JPH0319248B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0319248B2 JPH0319248B2 JP59021870A JP2187084A JPH0319248B2 JP H0319248 B2 JPH0319248 B2 JP H0319248B2 JP 59021870 A JP59021870 A JP 59021870A JP 2187084 A JP2187084 A JP 2187084A JP H0319248 B2 JPH0319248 B2 JP H0319248B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- copolymer
- represented
- methylene chloride
- dihydroxytetraphenylmethane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
本発明は光学機器用素材に関し、特にデジタル
オーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適し
た素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には
様々な性能が要求されており、例えば透明性、耐
熱性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共
に、光学的な性質として光弾性係数の小さいもの
が適している。このような性能を有する素材とし
ては、従来からメタクリル樹脂などが知られてい
るが、このものは耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点
で未だ充分なものとは言い難いという欠点があ
る。また、ビスフエノールＡ（２，２−ビス
（4′−ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲ
ンや炭酸ジフエニル等と反応させて得られるポリ
カーボネート樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性
などにおいてすぐれているものの、光弾性係数が
大きいため、これに起因して複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下したり、エラーが発生するという難点があ
る。 本発明は耐熱性にすぐれるとともに、光弾性係
数が小さくデイスクに記録された情報の読み取り
感度の高い光学機器用素材を提供することを目的
とするものである。 すなわち本発明は 式 で表わされる繰返し単位〔〕および 式 で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｍおよびｎとしたときのｎ／ｍ＋ｎの値が0.1〜 0.9であると共に、20℃における濃度0.5ｇ／dlの
塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.3
dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用素材を
提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度は光学機器の種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.3
dl／ｇ以上、好ましくは0.4〜1.0dl／ｇの共重合
体となるように重合させるべきである。また、上
記繰返し単位〔〕のモル分率をｍ、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｎとしたとき、ｍ／ｍ＋ｎ の値が0.1〜0.9、好ましくは0.3〜0.9となるよう
に調節する。ここでｍ／ｍ＋ｎの値が0.1未満である と得られる共重合体の光弾性係数が大きくなつて
複屈折が大きくなり、一方0.9を超えると成形性
が低下して成形歪みが大きくなつて複屈折が大き
くなるので好ましくない。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式 で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンおよび 式 で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン（ビスフエノールＡ）とホスゲン
の重縮合により製造することができる。また、こ
のようなホスゲン法ポリカーボネートの製法に従
う方法の他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエス
テル交換法ポリカーボネートの製法に従つて行な
うこともできる。なお、この場合式〔〕で表わ
される４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタ
ンと式〔〕で表わされるビスフエノールＡをモ
ノマーのまま直接混合し、ホスゲンあるいは炭酸
ジフエニルと共に反応させてもよく、或いは予め
式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテト
ラフエニルメタンとホスゲンまたは炭酸ジフエニ
ルを重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマ
ーと式〔〕で表わされるビスフエノールＡを反
応させてもよい。また、逆に予め式〔〕で表わ
されるビスフエノールＡとホスゲンまたは炭酸ジ
フエニルを重縮合させておき、その後式〔〕で
表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニル
メタンと反応させてもよい。この重縮合の際の条
件は所望する共重合体の重合度などにより一義的
に定めることはできないが、通常は塩化メチレ
ン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素やピ
リジンなどの溶媒中で、好ましくは塩化メチレン
溶液中で、適当な触媒、アルカリ、分子量調節剤
などを用いればよい。ここで分子量調節剤として
は様々な一価フエノールを挙げることができる
が、好ましいものとしては
オーデイオデイスクや光メモリーデイスクに適し
た素材に関する。 一般に、上述したような光学機器用素材には
様々な性能が要求されており、例えば透明性、耐
熱性、耐湿性、機械的強度にすぐれていると共
に、光学的な性質として光弾性係数の小さいもの
が適している。このような性能を有する素材とし
ては、従来からメタクリル樹脂などが知られてい
