JPS6380221A - Light irradiating device - Google Patents
Light irradiating deviceInfo
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- JPS6380221A JPS6380221A JP22455986A JP22455986A JPS6380221A JP S6380221 A JPS6380221 A JP S6380221A JP 22455986 A JP22455986 A JP 22455986A JP 22455986 A JP22455986 A JP 22455986A JP S6380221 A JPS6380221 A JP S6380221A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、分割光を得るための光照射装置に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a light irradiation device for obtaining split light.
本発明は、分割光を得るための光照射装置であり、2個
の三角プリズムを有する光学系を用いて光を4分割する
ことによシ、方形状の光を得ることができるようにした
ものである。The present invention is a light irradiation device for obtaining divided light, and by dividing the light into four using an optical system having two triangular prisms, square light can be obtained. It is something.
例えば、フラットパッケージIC(FPIC)などの半
田付けを行う際、半田を溶融させるためのエネルギーと
してレーザビームを使用している。従来このレーザビー
ムの照射方法として、例えば第13図に示すように、レ
ーザ発振器から射出した円形のレーザビーム(1)をI
Cチップの半田付けを行うべき部分に沿って移動させる
方法、第14図に示すように、マスクプレート(2)に
よシ円形のレーザビーム(1)を矩形(長方形)ビーム
(3)に変形して照射する方法がある。For example, when soldering a flat package IC (FPIC) or the like, a laser beam is used as energy to melt the solder. Conventionally, as a method of irradiating this laser beam, for example, as shown in FIG. 13, a circular laser beam (1) emitted from a laser oscillator is
How to move the C-chip along the part to be soldered, as shown in Figure 14, transform the circular laser beam (1) into a rectangular (rectangular) beam (3) using the mask plate (2). There is a method to irradiate it.
上述の円形状ビームを移動させて照射する方法によれば
、(1)加工時間が長くかかつて生産性が低い、(11
)照射しながら移動させる機構が必要である、(iii
)条件出しのノ々ラメータ(出力、移動速度など)が多
い、(iv)2箇所を同時に照射する場合、出力源で分
光するため光コアイノ々が2本必要となる、(V)以上
によシ、経費が嵩む、などの欠点がある。また、マスク
プレートを使って矩形ビームに変形する方法によれば、
(1)エネルギーの損失が大きい、(tnマスクプレー
トが熱せられるため、冷却する必要がある、(iii)
マスクプレート分の大きさをとられて、スイース的に不
利である、(1■)エネルギー密度が一定ではない、な
どの問題点を有している。According to the above-mentioned method of moving and irradiating with a circular beam, (1) processing time is long and productivity is low;
) requires a mechanism to move while irradiating; (iii
) There are many parameters for setting conditions (output, moving speed, etc.), (iv) When irradiating two locations at the same time, two optical cores are required to separate the light using the output source. (V) Based on the above, There are disadvantages such as high cost and high costs. Also, according to the method of transforming into a rectangular beam using a mask plate,
(1) Large energy loss (tn mask plate is heated and needs to be cooled) (iii)
It has problems such as the size of the mask plate is required, which is disadvantageous in terms of sweep, and (1) the energy density is not constant.
本発明は、上記問題点を解決することができる光照射装
置を提供するものである。The present invention provides a light irradiation device that can solve the above problems.
本発明に係る光照射装置αυにおいては、光学系中に第
1と第2の三角プリズムαe、aηを配して楕円形又は
円形の入射光(1)を4分割することによシ、方形状の
光(ビーム) (lj)に変換する。In the light irradiation device αυ according to the present invention, the first and second triangular prisms αe and aη are arranged in the optical system to divide the elliptical or circular incident light (1) into four parts. Convert into a beam of shape (lj).
