JPS6398806A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）　産業上の利用分野 本発明は磁気へリドに関するものであり、より特定的に
は抗磁力の高いメタルテープに対応する磁気ヘッド及び
その製造方法に関する。

（ロ）　従来の技術 ＶＴＲ等の磁気記録再生装置においてはε鎌信号の高密
度化や高周波数化が進められており、磁気！？、録媒体
として磁性粉にＦｅ、ｃｏ、Ｎ１等の強磁性金属の粉末
を用いた塗布型メタルテープや強磁性金属材料を蒸着に
よりベースフィルム上に被着したテープが使用されるよ
うになってきた。

このようなテープは高い抗磁力を有するために記録に用
いる磁気ヘッドの材料にも高い飽和磁束密度を有するこ
とが要求される。従来のフェライト材を用いた磁気ヘッ
ドでは飽和磁束密度が低いという問題があった。

そこで、従来、第１０図に示すようにガラス等の非磁性
基板（１）上に強磁性金属薄膜（２１を被着形成し、こ
れをトラック部分とした複合磁気ヘッドが提案されてい
る（特開昭６０−１０６０１１に＋公報、０１１Ｂ５／
１２７）。また、第１５図に示すようにテープ摺接面に
ｊφｎ−Ｚｎフェライト等の強磁性金属酸化物（３）、
強磁性金属薄膜（４）を有する複合型の磁気ヘッドも提
案されている（特開昭６０−３２１０７号公報）。

（／″４　発明が解決しようとする問題点しかしながら
、前者の磁気へ・ノドでは磁路が膜１７の薄い金属Ｍ（
２）のみによって構成されるので、磁気抵抗が大きくて
記録にも再生にも効率上好ましくない。また、第１１図
１こ示すようｔこ金属薄膜（２）の膜厚が正味、トラッ
ク幅となるので、膜形成に時間を要する等の問題がある
。更にテープ当接面が比較的硬度の低いガラス及び強磁
性金属薄膜で構成されているので耐摩耗性の点で問題が
あった。

後者の磁気へリドではテープ当接面が強磁性酸化物（３
）と強磁性金属薄膜（４）で構成されているため一層、
耐摩耗性が低くなる。しかも、後者の磁気ヘッドではト
ラ・ツク幅を規定するｉ；／？　＋５１を挾んで金属Ｍ
膜（４）と強磁性酸化物（３）が対峙するので、溝（５
）して 部分が擬似ギャップと４Ｃ用する。そのため、その影響
を緩和するべく溝（５）ができるだけ大きくなるように
第１５図ｔｂ＋に示すように強磁性酸化物のコア半休＋
３１　＋３１の各々に９ＪＳ１の溝（５ａ）Ｊ２を外に
第２の溝（５ｂ）を設けなければならないから、工数が
多く、生産性が低下するという問題があった。

に）問題点を解決するための手段 上記の問題を解決するため本発明の磁気へ・リドは、テ
ープ当接面を形成するように配されたセラミ９クスと、
前記セラミックスの後方に接合された強磁性金属酸化物
と、前記セラミ・ノクスのテープ当接面と直交する方向
に設けられた強磁性の金属薄膜と、＠配合１ｉＡ薄膜上
に設けられた作動ギャップとを備える溝造をしており、
また、その製造方法はセラミづクスと強磁性金属酸化物
を交互に積層した基板の接合面に斜面を有する切溝を設
け前ε切溝の斜面上に強磁性の金属薄膜を成膜し、次い
でその金属薄膜を研磨により前記切溝内にのみ残すよう
になし、このように形成された一対の基板を前記金属薄
膜の上端同士がギャップを挾んで対向するように突き合
せ且つ接合し、その後へ一ノドチ・ツブ単位に分断する
ことを特徴とする。

けり作　用 テープ当接面の大部分が硬度の高いセラミックスで構成
されているため、耐摩耗性の優れた磁気へづドを得るこ
とができると共に、後方部分の強磁性酸化物と、金属薄
膜とは磁気的に繋がるので全体として島い飽和磁束密度
を有し磁気抵抗は小さくなって記録及び再生効率が向上
する。また、トラック幅規定溝は擬似ギャップとして作
用しないので、トラック幅規定溝は１つのコア半休に１
つ形成するだけでよい。

