JPS6395227A - 重合体とその製造法 - Google Patents
重合体とその製造法Info
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- JPS6395227A JPS6395227A JP61240965A JP24096586A JPS6395227A JP S6395227 A JPS6395227 A JP S6395227A JP 61240965 A JP61240965 A JP 61240965A JP 24096586 A JP24096586 A JP 24096586A JP S6395227 A JPS6395227 A JP S6395227A
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- general formula
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は新規重合体とその製造法に関し、詳しくはポリ
カーボネート系の新規重合体とその効率のよい製造法に
関する。
カーボネート系の新規重合体とその効率のよい製造法に
関する。
[従来の技術および発明が解決しようとする間・照点]
従来から2.2−ビス(4−ヒドロキシフエとル)プロ
パン(通称ビスフェノールA)をホスゲンや炭酸ジフェ
ニル赴どの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せられ
ている。
パン(通称ビスフェノールA)をホスゲンや炭酸ジフェ
ニル赴どの炭酸エステル形成性化合物と反応させて製造
されるポリカーボネート樹脂は、透明性、耐熱性および
機械的強度にすぐれているため、広汎な用途に供せられ
ている。
しかし、様々な用途の拡大に伴ってポリカーボネート樹
脂に対する要求性崗が厳しくなり、よりすぐれた性能を
有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されている。
脂に対する要求性崗が厳しくなり、よりすぐれた性能を
有するポリカーボネート樹脂の出現が要望されている。
特に、従来のポリカーボネート樹脂を用いて射出成形な
どによって成形品を得た場合、この成形品は応力光学歪
が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器の素
材には適さないという問題がある。
どによって成形品を得た場合、この成形品は応力光学歪
が大きく、そのため複屈折が大きくなって光学機器の素
材には適さないという問題がある。
そこで本発明者らは、透明性、耐熱性および機械的強度
などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を維
持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して成
形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上し
たポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭意
研究を重ねた。
などの従来のポリカーボネート樹脂のすぐれた特性を維
持するとともに、流動性や光弾性係数などを改善して成
形品の光学歪や複屈折を小さくし、光学的性質の向上し
たポリカーボネート系の新規な重合体を開発すべく鋭意
研究を重ねた。
[問題点を解決するための手段]
その結果、特定の繰返し単位を有するポリカーボネート
系の新たな重合体が、上記目的に適うものであることを
見出し、本発明を完成するに至った。
系の新たな重合体が、上記目的に適うものであることを
見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は
一般式
(式中、Rは水素原子あるいは炭素数1〜10のアルキ
ル基を示し XI、X2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜5のアルキル基あるいはフェニル基を
示し、Yはベンジル基。
ル基を示し XI、X2はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子、炭素数1〜5のアルキル基あるいはフェニル基を
示し、Yはベンジル基。
ベンズヒドリル基あるいはトリチル基を示す。
また、nはO〜5の整数を示す、)
で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化、メチレン溶
液の20℃における極限粘度[η]が0.3di)/g
以上である新規重合体を提供するとともに。
液の20℃における極限粘度[η]が0.3di)/g
以上である新規重合体を提供するとともに。
一般式
(式中、R、XI、X2.Yオ、1:びn ハ前記と同
シ、)で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成
性化合物を反応させることによって、前記の新規重合体
を製造する方法をも提供する。
シ、)で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成
性化合物を反応させることによって、前記の新規重合体
を製造する方法をも提供する。
本発明の新規重合体を構成する一般式(I)で示される
緑返し単位としては、7.I、x2の種類や結合位こ、
さらにはYの種類やnの示す数により様々なものがある
が、具体的な繰返し単位の構造を示せば。
緑返し単位としては、7.I、x2の種類や結合位こ、
さらにはYの種類やnの示す数により様々なものがある
が、具体的な繰返し単位の構造を示せば。
などをあげることができる。
また、本発明の新規重合体の重合度(分子量)は、用途
等に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の20℃における極限粘度[η]が0.3di
l/g以上、好ましくは0.3〜1.0di)/gの範
囲に選定することが好ましい、ここで、上記極限粘度が