本発明によれば、先ず第1の三角プリズム(161によ
シ楕円形状(長方形のビーム(1j)を作るためであり
、正方形のビーム(1j)を作るためには円形ビーム(
1)を使用する)のビーム(lb)を短軸方向に分割し
、この分割された半分の楕円状ビーム(ld)。According to the present invention, first, the first triangular prism (161) is used to create an elliptical (rectangular beam (1j)), and to create a square beam (1j), it is used to create a circular beam (1j).
1) The beam (lb) of 1) is divided in the minor axis direction, and this divided half becomes an elliptical beam (ld).
(le)を長軸方向に沿って!いに移動させて重ね合わ
せた後(重ね合わせる途中の状態でも良い)、この重ね
合わせた半分の楕円状ビーム(ld) 、 (le)を
第2の三角プリズム(Iηにより更に長軸方向に分割し
、このように1/4に分割されて長軸方向に重ね合わさ
れ九ビーム(If) 、 (Ig)と(lh)、(li
)を短軸方向く沿って移動して重ね合わせることによシ
長方形状のビーム(1j)を作製することが可能になる
。即ち、楕円(又は円)ビーム(1b)を中心から90
0毎に直線で4分割し、分割されたビーム(If)。(le) along the long axis direction! After moving the elliptical beams (ld) and (le) to the second triangular prism (Iη), the two halves of the elliptical beams (ld) and (le) are further divided in the major axis direction by a second triangular prism (Iη). In this way, it is divided into 1/4 and superimposed in the long axis direction to form nine beams (If), (Ig), (lh), (li
) by moving along the short axis direction and overlapping them, it becomes possible to produce a rectangular beam (1j). That is, the elliptical (or circular) beam (1b) is 90 degrees from the center.
The divided beam (If) is divided into four by a straight line every 0.
(Ig) 、 (lh) 、 (li)を中心方向にそ
れぞれ移動させて重ならせることによシ、分割で生じた
楕円ビーム(1b)の直線部分が直方形の外形線となる
ため、精度が良く、シャープな方形状ビーム(1j)を
作製することができる。By moving (Ig), (lh), and (li) toward the center and overlapping each other, the straight line part of the elliptical beam (1b) created by the division becomes a rectangular rectangular outline, which improves accuracy. It is possible to produce a sharp rectangular beam (1j).
図面を参照して本発明の詳細な説明する。 The present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1図は、l実施例に係る光照射装置αVの斜視図を示
す。本光照射装置αυにおいては、レーザ発振器(図示
せず)から導いた光コアイノ9α2の下にコリメータレ
ンズC13を配し、この下に順番にシリンドリカル凹レ
ンズα着、シリンドリカル凸レンズaり、第1の三角プ
リズム(Le及びこの第1の三角プリズム(Ieの稜と
直交する方向に稜を配した第2の三角プリズム卸を一直
線状に配置することにより構成する。FIG. 1 shows a perspective view of a light irradiation device αV according to the first embodiment. In this light irradiation device αυ, a collimator lens C13 is arranged below the optical core 9α2 guided from a laser oscillator (not shown), and below this, in order, a cylindrical concave lens α, a cylindrical convex lens a, and a first triangular lens are arranged. It is constructed by arranging in a straight line a prism (Le) and a second triangular prism whose edges are arranged in a direction perpendicular to the edges of the first triangular prism (Ie).
