JPS64376B2 - - Google Patents
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- JPS64376B2 JPS64376B2 JP58200680A JP20068083A JPS64376B2 JP S64376 B2 JPS64376 B2 JP S64376B2 JP 58200680 A JP58200680 A JP 58200680A JP 20068083 A JP20068083 A JP 20068083A JP S64376 B2 JPS64376 B2 JP S64376B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアセタールの新規な合成法に関する。
更に詳細には、下記式（）または（）で表わ
される化合物をスルホン酸の存在下でR1OHと作
用させることを特徴とする下記式（）で表わさ
れるアセタールの合成法に関する。 但し、上記式（），（）および（）におい
て、Ｒはそれぞれ置換基を有していてもよい、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基およびアラ
ルキル基より選ばれる基を表わし、phはフエニ
ル基、R1は低級アルキル基をそれぞれ表わす。 従来アセタールの合成法は数多く知られている
が、本発明によれば、下記式（）で表わされる
ように、上記式（）または（）の化合物に、
例えばＰ―トルエンスルホン酸（Ｐ―TSOH）
のごとき緩和な酸の存在下でアルコールを作用さ
せると、短時間において好収率でアセタールを生
成する。 本発明に用いられる上記（），（）で表わさ
れる化合物は、それぞれ次のような既知の方法で
容易に合成することができる。 即ち、下記式で表わされるように、例えばそれ
ぞれ公知のメトキシフエニルチオメタン、メトキ
シフエニルスルホニルメタンにブチル化リチウム
を作用させてアルカリ金属塩をつくり、これをア
ルキルハライドの如き有機ハライド又はカルボニ
ル化合物と縮合させることによつて容易につくら
れる。下記式においてR2は、上記式（）のＲ
と同様に定義される基である。 上記のように本発明は、有機ハライドまたはカ
ルボニル化合物を出発物質としてＣ―Ｃ結合の生
成による炭素数が１個増加したアセタールの一般
的合成法を提供するものである。 本発明は反応式（）に示されるように、原料
物質である式（）または式（）の化合物を少
量のスルホン酸の存在下でアルコールに溶解し短
時間還流すればよい。 アルコール（R1OH）としては、低級アルキル
脂肪族アルコールがよく、特にメタノールが、還
流温度が低く、反応が最も容易である点で最も好
ましい。またスルホン酸としてはベンゼンスルホ
ン酸、Ｐ―トルエンスルホン酸などが一般的に使
用できる。 以下実施例によつて本発明を説明する。 実施例 １ 下記式で示される原料化合物(a)100mg（0.41m
mol）を乾燥メタノールに溶解し、触媒量のＰ―
トルエンスルホン酸（Ｐ―TSOH）を加え、２
時間還流した。水で稀釈した後、ベンベンで抽出
し、重曹水で洗浄後、カラムクロマト（シリカゲ
ル、ヘキサン―エーテル＝50：１（容量））で精製
した。 下記式においてphはフエニル基を表わす（以
下の例において同じ）。 実施例 ２ 下記式で示される原料化合物(b)〜(f)を用いて、
実施例１と同様にして対応するアセタールを製造
した。 上記原料化合物(f)のように、フエニルチオ体の
場合においてβ―ヒドロキシ化合物では、転位反
応を伴なつたアセタールを生ずる。しかしなが
ら、原料化合物(d)，(e)のようにフエニルスルホニ
ル体の場合は正常のアセタールを生ずる。 上記実施例１および実施例２の原料化合物およ
び生成物の核磁気共鳴スペクトルを第１図〜第９
図に示した。なお、測定は(a)，(b)，(c)，及び(B)は
四塩化炭素、(d)は重クロロホルムをそれぞれ溶媒
とし、(e)，(f)，(D)及び(F)は無溶媒にてTMS基準
で行なつた。 また、実施例１および実施例２の原料化合物お
よび生成物の薄層クロマトによるRf値を第１表
に示した。 【表】
更に詳細には、下記式（）または（）で表わ
される化合物をスルホン酸の存在下でR1OHと作
用させることを特徴とする下記式（）で表わさ
れるアセタールの合成法に関する。 但し、上記式（），（）および（）におい
て、Ｒはそれぞれ置換基を有していてもよい、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基およびアラ
ルキル基より選ばれる基を表わし、phはフエニ
ル基、R1は低級アルキル基をそれぞれ表わす。 従来アセタールの合成法は数多く知られている
が、本発明によれば、下記式（）で表わされる
ように、上記式（）または（）の化合物に、
例えばＰ―トルエンスルホン酸（Ｐ―TSOH）
のごとき緩和な酸の存在下でアルコールを作用さ
せると、短時間において好収率でアセタールを生
成する。 本発明に用いられる上記（），（）で表わさ
れる化合物は、それぞれ次のような既知の方法で
容易に合成することができる。 即ち、下記式で表わされるように、例えばそれ
ぞれ公知のメトキシフエニルチオメタン、メトキ