るが、このものは耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の点
で未だ充分なものとは言い難いという欠点があ
る。また、ビスフエノールＡ（２，２−ビス
（4′−ヒドロキシフエニル）プロパン）をホスゲ
ンや炭酸ジフエニル等と反応させて得られるポリ
カーボネート樹脂は、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性
などにおいてすぐれているものの、光弾性係数が
大きいため、これに起因して複屈折が大きくな
り、デイスクに記録された情報の読み取り感度が
低下したり、エラーが発生するという難点があ
る。 本発明は耐熱性にすぐれるとともに、光弾性係
数が小さくデイスクに記録された情報の読み取り
感度の高い光学機器用素材を提供することを目的
とするものである。 すなわち本発明は 式 で表わされる繰返し単位〔〕および 式 で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｍおよびｎとしたときのｎ／ｍ＋ｎの値が0.1〜 0.9であると共に、20℃における濃度0.5ｇ／dlの
塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.3
dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用素材を
提供するものである。 上記繰返し単位〔〕および〔〕を有する共
重合体の重合度は光学機器の種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度0.5ｇ／dlの塩化メチレン
溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.3
dl／ｇ以上、好ましくは0.4〜1.0dl／ｇの共重合
体となるように重合させるべきである。また、上
記繰返し単位〔〕のモル分率をｍ、上記繰返し
単位〔〕のモル分率をｎとしたとき、ｍ／ｍ＋ｎ の値が0.1〜0.9、好ましくは0.3〜0.9となるよう
に調節する。ここでｍ／ｍ＋ｎの値が0.1未満である と得られる共重合体の光弾性係数が大きくなつて
複屈折が大きくなり、一方0.9を超えると成形性
が低下して成形歪みが大きくなつて複屈折が大き
くなるので好ましくない。 上述の共重合体は様々な方法により製造するこ
とができるが、例えば 式 で表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニ
ルメタンおよび 式 で表わされる２，２−ビス（４−ヒドロキシフエ
ニル）プロパン（ビスフエノールＡ）とホスゲン
の重縮合により製造することができる。また、こ
のようなホスゲン法ポリカーボネートの製法に従
う方法の他に、炭酸ジフエニルなどを用いるエス
テル交換法ポリカーボネートの製法に従つて行な
うこともできる。なお、この場合式〔〕で表わ
される４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタ
ンと式〔〕で表わされるビスフエノールＡをモ
ノマーのまま直接混合し、ホスゲンあるいは炭酸
ジフエニルと共に反応させてもよく、或いは予め
式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテト
ラフエニルメタンとホスゲンまたは炭酸ジフエニ
ルを重縮合させてオリゴマーを得、このオリゴマ
ーと式〔〕で表わされるビスフエノールＡを反
応させてもよい。また、逆に予め式〔〕で表わ
されるビスフエノールＡとホスゲンまたは炭酸ジ
フエニルを重縮合させておき、その後式〔〕で
表わされる４，4′−ジヒドロキシテトラフエニル
メタンと反応させてもよい。この重縮合の際の条
件は所望する共重合体の重合度などにより一義的
に定めることはできないが、通常は塩化メチレ
ン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素やピ
リジンなどの溶媒中で、好ましくは塩化メチレン
溶液中で、適当な触媒、アルカリ、分子量調節剤
などを用いればよい。ここで分子量調節剤として
は様々な一価フエノールを挙げることができる
が、好ましいものとしては
【式】
【式】
【式】などが挙げられる。
本発明の共重合体を構成する繰返し単位〔〕
は式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタンとホスゲン等との反応により
形成され、また繰返し単位〔〕は式〔〕で表
わされるビスフエノールＡとホスゲン等との反応
により形成される。従つて、共重合体における繰
返し単位〔〕，〔〕の所望するモル分率に応じ
て式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタンと式〔〕で表わされるビス
フエノールＡの使用量を適宜選定すればよい。な
お、本発明の共重合体をデイスク等の成形に用い
るにあたつては、酸化防止剤、紫外線吸収剤など
の通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる共重合体は光弾性係数
が小さいため光の複屈折率が小さい。したがつ
て、本発明の共重合体を各種光学機器の素材とし
て用いれば光学的性質が改良されているためデイ
スクに記録された情報の読み取り感度が高く、エ
ラーの発生の少ない光学機器が得られる。また、
本発明の共重合体は耐熱性にすぐれており、しか
も機械的にも良好な素材であるため、これを用い
て作られた光学機器は様々な条件下で安定して作
動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスクや光メモリーデイスクなどの光学機器用
素材として有効に利用することができる。 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇ（0.29モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度６重量％）に450mlに溶解し、これに溶媒と
して塩化メチレン200mlを加えて撹拌しながら、
この混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分
の供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下し
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次い
で生成物を静置分離することにより有機相に重合
度２〜３のクロロホーメート基末端を有するポリ
カーボネート・オリゴマーを得た。 次に、このポリカーボネート・オリゴマーの塩
化メチレン溶液250mlをさらに塩化メチレンで希
釈して全体を450mlとした。このオリゴマー溶液