次に第2図〜第6図も参照して、上記光照射装置αυの
作用を説明する。第2図は本装置αυを構成する光学系
の側面図、第3図A−Cは、第2図の側面図の対応する
位置におけるエネルギー密度を示すビーム(1)の側面
図である。第4図は、第2図の側面図の対応する位置に
おけるビーム(1)の平面図である。そして、第5図は
光学系の正面図、第6図A、Cは第5図の正面図の対応
する位置におけるエネルギー密度を示すビーム(1)の
正面図である。先ず、光ファイノ苛(I21から射出さ
れたレーザビーム(1)は、第4図AK示すように放射
状に拡がシ、第3図Aと第6図Aに示すように急峻なガ
ウス型エネルギー分布を有している。そして、このビー
ム(1)をコリメータレンズCI3を透過させることに
よシ、第4図BK示すように断面が円形の平行ビーム(
1a)とする。次に、この平行ビーム(la) ヲシリ
ンドリカル凹レンズα4に入射させて、第4図Cに示す
ように一方向のみの幅を拡げて楕円ビーム(1b)を形
成する。このように楕円ビーム(1b)とすることによ
シ、第3図Bと第6図Bに示すように緩やかなガウス型
エネルギー分布を示す11次にこの放射状に拡がった楕
円ビーム(1b)を、楕円ビーム(lb)の軸上に配さ
れたシリンドリカル凸レンズO9に入射させて平行な楕
円ビーム(1c)を形成する。次に、この平行な楕円ビ
ーム(1c)を第1の三角プリズム霞に入射させて、楕
円ビーム(lc)を短軸方向に沿って2分割し、2分割
された半分の楕円ビーム(1d) 、 (le)を合成
すべき角度に屈折させる。第4図りは、このように2分
割された半分の楕円ビーム(ld) 、 (le)が長
軸方向に沿って互いに重なシ合っていく途中の状態を示
す。そして、この2分割され、且つ合成途中のビーム(
ld) 、 (le)を第2の三角プリズムαηに入射
させて、合成途中の半分の楕円(ld) 、 (le)
を第1のプリズム(151とは逆に長軸方向に沿って更
に2分割することにより、合計4分割されたビーム(i
f)、 (Ig) 、 (lh) 、 (li)を形成
し、この第2のプリズム(lkで分割された分のビーム
(if)、 (Ig)と(lh) 、 (li)を短軸
方向に沿って互いに重なり合うように屈折させる。即ち
、第4図EK示すように、第4図Cの楕円ビーム(1b
)を4分割した後、4分割されたビーム(lf) 、
(Ig) 。Next, the operation of the light irradiation device αυ will be explained with reference to FIGS. 2 to 6. FIG. 2 is a side view of the optical system constituting the apparatus αυ, and FIGS. 3A to 3C are side views of the beam (1) showing the energy density at positions corresponding to the side view of FIG. FIG. 4 is a plan view of the beam (1) at a position corresponding to the side view of FIG. 2; 5 is a front view of the optical system, and FIGS. 6A and 6C are front views of the beam (1) showing the energy density at corresponding positions in the front view of FIG. First, the laser beam (1) emitted from the optical fiber (I21) spreads radially as shown in Fig. 4 AK, and has a steep Gaussian energy distribution as shown in Fig. 3 A and Fig. 6 A. By passing this beam (1) through the collimator lens CI3, it becomes a parallel beam (1) with a circular cross section as shown in FIG.
1a). Next, this parallel beam (la) is made incident on the cylindrical concave lens α4, and as shown in FIG. 4C, the width is expanded in only one direction to form an elliptical beam (1b). By forming the elliptical beam (1b) in this way, this radially expanded elliptical beam (1b) of 11 degrees exhibiting a gentle Gaussian energy distribution as shown in Figures 3B and 6B can be created. , to form a parallel elliptical beam (1c) by making it incident on a cylindrical convex lens O9 arranged on the axis of the elliptical beam (lb). Next, this parallel elliptical beam (1c) is made incident on the first triangular prism haze, and the elliptical beam (lc) is divided into two along the minor axis direction, resulting in a half elliptical beam (1d). , (le) is refracted to the angle to be synthesized. The fourth diagram shows a state in which the halves of the elliptical beams (ld) and (le) thus divided into two are in the process of overlapping each other along the major axis direction. Then, this beam that has been divided into two and is in the process of being combined (
ld), (le) are incident on the second triangular prism αη, and half of the ellipse (ld), (le) is synthesized.
By further dividing the beam into two along the major axis direction, contrary to the first prism (151), a total of four divided beams (i
f), (Ig), (lh), (li), and this second prism (lk) forms the beam (if), (Ig), (lh), (li) with the short axis In other words, as shown in FIG. 4EK, the elliptical beam (1b
) is divided into four, and the four divided beams (lf),
(Ig).