（（へ）実施例 ９５２図に示すようにＭｎ−Ｚｎのフェライト板（１１
１と高硬度のセラミ−）クス板αＧのいずれか一方に予
めスパッタ等により高融点ガラス膜Ｏ２を形成した後、
セラミックス板（１１とフェライト板（１１１を交互に
＆ｔＪｔ１し、しかる後、積層方向に加圧しながら、加
熱してガラス溶着を行ない第３図に示す積層板α３を形
成する。ここで、フェライト板０１の熱膨張係数は１２
０Ｘ１０　　／’Ｃ程度であり、ビッカース硬度は６０
０〜７００程度である。高硬度セラミックスの材質とし
てはチタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸マ
グネシウム、チタン酸カルシウム等が使用される。チタ
ン酸カルシウムはＣａＴｉＯ３とＴｉｅ、　　の固溶体
とし、チタン酸マグネシウムはＭｇＴｉＯｓとＭｇＯの
固溶体にすることにより熱膨張係数を変化させることが
可能である。本実施例では熱膨張係＆１１４Ｘ１０７℃
、ビッカース硬度８００ｋｇ／ｌｎ　　のセラミックス
板（１υを使用した。また、セラミックス板（ＩＧとフ
ェライト板１１１とを融着させる高融点がラス０ｚの組
成比及び諸性質を第１３図に示す。この前ξ積層板ｕ３
をうｑプ処理等により平行度よく且つ平面度よく加工を
行なった後に、第４図１こ示すように積層板（１３１の
ギヤ・ノブ形成面０４１Ｉこ所定の角度を有する切溝（
１９を回転砥石等により複数（固平行に形成する。前記
切ｉＪＯωを設けるこ吉により積ｆ＜Ｊ板（１３にはセ
ンダスト膜形成面としての斜面（１５ａ）が形成される
。尚、この斜面の角度は２０’〜７０’であることが望
ましい。前記角度を９０’にした場合、テープ当接面上
でセンダスト膜の面積が極めて大きくなり、耐摩耗性の
上で問題となるので、前述の２０°〜７０°が望ましい
のである。

次に、前記積層板（１３１に対し真空薄膜形成技術によ
りセンダストを被着し、第５図に示すように前２斜面（
１５ａ）上にセンダスト膜（１６）を形成する。センダ
ストの代りにアモルファス合金等を使用してもよい。

前記センダスト膜印によって囲まれる切溝にはガラス等
の非磁性体（１７１を充填する。しかる後、上面に被着
している不要な不要なセンダスト膜（１θを平面研削し
て除去した後に鏡面仕上げを行なう。非破性体Ｑ７１と
して使用する低融点ガラスの組成比と緒特性を第１４図
に示す。その軟化温度は４３０℃、熱膨張係数は１０１
　Ｘ　１０　　／’Ｃ程度である。

以上の工程によって第６図に示すコアプロ、・ツク０３
を２個作成し、これら２個のコアブローツクのうち一方
のコアブロック止′（第７図）に対して切溝０りに直交
する方向に巻線溝Ｇ’ＪＩとガラス充填溝００１の加工
を行なう。このとき、後工程の加工によりテープ当接面
になるところ＋Ｃ＋からギャップデプスになるところの
）までの部分はセラミ−！クス板（仰向１こ位置せしめ
る。

前記コアブロックａ８１ａ８１’はその一方又は双方に
スパツクにより５ｉ−０２や−Ａ７？、０３等のギャッ
プスベヅサを互いに対接され且つ接合されて第８図のよ
うＩこ合体さね、る。その際、ガラス充填溝■に棒状の
低融点のガラスを挿入し、これを溶融してコアプロ・ツ
クＱ８１　（１８１’を接合する。低融点ガラス■の軟
化温度は４３０℃、熱膨張係ツζは１０１Ｘ１０−７ｉ
℃とした。