に、４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタン
31.9ｇ（0.09モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度２規定）140mlに溶解した溶液を混合し、こ
の混合液を激しく撹拌しながら分子量調節剤とし
てｐ−ターシヤリーブチルフエノール1.8ｇ、重
合触媒としてトリエチルアミン水溶液（濃度0.5
モル／）１mlを加え、28℃で１時間重縮合反応
を行なつた。反応終了後、反応生成物を塩化メチ
レン１で希釈し、水、水酸化ナトリウム水溶液
（濃度0.01規定）、水、塩酸（濃度0.01規定）、水
の順で洗浄し、最後に反応生成物をメタノール中
に投入し、共重合体108ｇを回収した。 得られた共重合体の濃度0.5ｇ／dlの塩化メチ
レン溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は
0.65dl／ｇであつた。また、核磁気共鳴（NMR）
による分析の結果、この共重合体のｍ／ｍ＋ｎの値 は0.2であつた。さらにこの共重合体を280℃にお
いてプレス成形し、肉厚0.3mmの透明シートとし、
この透明シートを用いて波長633nmにおいて光弾
性係数を測定した。また、この共重合体のガラス
転移温度を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）プロパンに代えて４，4′−ジヒド
ロキシテトラフエニルメタンを用いてオリゴマー
を合成したのち、このオリゴマーに対して４，
4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタンの代わり
に２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パンを重縮合したこと以外は、実施例１と同様に
して共重合体ならびに透明シートを製造した。結
果を第１表に示す。 実施例 ３ 実施例１において、原料として２，２−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）プロパンと４，4′−
ジヒドロキシテトラフエニルメタンの混合物を用
いたこと以外は、実施例１と同様にして共重合体
ならびに透明シートを製造した。結果を第１表に
示す。 比較例 １ 実施例１において、原料として２，２−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）プロパンのみを用い
たこと以外は、実施例１と同様にしてポリカーボ
ネートならびに透明シートを製造した。結果を第
１表に示す。
は式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタンとホスゲン等との反応により
形成され、また繰返し単位〔〕は式〔〕で表
わされるビスフエノールＡとホスゲン等との反応
により形成される。従つて、共重合体における繰
返し単位〔〕，〔〕の所望するモル分率に応じ
て式〔〕で表わされる４，4′−ジヒドロキシテ
トラフエニルメタンと式〔〕で表わされるビス
フエノールＡの使用量を適宜選定すればよい。な
お、本発明の共重合体をデイスク等の成形に用い
るにあたつては、酸化防止剤、紫外線吸収剤など
の通常の添加剤を配合してもよい。 このようにして得られる共重合体は光弾性係数
が小さいため光の複屈折率が小さい。したがつ
て、本発明の共重合体を各種光学機器の素材とし
て用いれば光学的性質が改良されているためデイ
スクに記録された情報の読み取り感度が高く、エ
ラーの発生の少ない光学機器が得られる。また、
本発明の共重合体は耐熱性にすぐれており、しか
も機械的にも良好な素材であるため、これを用い
て作られた光学機器は様々な条件下で安定して作
動する。 それ故、本発明の素材は、デジタルオーデイオ
デイスクや光メモリーデイスクなどの光学機器用
素材として有効に利用することができる。 次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説明
する。 実施例 １ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パン67ｇ（0.29モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度６重量％）に450mlに溶解し、これに溶媒と
して塩化メチレン200mlを加えて撹拌しながら、
この混合液中にホスゲンガスを室温で800ml／分
の供給割合で吹込み、反応系のPHが９まで低下し
た時点でホスゲンガスの吹込みを停止した。次い
で生成物を静置分離することにより有機相に重合
度２〜３のクロロホーメート基末端を有するポリ
カーボネート・オリゴマーを得た。 次に、このポリカーボネート・オリゴマーの塩
化メチレン溶液250mlをさらに塩化メチレンで希
釈して全体を450mlとした。このオリゴマー溶液
に、４，4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタン
31.9ｇ（0.09モル）を水酸化ナトリウム水溶液
（濃度２規定）140mlに溶解した溶液を混合し、こ
の混合液を激しく撹拌しながら分子量調節剤とし
てｐ−ターシヤリーブチルフエノール1.8ｇ、重
合触媒としてトリエチルアミン水溶液（濃度0.5
モル／）１mlを加え、28℃で１時間重縮合反応
を行なつた。反応終了後、反応生成物を塩化メチ
レン１で希釈し、水、水酸化ナトリウム水溶液
（濃度0.01規定）、水、塩酸（濃度0.01規定）、水
の順で洗浄し、最後に反応生成物をメタノール中
に投入し、共重合体108ｇを回収した。 得られた共重合体の濃度0.5ｇ／dlの塩化メチ
レン溶液の20℃における還元粘度〔ηsp／Ｃ〕は
0.65dl／ｇであつた。また、核磁気共鳴（NMR）
による分析の結果、この共重合体のｍ／ｍ＋ｎの値 は0.2であつた。さらにこの共重合体を280℃にお
いてプレス成形し、肉厚0.3mmの透明シートとし、
この透明シートを用いて波長633nmにおいて光弾
性係数を測定した。また、この共重合体のガラス
転移温度を測定した。結果を第１表に示す。 実施例 ２ 実施例１において、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフエニル）プロパンに代えて４，4′−ジヒド
ロキシテトラフエニルメタンを用いてオリゴマー
を合成したのち、このオリゴマーに対して４，
4′−ジヒドロキシテトラフエニルメタンの代わり
に２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロ
パンを重縮合したこと以外は、実施例１と同様に
して共重合体ならびに透明シートを製造した。結