(lh) 、 (1i)を、分割に係る線が長方形の外
形線を形成するまでそれぞれ中心方向に移動させる。そ
して、レーザ加工面αaにおいては第4図PK示すよう
に、長方形のレーザビーム(1j)が得られる。(lh) and (1i) are each moved toward the center until the dividing line forms a rectangular outline. At the laser processing surface αa, a rectangular laser beam (1j) is obtained as shown in FIG. 4PK.
この長方形のレーザビーム(lj)の側面からのエネル
ギー密度分布を第3図CIC示し、正面からのエネルギ
ー密度分布を第3図CICす。そして、第7図にこのエ
ネルギー密度分布の立体図を示す。FIG. 3 CIC shows the energy density distribution from the side of this rectangular laser beam (lj), and FIG. 3 CIC shows the energy density distribution from the front. FIG. 7 shows a three-dimensional diagram of this energy density distribution.
このように本発明によシ得られた長方形状レーザビーム
(lj)は、エネルギー密度分布の上面が平坦になって
いることかられかる通シ、エネルギー密度が長方形の領
域の全ての位置で等しく表っている。なお、長方形ビー
ム(lj)の縦横の比を変えることは、シリンドリカル
レンズα4.(151の曲率を変えるととくより可能で
ある。As described above, the rectangular laser beam (lj) obtained according to the present invention has a flat upper surface of the energy density distribution, so that the energy density is equal at all positions in the rectangular region. It's showing. Note that the aspect ratio of the rectangular beam (lj) can be changed using a cylindrical lens α4. (It is especially possible to change the curvature of 151.
次に、第8図と第9図を参照して、本発明をフラットパ
ッケージIC(FPIC)(2υの半田付ffK適用し
た場合の1実施例を示す。本装置αDにおいては、先ず
コリメータ(図示せず)で平行にしたレーザビーム(1
a)をシリンドリカル凹しン1(14で楕円状ビーム(
lb)K変形し、次にシリンドリカル凸レンズaSで平
行楕円状ビーム(IC)とした後、ハーフミラ−のを使
用して透過ビーム(lk)と反射ビーム(11) K分
光し、反射ビーム(lffi)は全反射ミラーCI!3
によって9d3屈折させる。そして両ビーム(lk)
、 (lffi)を上記実施例と同様に第1の三角プリ
ズムaSと第2の三角プリズム(17a) 、 (17
b)をそれぞれ透過させるととくよってフラットパッケ
ージIC(211の両側面の半田付けすべき端子@部分
に同時に長方形ビーム(lj)を照射する。Next, with reference to FIGS. 8 and 9, an embodiment will be shown in which the present invention is applied to a flat package IC (FPIC) (2υ soldered ffK. A parallel laser beam (1
a) with a cylindrical concave 1 (14) and an elliptical beam (
lb) K deformation, then a parallel elliptical beam (IC) with a cylindrical convex lens aS, and then split into a transmitted beam (lk) and a reflected beam (11) K using a half mirror, and then a reflected beam (lffi). is a total reflection mirror CI! 3
refract 9d3 by. and both beams (lk)
, (lffi) are the first triangular prism aS and the second triangular prism (17a), (17
b), the rectangular beam (lj) is simultaneously irradiated onto the terminals to be soldered on both sides of the flat package IC (211).