次に、第８図の合体物をガラス充填溝ω付近で切断して
第９図の単位ブローツクＰ２１）を得、この単位ブロッ
クＣ１ｌのテープ当接面にＲ付は加工を施こす。

最後に、単位プロ・ツクｃ２１Ｊの長手方向とは直角な
方向にスライスして第１図１こ示す形のヘッドチップ力
を複数個得る。このへ・ラドチップ■には更にコイルが
巻装されて磁気ヘッドが完成する。

以上のようにして製造された磁気ヘッドは、作動ギャッ
プｔＧｌを有するテープ当接面Ｇの殆んどの部分を硬度
の高いセラミックス０■が占める。テープ当接面のにお
いてセンダスト膜００は非磁性体αηを挾んでセラミッ
クスａ■と対峙するので、擬似ギャップを生じない。セ
ラミ・ノクスαＧの後方に接合されたフェライト（１１
）はセンダスト膜ト繋ってイルので磁路を構成する。そ
のため、磁気へラドの磁気抵抗（ま小さく磁気的効率は
高まる。

（ト）　発明の効果 本発明の磁気ヘッドによればテープ当接面の殆んどの部
分を硬度の高いセラミックスで占めることかできるので
、耐摩耗性が従来例に比し、著しく向上する。また、ト
ラック幅規定に関与する切溝がテープ当接面における擬
似ギャップを形成しないので特性が向上するばかりでな
く、その切溝を大きくする必要がないから、コア半休に
つき１つだけ前Ω切溝を形成するだけでよく、従って、
製造工数が少なくて済むという効果もある。また、本発
明の製造方法によれば、前述の磁気ヘッドが極めて好適
に形成できる。その庵、積層板に波谷形成される強磁性
金属薄膜の膜厚（匂は第１２図に示すようにトラック幅
をＴとするとｔ　＝　Ｔｓ　ｉｎＯでよいことからトラ
ック幅（Ｔｊに相当する厚さに膜付けする必要がないか
ら、磁気へ・ｌド作成に要する時間を短縮できる。尚、
θは第４図における切溝０りの斜面と積層板（１３の上
面との成す角度である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施した磁気ヘッドを示す図である。 第２図、第３図、第４図、第５図、第６図、ｆｆ１７図
、第８図及び第９図は本発明Ｉこよる製造方法を示す工
程図である。第１０図は従来の磁気ヘッドの斜視図であ
り、第１１図はその正面図である。第１２図は本発明を
実施した磁気ヘッドの正面からみた説明図であり、第１
３図及び第１４図は本発明で使用するガラスについて説
明するための図である。第１５図は従来例を示す図であ
る。 ０■・・・セラミックス、ｏｌ）・・・フェライト（強
磁性金属酸化物）、（１５１・・・切溝、口０・・・セ
ンダスト膜（金；４Ｍ膜）、Ｃｌ８１Ｉ　ａ８１’・・
・コアブロック、■・・・テープ当接面、ＩＱ＋・・・
作動ギヤーノブ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）テープ当接面を形成するように配されたセラミッ
   クスと、前記セラミックスの後方に接合された強磁性金
   属酸化物と、前記セラミックスのテープ当接面と直交す
   る方向に設けられた強磁性の金属薄膜と、前記金属薄膜
   上に設けられた作動ギャップとを備える磁気ヘッド。
2. （２）前記強磁性金属酸化物はフェライト材であり、前
   記金属薄膜はセンダスト材である特許請求の範囲第１項
   に記載の磁気ヘッド。
3. （３）セラミックスと強磁性金属酸化物を交互に積層し
   た基板の接合面に斜面を有する切溝を設け前記切溝の斜
   面上に強磁性の金属薄膜を成膜し、次いでその金属薄膜
   を研磨により前記切溝内にのみ残すようになし、このよ
   うに形成された一対のコアブロックを前記金属薄膜の上
   端同士がギャップを挾んで対向するように突き合せ且つ
   接合し、その後ヘッドチップ単位に分断することを特徴
   とする磁気ヘッドの製造方法。