果を第１表に示す。 実施例 ３ 実施例１において、原料として２，２−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）プロパンと４，4′−
ジヒドロキシテトラフエニルメタンの混合物を用
いたこと以外は、実施例１と同様にして共重合体
ならびに透明シートを製造した。結果を第１表に
示す。 比較例 １ 実施例１において、原料として２，２−ビス
（４−ヒドロキシフエニル）プロパンのみを用い
たこと以外は、実施例１と同様にしてポリカーボ
ネートならびに透明シートを製造した。結果を第
１表に示す。
【表】
以上の結果から、本発明の素材は比較例１のポ
リカーボネートに比し、耐熱性がさらに優れてお
り、しかも光学的性質についても光弾性係数が低
く、光の複屈折を低く抑えうることが判る。
リカーボネートに比し、耐熱性がさらに優れてお
り、しかも光学的性質についても光弾性係数が低
く、光の複屈折を低く抑えうることが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 で表わされる繰返し単位〔〕および 式 で表わされる繰返し単位〔〕を有し、かつ前記
繰返し単位〔〕および〔〕のモル分率をそれ
ぞれｍおよびｎとしたときのｎ／ｍ＋ｎの値が0.1〜 0.9であると共に、20℃における濃度0.5ｇ／dlの
塩化メチレン溶液の還元粘度〔ηsp／Ｃ〕が0.3
dl／ｇ以上の共重合体からなる光学機器用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59021870A JPS60166322A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 光学機器用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59021870A JPS60166322A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 光学機器用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166322A JPS60166322A (ja) | 1985-08-29 |
| JPH0319248B2 true JPH0319248B2 (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=12067156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59021870A Granted JPS60166322A (ja) | 1984-02-10 | 1984-02-10 | 光学機器用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166322A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662752B2 (ja) * | 1984-08-24 | 1994-08-17 | 三菱化成株式会社 | 光情報材料 |
| JPH0620783B2 (ja) * | 1986-01-31 | 1994-03-23 | 三菱化成株式会社 | ポリカ−ボネ−ト樹脂製光デイスク基板の製造法 |
| JPS6366255A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカ−ボネ−ト系樹脂組成物 |
| JP2538566B2 (ja) * | 1986-09-10 | 1996-09-25 | 出光興産株式会社 | 新規重合体とその製造方法 |
| JPH0727662B2 (ja) * | 1987-08-27 | 1995-03-29 | 出光石油化学株式会社 | 光ディスク基板 |
| JPH01201338A (ja) * | 1988-02-04 | 1989-08-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
-
1984
- 1984-02-10 JP JP59021870A patent/JPS60166322A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60166322A (ja) | 1985-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3157316B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート共重合体 | |
| JP2828699B2 (ja) | 高分子化合物及びそれよりなる光学成形品 | |
| JPS60166322A (ja) | 光学機器用素材 | |
| JPH0570651B2 (ja) | ||
| JPH07292095A (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂の改質法 | |
| JPH0692480B2 (ja) | ポリカ−ボネ−ト系共重合体およびその製造方法 | |
| JPS6362528B2 (ja) | ||
| US4895919A (en) | Spirobiindane copolysiloxanecarbonates and method for their preparation | |
| JP2558285B2 (ja) | 光学材料 | |
| JPS61149901A (ja) | 光学機器用素材 | |
| JPH0414705B2 (ja) | ||
| JPH0645680B2 (ja) | 光学機器用素材 | |
| JPH073481B2 (ja) | 光学機器用素材 | |
| JPS61255929A (ja) | 光ディスク用素材 | |
| JPH0319249B2 (ja) | ||
| JP2603647B2 (ja) | ポリカーボネート系樹脂組成物 | |
| JP2556864B2 (ja) | 光学材料 | |
| JPS6236457A (ja) | 光学機器用素材 | |
| JPS61213218A (ja) | 光学機器用素材 | |
| JP2516882B2 (ja) | 重合体とその製造法 | |
| JP2625906B2 (ja) | 光学材料用樹脂 | |
| JPS62185709A (ja) | 光学機器用素材 | |
| US4923962A (en) | Optical disk substrate comprising aromatic polycarbonate | |
| JP2516883B2 (ja) | 重合体とその製造方法 | |
| JP2520096B2 (ja) | ポリカ−ボネ−ト系共重合体およびその製造方法 |