0.3di)/g未満では、得られる重合体は機械的強
度の小さいものとなる。
等に応じて適宜定めればよいが、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の20℃における極限粘度[η]が0.3di
l/g以上、好ましくは0.3〜1.0di)/gの範
囲に選定することが好ましい、ここで、上記極限粘度が
0.3di)/g未満では、得られる重合体は機械的強
度の小さいものとなる。
本発明の新規重合体は、様々な方法により製造すること
ができるが、前述した本発明の製造法によれば、効率よ
くかつ高品質の重合体を製造できる。
ができるが、前述した本発明の製造法によれば、効率よ
くかつ高品質の重合体を製造できる。
本発明の製造法では、荊記一般式(II )で表わされ
る二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系
に導入し、これを反応させる。
る二価フェノールと炭酸エステル形成性化合物を反応系
に導入し、これを反応させる。
ここで一般式(II )の二価フェノールは、炭酸エス
テル形成性化合物と重縮合して、一般式(I)の緑返し
単位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前
記録返し単位の具体例に対応するものをあげることがで
きる。
テル形成性化合物と重縮合して、一般式(I)の緑返し
単位を構成するものであり、具体的には既に列挙した前
記録返し単位の具体例に対応するものをあげることがで
きる。
なお、この一般式(■)の二価フェノールは、例えば無
溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 (式中、xl、x2は前記と同じ、) で表わされるフェノールと、一般式 R−C→CH2←Y (R,Y、nは前記と同じ)で
表わされるアルデヒドまたはケトンを反応させることに
よって製造することができる。
溶媒または溶媒中において酸性触媒の存在下、一般式 (式中、xl、x2は前記と同じ、) で表わされるフェノールと、一般式 R−C→CH2←Y (R,Y、nは前記と同じ)で
表わされるアルデヒドまたはケトンを反応させることに
よって製造することができる。
一方、炭酸エステル形成性化合物の種類は、製造すべき
重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般的
にはジフェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネ
ート、フェニル−P−)リルカーポネート、ジーp−ク
ロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボネ
ートなどのジアリールカーボネート、さらにはホスゲン
、ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用いら
れ、そのうちジフェニルカーボネートあるいはホスゲン
が好ましい。
重合体の用途等に応じて適宜選定すればよいが、一般的
にはジフェニルカーボネート、ジ−p−トリルカーボネ
ート、フェニル−P−)リルカーポネート、ジーp−ク
ロロフェニルカーボネートあるいはジナフチルカーボネ
ートなどのジアリールカーボネート、さらにはホスゲン
、ブロムホスゲンなどの炭酸のハロゲン化物等が用いら
れ、そのうちジフェニルカーボネートあるいはホスゲン
が好ましい。
本発明の製造法では、上述した二価フェノールと炭酸エ
ステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の条件
ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製造に
用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換法に
準ずればよい0通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等
のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好ま
しくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒、アルカリ、
分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調節剤
としては様々なm個フエノールをあげることができるが
、好ましいものとしては、フェノール、tert−ブチ
ルフェノール、フェニルフェノール、クミルフェノール
などがあげられる。
ステル形成性化合物とを重縮合させるが、この際の条件
ならびに操作法は、従来からポリカーボネートの製造に
用いられているいわゆるホスゲン法やエステル交換法に
準ずればよい0通常は塩化メチレン、クロルベンゼン等
のハロゲン化炭化水素やピリジンなどの溶媒中で、好ま
しくは塩化メチレン溶媒中で、適当な触媒、アルカリ、
分子量調節剤などを用いればよい。ここで分子量調節剤
としては様々なm個フエノールをあげることができるが
、好ましいものとしては、フェノール、tert−ブチ
ルフェノール、フェニルフェノール、クミルフェノール
などがあげられる。
上述の如き方法にしたがえば、本発明の新規重合体が得
られるが、これを用いて各種成形品を成形する場合に、
用途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤
を加えてもよい。
られるが、これを用いて各種成形品を成形する場合に、
用途等に応じて酸化防止剤や紫外線吸収剤などの添加剤
を加えてもよい。
[実施例]
次に、本発明を実施例および比較例により、さらに詳し
く説明する。
く説明する。
実施例1
(1)二価フェノールの調製
ガス吹込み管を有する反応器に、ベンジルアセトン14
8 g (1,0モル)と、フェノール282g(3,
0モル)および助触媒としてメルカプト酢酸5mj)を
入れ、40℃において攪拌下に乾燥塩化水素ガスを5時
間吹き込んだ、得られた反応生成物を粉砕したのち、6