上記実施例における長方形ビーム(lj)は、長方形の
照射面のいずれの部分においても均一なエネルギー密度
を有している。これに対して、第10図に示すように楕
円状ビーム(1b)を短軸に沿って分割して半分のビー
ム(ld) 、 (16)を形成し、長軸方向に屈折さ
せて重ね合わせることKより、短軸方向ではガウス型エ
ネルギー密度分布を有するが、長軸に沿っては等しいエ
ネルギー密度を有する長方形ビーム(lj)が得られる
。レーザ加工の種類(例えば、アニール)Kよっては、
このようなエネルギー密度分布を有する長方形ビームで
も使用可能であシ、第11図と第12図にこのための光
照射装置(111の構成を示す。この装置(111にお
いては、コリメータ(図示せず)の下にシリンドリカル
凹レンズIとシリンドリカル凸レンズ19と三角プリズ
ムα9を順に所定間隔を保って配置する。先ずコリメー
タで平行にされた円形レーザビーム(1a)をシリンド
リカル凹レンズα4に入射させて楕円状ビーム(lb)
K変形する。第3図CIC示すようK。The rectangular beam (lj) in the above embodiment has a uniform energy density in any part of the rectangular irradiation surface. On the other hand, as shown in Fig. 10, the elliptical beam (1b) is divided along the short axis to form half beams (ld), (16), which are refracted in the long axis direction and overlapped. From K, a rectangular beam (lj) is obtained which has a Gaussian energy density distribution in the short axis direction, but with equal energy density along the long axis. Depending on the type of laser processing (e.g. annealing),
A rectangular beam having such an energy density distribution can also be used, and FIGS. 11 and 12 show the configuration of a light irradiation device (111) for this purpose. In this device (111, a collimator (not shown) is ), a cylindrical concave lens I, a cylindrical convex lens 19, and a triangular prism α9 are arranged in order at a predetermined interval.First, a circular laser beam (1a) made parallel by a collimator is made incident on the cylindrical concave lens α4 to form an elliptical beam ( lb)
K transforms. K as shown in Figure 3 CIC.
シリンドリカル凹レンズIに入射前のレーザビーム(1
a)のエネルギー密度は急峻なガウス分布であるが、第
12図BK示すように透過後のビーム(lb)は緩やか
な形状となっている。次に、この放射状に拡がった楕円
ビーム(1b)をシリンドリカル凸レンズ(151を通
すことによシ平行な楕円ビーム(IC)とした後、三角
プリズム(le中を透過させて、第1O図の説明のよう
に楕円ビーム(IC)を2つのビーム(ld) 、 (
le) K分割後合成して長方形ヒ−A(lj)を作製
する。この様子をエネルギー密度から見ると、第12図
Cに示すように楕円状レーザビーム(1b)を三角プリ
ズム(IIK入射させてビーム(1b)を左右対称に分
割し、透過後筒12図りに示すように両方のビーム(l
d) 、 (le)が互いに重なるように移動させて、
第12図EK示すように加工面αε上において両ビーム
(ld) 、 (le)の重なった長方形状のレーザビ
ーム(lj)を得る。The laser beam (1
Although the energy density in a) has a steep Gaussian distribution, the beam (lb) after passing has a gentle shape as shown in FIG. 12BK. Next, this radially spread elliptical beam (1b) is made into a parallel elliptical beam (IC) by passing through a cylindrical convex lens (151), and then transmitted through a triangular prism (le). An elliptical beam (IC) is divided into two beams (ld), (
le) After K division, combine to create rectangular H-A(lj). Looking at this situation in terms of energy density, as shown in Figure 12C, the elliptical laser beam (1b) is incident on the triangular prism (IIK) and the beam (1b) is split symmetrically, as shown in Figure 12 after passing through the cylinder. Both beams (l
d) Move so that , (le) overlap each other,
As shown in FIG. 12EK, a rectangular laser beam (lj) in which both beams (ld) and (le) overlap is obtained on the processing surface αε.
本発明によれば、円形又は楕円形ビームからエネルギー
密度が一定で、正確な形状を有する方形ビームが得られ
る。また、例えば半導体装置のレーザ加工装置に適用し
た場合には、熱的に安定で且つエネルギー効率が良いた
め、加工時間を短縮でき、生産性が高まる。更に照射装
置の機構を簡酪化することができて、光学系のコストが
安くなるという効果も得られる。加えて、従来のマスク
プレートを使用して方形ビームを得る装置と比較してス
ペース効率の改善が可能になる。According to the invention, a square beam with a constant energy density and a precise shape is obtained from a circular or elliptical beam. Furthermore, when applied to a laser processing device for semiconductor devices, for example, since it is thermally stable and has good energy efficiency, processing time can be shortened and productivity can be increased. Furthermore, the mechanism of the irradiation device can be simplified, and the cost of the optical system can be reduced. In addition, improved space efficiency is enabled compared to devices that use conventional mask plates to obtain square beams.
