に移動して。

塗料を非磁性円板４に塗布する。さ°らに、円板４を回
転軸で高速に回転させることにより、塗料を振り切る。

この際に１円板４から振り切られた塗料は、スリット５
を抜けて外チャンバー２に入り、外チャンバー２から外
部に排出される。

本実施例では、このような塗布工程中、第１図に示すよ
うに、内チヤンバ−３内に２対の半円状プレートｌ、１
’　を取り付け、これらのプレート１．１′と円板４と
の距離７．およびプレートの傾き角度６を変化させるこ
とにより、非磁性円板４に塗布された塗料の膜厚を制御
する。第１図の矢印で示すように、円板４の回転軸とプ
レート１゜１′との間隙から気流が流れ込み、内周部分
の乾燥を早めて、円板４の回転により内周の塗料が外周
に振り切られて移動しないようにする。その場合に、プ
レート１，１′の回転を円板４の回転と同期させたり、
非同期にさせたりして内外周膜厚差が減少する方を選択
する。

第２図は、本発明におけるプレートの傾斜角度６と塗布
膜厚との関係曲線図である。

第２図では、縦軸に塗布膜厚を、横軸にディスク半径を
、それぞれ示す。１は円板４に対する角度が７５°、２
は同じ＜９０’、３は同じく１１５゜である、ここでは
、角度の小さい方が内外周の膜厚差が小さいので、１の
曲線（７５°の傾斜）を選択して、さらに円板４とプレ
ート１，１′との距離や、プレートＩ、ビの回転を円板
４の回転と同期するか、非同期にするか等を選択して、
内外周膜厚差がゼロになるように調整する。

第３図は、本発明におけるプレートと円板との距ＪＩ１
６と塗布膜厚との関係を示す図である。

第３図では、縦軸に塗布膜厚を、横軸にディスク半径位
置を、それぞれとっている０図中の１゜２．３はそれぞ
れ円板４に対してプレート１，１′が近い距Ｍ（ｎえば
８ｍｍ）、中間の距１１ｔ　（１５ａｍ）、遠い距１１
（２５ｍ　ｍ）に設置された場合のディスク半径位置の
各膜厚値である。ディスク半径は左側が内周、右側が外
周であり、円板４が回転することにより、振り切られる
ため、外周の方に塗料が移動して、外周の方が内周に比
べて膜厚は大きくなる。第２図では、■の曲線（円板４
から距離が最も近いとき）が最も内外周の膜厚差が小さ
いので、この距離を選択し、さらにプレート１，１′の
回転を同期または非同期にしたり、プレートの傾斜角度
を変化させたりして、膜厚差をゼロにすることが望まし
い。

このように、プレート１．ビと円板４との距１１６、お
よびプレート１，１′の傾斜角度７を両方類変化させる
ことにより、内周から外周にかけて磁性膜の膜厚分布が
変化する。

本実施例においては、プレート１．ビを取り付けること
により、円板４の両面の磁性膜の膜厚差を減少すること
ができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、２対の半円状プ
レートを取り付けて１円板に対する距離と傾きを変化さ
せることにより、円板上に塗布した磁性膜の内外周膜厚
差を減少することができるので、内周および外周におけ
る電気特性等を向上させることが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す塗布装置の塗布部の概
略図、第２図は本発明のプレートの傾きと塗布膜厚との
関係図、第３図は本発明のプレートと円板との距離に対
する塗布膜厚の関係図、第４図は第１図の各部品の詳細
図である。 １ニブレート、２：外チャンバー、３：内チヤンバ−，
４：非磁性円板、５ニスリツト、６：プレートの傾き角
度、７：プレートの円板との距離、８：ノズルブロック
、９：ノズル。 第　　　　　１　　　　　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁性塗料を非磁性円板の両面に塗布して、該非磁性
   円板上に磁性膜を形成するための磁気ディスクの製造方
   法において、該非磁性円板に相対して２対の半円状のプ
   レートを設け、該プレートと該非磁性円板との距離、お
   よび該プレートの該非磁性円板に対する傾きの一方ない
   し両方を可変にすることを特徴とする磁気ディスクの製
   造方法。 ２、上記２対の半円状のプレートは、非磁性円板の回転
   と同期して、あるいは非同期で回転することを特徴とす
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスクの製造方法
   。