0℃の水500層j)で3回洗浄し、つぎにキシレンを
用いて再結晶し、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−フェニル−ブタン258gを得た。収率は8
1%であった。
8 g (1,0モル)と、フェノール282g(3,
0モル)および助触媒としてメルカプト酢酸5mj)を
入れ、40℃において攪拌下に乾燥塩化水素ガスを5時
間吹き込んだ、得られた反応生成物を粉砕したのち、6
0℃の水500層j)で3回洗浄し、つぎにキシレンを
用いて再結晶し、2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−4−フェニル−ブタン258gを得た。収率は8
1%であった。
(2)共重合体の製造
上記(1)で得られた2、2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−4−フェニル−ブタン90g(0,283a
し)を、8重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液500
m1に溶解させ、得られた溶液に、塩化メチレン400
mA+ 、 P−ターシャリ−ブチルフェノール3.O
gおよび触媒としてトリエチルアミンの10重量%濃度
水溶液1IIi+を加えて、激しく攪拌しながらホスゲ
ンガスを反応系のpHが9.0となるまで吹き込んだ、
得られた生成物に塩化メチレン500a+j)を加えて
有機層を希釈したのち、水1ρ。
ェニル)−4−フェニル−ブタン90g(0,283a
し)を、8重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液500
m1に溶解させ、得られた溶液に、塩化メチレン400
mA+ 、 P−ターシャリ−ブチルフェノール3.O
gおよび触媒としてトリエチルアミンの10重量%濃度
水溶液1IIi+を加えて、激しく攪拌しながらホスゲ
ンガスを反応系のpHが9.0となるまで吹き込んだ、
得られた生成物に塩化メチレン500a+j)を加えて
有機層を希釈したのち、水1ρ。
0、O1規定の水酸化ナトリウム水溶液50hi) 、
水500+sJ) 、 0.01規定の希塩酸500m
1)および水500IIli+をそれぞれ用いて、この
順序で洗浄した。ついで、有機層をメタノール中に注入
して重合体を析出させ回収した。収量は91gであった
。
水500+sJ) 、 0.01規定の希塩酸500m
1)および水500IIli+をそれぞれ用いて、この
順序で洗浄した。ついで、有機層をメタノール中に注入
して重合体を析出させ回収した。収量は91gであった
。
この重合体は、塩化メチレンを溶媒とする溶液の20℃
における極限粘度[η]が0.18dR/gであった。
における極限粘度[η]が0.18dR/gであった。
また、この重合体の赤外線吸収スペクトルには、1[1
50c+s−1の位置にカルボニル基による吸収が、ま
た1240cm−1の位置にエーテル結合による吸収が
みられ、カーボネート結合を有することが認められた。
50c+s−1の位置にカルボニル基による吸収が、ま
た1240cm−1の位置にエーテル結合による吸収が
みられ、カーボネート結合を有することが認められた。
このことから、この重合体は下記の繰返し単位を有する
ことが分かった。
ことが分かった。
さらに、この重合体のガラス転移温度は144℃C虻/
1Jynε であり、光弾性係数は41.5X 10−13←嚇台−
であった。
1Jynε であり、光弾性係数は41.5X 10−13←嚇台−
であった。
実施例2
(1)二価フェノールの調製
原料として、ジフェニルメチルメチルケトン210g
(1,0モル)と、フェノール282g (3,0モル
)を用いたほかは、実施例1の(1)と同様にして、1
.1−ジフェニル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン198gを得た。収率は52%であった
。
(1,0モル)と、フェノール282g (3,0モル
)を用いたほかは、実施例1の(1)と同様にして、1
.1−ジフェニル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン198gを得た。収率は52%であった
。
(2)重合体の製造
原料の二価フェノールとして、上記(1)で得られた1
、1−ジフェニル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン90gを用いたほかは、実施例1の(2
)と同様にして、重合体89gを得た。
、1−ジフェニル−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン90gを用いたほかは、実施例1の(2
)と同様にして、重合体89gを得た。
この重合体の極限粘度[η]は0.81dj)/gであ
った。また、この重合体は下記の繰返し単位を有するも
のであった。
った。また、この重合体は下記の繰返し単位を有するも
のであった。
あった。
実施例3
(1)二価フェノールの調製
原料として、ベンジルアセトン148g (1,0モル
)と、オルソメチルフェノール324g (3,0モル
)を用いたほかは、実施例1の(1)と同様にして、2
.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
4−フェニルブタン270gを得た。
)と、オルソメチルフェノール324g (3,0モル
)を用いたほかは、実施例1の(1)と同様にして、2
.2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
4−フェニルブタン270gを得た。
収率は78%であった。
(2)重合体の製造
原料の二価フェノールとして、上記(1)で得られた2
、2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
4−フェニルブタン90gを用いたほかは、実施例1の
(2)と同様にして、下記の繰返し単位を有する重合体
87gを得た。