第1図は実施例の斜視図、第2図は光学系の側面図、第
3図はエネルギー密度を示すビームの側面図、第4図は
ビームの平面図、第5図は光学系の正面図、第6図はビ
ームの正面図、第7図は長方形ビームの斜視図、第8図
は他の実施例の側面図、第9図は他の実施例の正面図、
第10図は長方形ビームの斜視図、第11図は他の光学
系の正面図、第12図は他の光学系のビームの正面図、
第13図は従来例の平面図、第14図は他の従来例の斜
視図である。
(1) 、 (la) 〜(lffi)はレーザビーム
、uは光照射i置、(131は;リメータレンズ、0は
シリンドリカル凹レンズ、a9はシリンドリカル凸レン
ズ、αGは第1の三角プリズム、(171、(17a)
、 (17b)は第2の三角プリズムである。
実 施イダリ 0,68L→すL図
第1図
光電ト服n偵虫幻Cり 上21矢の
イ#JffilSり 。、−44や面
。
(工、′+ル午−窃U覧)
゛第2図 第3図 第4図
長方形と・−瓜の#−中り図
第1図
一
第10図
他I11実施イ列−布り面m 杷め賞才包I列
の正面図第8図 第9図
4廻来、イ列め平Ifll!!
第13図
I@の盪Aヒ泉41リ −4イト参オーta口第14図Fig. 1 is a perspective view of the embodiment, Fig. 2 is a side view of the optical system, Fig. 3 is a side view of the beam showing energy density, Fig. 4 is a plan view of the beam, and Fig. 5 is a front view of the optical system. Figure 6 is a front view of the beam, Figure 7 is a perspective view of a rectangular beam, Figure 8 is a side view of another embodiment, Figure 9 is a front view of another embodiment,
FIG. 10 is a perspective view of a rectangular beam, FIG. 11 is a front view of another optical system, and FIG. 12 is a front view of a beam of another optical system.
FIG. 13 is a plan view of a conventional example, and FIG. 14 is a perspective view of another conventional example. (1), (la) to (lffi) are laser beams, u is the light irradiation position, (131 is a remeter lens, 0 is a cylindrical concave lens, a9 is a cylindrical convex lens, αG is the first triangular prism, (171, (17a)
, (17b) is the second triangular prism. Implementation Idari 0,68L → S L Figure 1 Photoelectric clothing n Reimu phantom C ri Upper 21 arrows I#JffilS ri. , -44 and surface. (English, ' + Le - Steal U list) ゛Figure 2 Figure 3 Figure 4 Rectangle and... - Melon # - Hole figure Figure 1 Figure 10 and others I11 Implementation row - Fabric surface m Front view of the I row of the I row, the first prize, Fig. 9. ! Figure 13
Claims (1)
得ることを特徴とする光照射装置。A light irradiation device characterized in that an optical system having two triangular prisms is arranged to obtain four-split light.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22455986A JPS6380221A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Light irradiating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22455986A JPS6380221A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Light irradiating device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6380221A true JPS6380221A (en) | 1988-04-11 |
Family
ID=16815677
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22455986A Pending JPS6380221A (en) | 1986-09-22 | 1986-09-22 | Light irradiating device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6380221A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09189881A (en) * | 1996-01-11 | 1997-07-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optical system in laser device |
-
1986
- 1986-09-22 JP JP22455986A patent/JPS6380221A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09189881A (en) * | 1996-01-11 | 1997-07-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optical system in laser device |
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