シフエニルスルホニルメタンにブチル化リチウム
を作用させてアルカリ金属塩をつくり、これをア
ルキルハライドの如き有機ハライド又はカルボニ
ル化合物と縮合させることによつて容易につくら
れる。下記式においてR2は、上記式（）のＲ
と同様に定義される基である。 上記のように本発明は、有機ハライドまたはカ
ルボニル化合物を出発物質としてＣ―Ｃ結合の生
成による炭素数が１個増加したアセタールの一般
的合成法を提供するものである。 本発明は反応式（）に示されるように、原料
物質である式（）または式（）の化合物を少
量のスルホン酸の存在下でアルコールに溶解し短
時間還流すればよい。 アルコール（R1OH）としては、低級アルキル
脂肪族アルコールがよく、特にメタノールが、還
流温度が低く、反応が最も容易である点で最も好
ましい。またスルホン酸としてはベンゼンスルホ
ン酸、Ｐ―トルエンスルホン酸などが一般的に使
用できる。 以下実施例によつて本発明を説明する。 実施例 １ 下記式で示される原料化合物(a)100mg（0.41m
mol）を乾燥メタノールに溶解し、触媒量のＰ―
トルエンスルホン酸（Ｐ―TSOH）を加え、２
時間還流した。水で稀釈した後、ベンベンで抽出
し、重曹水で洗浄後、カラムクロマト（シリカゲ
ル、ヘキサン―エーテル＝50：１（容量））で精製
した。 下記式においてphはフエニル基を表わす（以
下の例において同じ）。 実施例 ２ 下記式で示される原料化合物(b)〜(f)を用いて、
実施例１と同様にして対応するアセタールを製造
した。 上記原料化合物(f)のように、フエニルチオ体の
場合においてβ―ヒドロキシ化合物では、転位反
応を伴なつたアセタールを生ずる。しかしなが
ら、原料化合物(d)，(e)のようにフエニルスルホニ
ル体の場合は正常のアセタールを生ずる。 上記実施例１および実施例２の原料化合物およ
び生成物の核磁気共鳴スペクトルを第１図〜第９
図に示した。なお、測定は(a)，(b)，(c)，及び(B)は
四塩化炭素、(d)は重クロロホルムをそれぞれ溶媒
とし、(e)，(f)，(D)及び(F)は無溶媒にてTMS基準
で行なつた。 また、実施例１および実施例２の原料化合物お
よび生成物の薄層クロマトによるRf値を第１表
に示した。 【表】
第１図〜第６図は実施例１および実施例２に用
いた原料化合物ａ〜ｆのそれぞれの核磁気共鳴ス
ペクトルを示し、第７図〜第９図は上記実施例に
よつて得られた生成物Ｂ，Ｄ及びＦのそれぞれの
核磁気共鳴スペクトルを示す。
いた原料化合物ａ〜ｆのそれぞれの核磁気共鳴ス
ペクトルを示し、第７図〜第９図は上記実施例に
よつて得られた生成物Ｂ，Ｄ及びＦのそれぞれの
核磁気共鳴スペクトルを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式（）または（）で表わされる化合
物をスルホン酸の存在下でR1OHと作用させるこ
とを特徴とする下記式（）で表わされるアセタ
ールの合成法。 但し、上記式（），（）および（）におい
て、Ｒはそれぞれ置換基を有していてもよい、ア
ルキル基、アルケニル基、アリール基およびアラ
ルキル基より選ばれる基を表わし、phはフエニ
ル基、R1は低級アルキル基をそれぞれ表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200680A JPS6092231A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アセタ−ルの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58200680A JPS6092231A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アセタ−ルの合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092231A JPS6092231A (ja) | 1985-05-23 |
| JPS64376B2 true JPS64376B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=16428457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58200680A Granted JPS6092231A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | アセタ−ルの合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092231A (ja) |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP58200680A patent/JPS6092231A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6092231A (ja) | 1985-05-23 |
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