、2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−
4−フェニルブタン90gを用いたほかは、実施例1の
(2)と同様にして、下記の繰返し単位を有する重合体
87gを得た。
この重合体の極限粘度[η]は0.45dβ/gであ比
較例1 原料の二価フェノールとして、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンを用いたほかは、実施例1の
(2)と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
較例1 原料の二価フェノールとして、2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンを用いたほかは、実施例1の
(2)と同様の操作をして、下記繰返し単位からなるポ
リカーボネートを得た。
このポリカーボネートの極限粘度[η]は0.55dj
)/gであり、ガラス転移温度は143℃であり、また
、光弾性係数は76X 10−13!と大きい値であっ
た。
)/gであり、ガラス転移温度は143℃であり、また
、光弾性係数は76X 10−13!と大きい値であっ
た。
[発明の効果]
このようにして得られる本発明の重合体は、従来のポリ
カーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また溶
融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光学
的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な耐
熱性ならびに機械的強度を有するものである。
カーボネート樹脂に比べて光弾性係数が小さく、また溶
融粘度が低く成形歪が少ないため、複屈折が小さく光学
的性質の極めてすぐれたものである。しかも、充分な耐
熱性ならびに機械的強度を有するものである。
したがって、本発明の重合体は、光ディスクなどの光学
機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材とし
て有効に利用することができる。
機器用素材をはじめとして、各種産業用機器の素材とし
て有効に利用することができる。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子あるいは炭素数1〜10のアルキ
ル基を示し、X^1、X^2はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基あるいはフェニル
基を示し、Yはベンジル基、ベンズヒドリル基あるいは
トリチル基を示す。 また、nは0〜5の整数を示す。) で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度[η]が0.3dl/g以上
である新規重合体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは水素原子あるいは炭素数1〜10のアルキ
ル基を示し、X^1、X^2はそれぞれ水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基あるいはフェニル
基を示し、Yはベンジル基、ベンズヒドリル基あるいは
トリチル基を示す。 また、nは0〜5の整数を示す。) で表わされる二価フェノールと炭酸エステル形成性化合
物を反応させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、X^1、X^2、Yおよびnは前記と同じ
、) で表わされる繰返し単位を有し、かつ塩化メチレン溶液
の20℃における極限粘度[η]が0.3dl/g以上
である新規重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240965A JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61240965A JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6395227A true JPS6395227A (ja) | 1988-04-26 |
| JP2516882B2 JP2516882B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=17067288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61240965A Expired - Lifetime JP2516882B2 (ja) | 1986-10-09 | 1986-10-09 | 重合体とその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2516882B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245623A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-02-27 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光ディスク基板の製造方法 |
-
1986
- 1986-10-09 JP JP61240965A patent/JP2516882B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6245623A (ja) * | 1985-08-26 | 1987-02-27 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光ディスク基板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2516882B2 (ja) | 1996-07-24 |
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