JPS6445171U - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6445171U
JPS6445171U JP13471887U JP13471887U JPS6445171U JP S6445171 U JPS6445171 U JP S6445171U JP 13471887 U JP13471887 U JP 13471887U JP 13471887 U JP13471887 U JP 13471887U JP S6445171 U JPS6445171 U JP S6445171U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
pulling
compound semiconductor
pressure vessel
semiconductor single
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13471887U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH052614Y2 (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP13471887U priority Critical patent/JPH052614Y2/ja
Publication of JPS6445171U publication Critical patent/JPS6445171U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH052614Y2 publication Critical patent/JPH052614Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による上軸が圧力シール部に装
着されているところを示す断面図、第2図は従来
の上軸が圧力シール部に装着されているところを
示す断面図、第3図はLEC法による単結晶引上
げ装置の要部断面図である。 1……圧力容器、2……不活性ガス雰囲気、3
……上軸、4……下軸、5a,5b……圧力シー
ル部、6……ヒーター、7……るつぼ、8……サ
セプタ、9……断熱壁、10……原料融液、11
……B融液、12……単結晶、13……種
結晶、14……Oリング、15……本考案による
上軸、16……腐食した従来の上軸。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 高圧ガスを圧力容器内に満たし、単結晶を
    回転、引上げるための上軸と、るつぼの保持、回
    転のための下軸を圧力シール部を軸通して設置し
    、圧力容器の外側から該上下を軸を回転させる単
    結晶引上方法による化合物半導体単結晶の引上装
    置において、前記上下軸のうち少なくとも上軸の
    外径が圧力容器内側において、圧力シール部側よ
    りもるつぼ側において、より小さく形成されてい
    ることを特徴とする化合物半導体単結晶の引上装
    置。 (2) 前記上下軸のうち、外径がより小さく形成
    されている部分が耐食材により包囲されているこ
    とを特徴とする実用新案登録請求の範囲第1項記
    載の化合物半導体単結晶の引上装置。
JP13471887U 1987-09-03 1987-09-03 Expired - Lifetime JPH052614Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13471887U JPH052614Y2 (ja) 1987-09-03 1987-09-03

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13471887U JPH052614Y2 (ja) 1987-09-03 1987-09-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6445171U true JPS6445171U (ja) 1989-03-17
JPH052614Y2 JPH052614Y2 (ja) 1993-01-22

Family

ID=31393723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13471887U Expired - Lifetime JPH052614Y2 (ja) 1987-09-03 1987-09-03

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH052614Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH052614Y2 (ja) 1993-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10158091A (ja) 単結晶の製造装置および製造方法
JPH01153590A (ja) 真空窯内で単結晶を引き上げる際に溶融るつぼに溶融材料を連続的に供給するための装置
JPS6445171U (ja)
JPS60251191A (ja) 高解離圧化合物単結晶成長方法
JPH0314800B2 (ja)
JP2585276B2 (ja) CdTe結晶の製造装置
JPS6476992A (en) Apparatus for growing single crystal
JPS59226127A (ja) 高融点高靭性金属の製造装置
JPS6021900A (ja) 化合物半導体単結晶製造装置
JP2664085B2 (ja) 化合物半導体単結晶の製造装置
JPS6144792A (ja) シリコン単結晶引上装置
JP2785578B2 (ja) シリコン単結晶の引上げ装置
JP2706272B2 (ja) 化合物半導体単結晶の成長方法
JPH0566351B2 (ja)
JPS6077195A (ja) 3―5族化合物半導体単結晶の製造装置
JPH0266680U (ja)
JPH01122995A (ja) 化合物半導体単結晶の成長方法
JPS58181792A (ja) 単結晶シリコン引上装置
JPH01246191A (ja) 単結晶引上装置
JPS55113693A (en) Semiconductor single crystal producing device
JPH0535119B2 (ja)
JPH01164794A (ja) 単結晶の引上方法
JPS61281095A (ja) 結晶成長用アンプル
JPH0416591A (ja) 化合物半導体の単結晶引き上げ装置
JPH0255287A (ja) 単結晶成長装置