JPS6447033U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6447033U JPS6447033U JP14202987U JP14202987U JPS6447033U JP S6447033 U JPS6447033 U JP S6447033U JP 14202987 U JP14202987 U JP 14202987U JP 14202987 U JP14202987 U JP 14202987U JP S6447033 U JPS6447033 U JP S6447033U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- stage
- semiconductor wafer
- low
- wafer mounting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例を示す構成図、第2
図は第1図の適用例を示す構成図、第3図は温度
制御図、第4図は従来のドライエツチング装置を
示す構成図である。 1…半導体ウエハー、2…半導体ウエハー載置
ステージ、3…高温用恒温循環器、4…低温用恒
温循環器、5…温度計、6…対向電極、7…真空
チヤンバ。
図は第1図の適用例を示す構成図、第3図は温度
制御図、第4図は従来のドライエツチング装置を
示す構成図である。 1…半導体ウエハー、2…半導体ウエハー載置
ステージ、3…高温用恒温循環器、4…低温用恒
温循環器、5…温度計、6…対向電極、7…真空
チヤンバ。
Claims (1)
- 半導体ウエハー載置ステージ部に高温用媒体を
循環させて該ステージ部を加熱する高温用恒温循
環部と、半導体ウエハー載置ステージに低温用媒
体を循環させて該ステージ部を冷却する低温用恒
温循環器部と、バルブの開閉を制御して高温用或
いは低温用恒温循環器により半導体ウエハー載置
ステージの加熱と冷却を行う制御部とを有するこ
とを特徴とするドライエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14202987U JPS6447033U (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14202987U JPS6447033U (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6447033U true JPS6447033U (ja) | 1989-03-23 |
Family
ID=31407618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14202987U Pending JPS6447033U (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6447033U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07169824A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-04 | Anelva Corp | 基板加熱・冷却機構 |
| JP2002353298A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置 |
-
1987
- 1987-09-17 JP JP14202987U patent/JPS6447033U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07169824A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-07-04 | Anelva Corp | 基板加熱・冷却機構 |
| JP2002353298A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 載置装置 |
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