JPS639879A - 放射線検出素子 - Google Patents

放射線検出素子

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JPS639879A
JPS639879A JP61154757A JP15475786A JPS639879A JP S639879 A JPS639879 A JP S639879A JP 61154757 A JP61154757 A JP 61154757A JP 15475786 A JP15475786 A JP 15475786A JP S639879 A JPS639879 A JP S639879A
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JP
Japan
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scintillator crystal
scintillator
electrode
transparent conductive
detecting element
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JP61154757A
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Ryoichi Sawada
澤田 良一
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、シンチレータを用いて放射線を検出する素子
に関する。
口、従来の技術 従来1次元解像力を有するX線検出器としてXeチャン
バーがある。これは圧縮したXeガスに高い電圧を印加
して、X線が入射した時に発生するイオンを検出する装
置であるが、この装置の場合に電極間隔が狭いので特別
な高耐圧対策が必要となり、また分解能は検出用電極の
ピッチ間隔で決定されるが、加工上1mm程度が限度で
ある。また第3図に示すように半導体光検出器11とシ
ンチレータ材料1を接合したX線検出器があるが、光検
出器(フォトダイオード)とシンチレータとを別体で製
作し、これを接着するので、高解像度を得ようとする場
合、一画素分の材料が余りにも微細なために作業が難し
く、接合には熟練技術を必要とし、加工時間も長時間を
要する。また、分解能を上げるためにピッチ間隔を狭く
すると素子が益々微細となり、益々接合が難しくなると
云う問題がある。
ハ0発明が解決しようとする問題点 本発明は、上述した製造上の難点を解消し、安価で高感
度、高画像分解能を得るに適したX線検出器を得ること
を目的とする。
二3問題点解決のなりの手段 シンチレータ結晶を基板として、その外周面に光子が通
過しやすい透明な電極層を形成し、その電極層の外周面
に光電感光層例えばアモルファスSiを形成し、更にそ
の光電感光層の外周面に電極層を形成する。
ホ1作用 本発明は、シンチレータ結晶によってX線を可視光の光
子に変換し、これを太陽電池等の光電変換層によって電
気的に検出することにより、入射X線を検出しようとす
るものである。従来はシンチレータ結晶と半導体光検出
素子とを別々に製作して、これらを手作業で接着剤を使
用して接合していたが、両者の接合位置がずれると光子
の光検出素子への入射効率が変化するから、位置を正確
に規制する必要があるのに、素子が微細なために基準に
適合するように接合することが困難であったが、本発明
はシンチレータ結晶を基板として、同結晶の上に光電変
換用素子部分を構成する種々の層を順次形成していくも
のである。このようにして作成すれば、通常の半導体素
子製造技術が適用でき、手作業に比し品買一定で高感度
な放射線検出素子を量産的に安価に作成することができ
るへ、実施例 第1図に本発明の一実施例を示す、第1図において、1
はシンチレータ結晶、2は透明導電膜でシンチレータ結
晶1の外周面にITO,SnO□、InO2等をスパッ
タ、蒸着等で薄い膜として形成し、信号出力!極とする
。3はアモルファス5illiで透明導電膜2の外周面
にプラズマCVD法により薄い膜として形成する。この
膜3は形成する際、整流特性を持たせるために雰囲気ガ
スに少量のB、H6,P)(、等を順次混入してPIN
型に形成しである。4はA1電極で上記アモルファスS
t膜3の外周面にAJをスパッタ、蒸着等で薄い膜とし
て形成し、アース電極とする。5は素子を支持する絶縁
性の支持台で下方に端子8と9を突出させる。6は外部
リード線でAJ電極4と端子8とを接続する。7は他の
外部リード線で透明導電膜2と端子9を接続する。10
は絶縁性反射膜で、透明導電膜2及びA!電極4に外部
リード線が接続させるシンチレータ結晶の両端面が、外
周面に各種の金属を蒸着する際にシンチレータ結晶を回
転保持するために、各層が形成されずにシンチレータ結
晶が露出しており、その露出箇所から光子が漏出しない
ように形成される絶縁性反射膜で、TiO2,MgO,
Ba5O,等の白色粉末を塗着したものである。
このような構造のX線検出素子は次のような工程で作成
される。所定の寸法に切断したシンチレータ結晶を図中
の絶縁性反射膜10を形成する両端面を保持し、シンチ
レータ結晶1を回転させながらITO,5n02 、I
 n02等を蒸着させて、透明導電膜2を形成する0次
にH2ガスを添加したS i H4のガス中に上記結晶
を設置して、同結晶に高周波電圧を印加して、アルモフ
ァスSt層3を形成させる。同層形成中に少量のB、H
6、PH,等を順次混入して同層をPIN型として整流
特性を持たせる。さらに同13の外周面にAJを蒸着さ
せて電極4を形成する。このようにして製作された素子
に端子8.9を設けた支持台5を接合する。この接合は
接着剤で素子を支持台に固定するものであるが、従来素
子のシンチレータと光電変換素子との接合のように、接
合の正確さが感度に影響するような接合ではないので、
作業も比較的楽になる。外部リード線7を透明導電膜2
と端子9に、外部リード線6をA!電極4と端子8にワ
イヤボンデング等で接続させる。
このようにして作成された素子にX線が上方から入射さ
れると、X線はAJt極4.アモルファスSi、透明導
電膜2を透過してシンチレータ結晶に到達する。このシ
ンチレータ結晶1でX線は光子に変換される。この変換
された光子をアモルファスSLによって電圧信号に変換
し、その電圧信号をAJ電極4と透明導電膜2の2つの
電極によって取出す、なおシンチレータ内で発生した光
子はAJ電極4または絶縁性反射膜10によって反射さ
れて、外部に漏出しないようになっているので光電変換
効率が向上する。
又、シンチレータ結晶の角に丸みを付けることにより、
各層の断線が防止できる構造になる。
ト、効果 本発明によれば、半導体製造技術が利用できるので、高
性能で品質が安定した放射線検出素子が、安価にしかも
量産が可能になった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の側断面図、第2図は上記正
断面図、第3図は一従来例の正断面図である。 1・・・シンチレータ結晶、2・・・透明導電膜、3・
・・アモルファスSL、4・・・AJt極、5・・・支
持台、6・・・外部リード線、7・・・外部リード線、
8・・・端子。 9・・・端子、10・・・絶縁性反射膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シンチレータ結晶を基板として、その外周面に透明電極
    層を形成し、その電極層上に光電感光層を形成し、上記
    光電感光層の上面に電極層を形成したことを特徴とする
    放射線検出素子。
JP61154757A 1986-06-30 1986-06-30 X線検出素子 Expired - Lifetime JP2590320B2 (ja)

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JP61154757A JP2590320B2 (ja) 1986-06-30 1986-06-30 X線検出素子

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JPS639879A true JPS639879A (ja) 1988-01-16
JP2590320B2 JP2590320B2 (ja) 1997-03-12

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111430502A (zh) * 2020-03-08 2020-07-17 湖北大学 一种基于稀土氧化物闪烁体/半导体复合薄膜的x射线探测器的制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57172273A (en) * 1981-04-17 1982-10-23 Toshiba Corp Radiation detector

Patent Citations (1)

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JP2590320B2 (ja) 1997-03-12

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