JPS645025B2 - - Google Patents
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- JPS645025B2 JPS645025B2 JP56036298A JP3629881A JPS645025B2 JP S645025 B2 JPS645025 B2 JP S645025B2 JP 56036298 A JP56036298 A JP 56036298A JP 3629881 A JP3629881 A JP 3629881A JP S645025 B2 JPS645025 B2 JP S645025B2
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Landscapes
- Quinoline Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、３，４，５，６，７，８―ヘキサヒ
ドロカルボスチリル―５―オンの新規な製造法に
関する。
ドロカルボスチリル―５―オンの新規な製造法に
関する。
従来の技術及びその問題点
式
で示される３，４，５，６，７，８―ヘキサヒド
ロカルボスチリル―５―オンは、後記に示す通り
例えばβ―ブロツカー剤を合成するための中間体
として重要な公知の５―ヒドロキシ―３，４―ジ
ヒドロカルボスチリル又は５―ヒドロキシカルボ
スチリルに誘導し得る有用な化合物である。
ロカルボスチリル―５―オンは、後記に示す通り
例えばβ―ブロツカー剤を合成するための中間体
として重要な公知の５―ヒドロキシ―３，４―ジ
ヒドロカルボスチリル又は５―ヒドロキシカルボ
スチリルに誘導し得る有用な化合物である。
従来、３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロ
カルボスチリル―５―オンの製造法としては、例
えば式 で示される３―アミノシクロヘキセノンにメチル
プロピオレートを反応させる方法が知られてい
る〔テトラヘドロン レターズ，No.１，pp.87―
90（1966）参照〕。しかしながら、この方法に従え
ば目的とする３，４，５，６，７，８―ヘキサヒ
ドロカルボスチリル―５―オンが44％程度の低収
率で得られるに過ぎない。
カルボスチリル―５―オンの製造法としては、例
えば式 で示される３―アミノシクロヘキセノンにメチル
プロピオレートを反応させる方法が知られてい
る〔テトラヘドロン レターズ，No.１，pp.87―
90（1966）参照〕。しかしながら、この方法に従え
ば目的とする３，４，５，６，７，８―ヘキサヒ
ドロカルボスチリル―５―オンが44％程度の低収
率で得られるに過ぎない。
発明の開示
本発明者は、斯かる現状に鑑み、３，４，５，
６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―
オンを好収率且つ好純度で製造し得る方法を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、３―アミノシクロ
ヘキセノンにアクリル酸を反応させることによ
り、本発明の所期の目的が達成され得ることを見
い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成さ
れたものである。
６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―
オンを好収率且つ好純度で製造し得る方法を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、３―アミノシクロ
ヘキセノンにアクリル酸を反応させることによ
り、本発明の所期の目的が達成され得ることを見
い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成さ
れたものである。
即ち、本発明は、３―アミノシクロヘキセノン
とアクリル酸とを加熱反応させることにより、
３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボス
チリル―５―オンを得ることを特徴とする３，
４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリ
ル―５―オンの製造法に係るものである。
とアクリル酸とを加熱反応させることにより、
３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボス
チリル―５―オンを得ることを特徴とする３，
４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリ
ル―５―オンの製造法に係るものである。
本発明において出発原料として用いられる３―
アミノシクロヘキセノン及びアクリル酸はいずれ
も入手容易な公知化合物である。
アミノシクロヘキセノン及びアクリル酸はいずれ
も入手容易な公知化合物である。
３―アミノシクロヘキセノンとアクリル酸との
反応は無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる
が、無溶媒中にて反応を行なうのが好ましい。３
―アミノシクロヘキセノンとアクリル酸との使用
割合としては通常前者に対して後者を少なくとも
等モル量度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用
いるのがよい。該反応の反応温度としては特に限
定されず広い範囲内で適宜選択すればよいが、通
常100〜250℃程度、好ましくは100〜150℃とする
のがよい。該反応は一般に１〜６時間程度で完結
し、反応混合物を慣用手段、例えば再結晶等の処
理を施すことにより目的とする３，４，５，６，
７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―オン
を容易に得ることができる。
反応は無溶媒下又は適当な溶媒中にて行なわれる
が、無溶媒中にて反応を行なうのが好ましい。３
―アミノシクロヘキセノンとアクリル酸との使用
割合としては通常前者に対して後者を少なくとも
等モル量度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用
いるのがよい。該反応の反応温度としては特に限
定されず広い範囲内で適宜選択すればよいが、通
常100〜250℃程度、好ましくは100〜150℃とする
のがよい。該反応は一般に１〜６時間程度で完結
し、反応混合物を慣用手段、例えば再結晶等の処
理を施すことにより目的とする３，４，５，６，
７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―オン
を容易に得ることができる。
本発明の方法には、原料化合物の入手が容易で
ある、反応操作が簡便である、特殊な反応装置を
必要としない、反応混合物からの目的化合物の分
離、精製が極めて容易である、目的化合物を好収
率且つ好純度で得ることができる、等の種々の利
点があり、それ故本発明の方法は３，４，５，
６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―
オンの製造法として工業的に極めて有利な方法で
あるということができる。
ある、反応操作が簡便である、特殊な反応装置を
必要としない、反応混合物からの目的化合物の分
離、精製が極めて容易である、目的化合物を好収
率且つ好純度で得ることができる、等の種々の利
点があり、それ故本発明の方法は３，４，５，
６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―
オンの製造法として工業的に極めて有利な方法で
あるということができる。
斯くして得られる３，４，５，６，７，８―ヘ
キサヒドロカルボスチリル―５―オンを脱水素す
ることにより５―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロ
カルボスチリル及び５―ヒドロキシカルボスチリ
ルを製造し得る。３，４，５，６，７，８―ヘキ
サヒドロカルボスチリル―５―オンの脱水素反応
は脱水素剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれ
る。用いられる脱水素剤としては例えばパラジウ
ム、パラジウム炭素等のパラジウム系脱水素触
媒、ラネーニツケル等のニツケル系脱水素触媒等
の貴金属系脱水素触媒、２，３，５，６―テトラ
クロルベンゾキノン等を挙げることができ、この
うちパラジウム系脱水素触媒が好適である。斯か
る脱水素剤の使用量としては原料である３，４，
５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―
５―オンに対して通常１〜50重量％、好ましくは
１〜５重量％用いるのがよい。また溶媒としては
高沸点の不溶性溶媒であれば特に制限はないが、
例えばデカリン等の飽和炭化水素系溶媒が好まし
い。脱水素反応は通常80〜250℃、好ましくは150
〜200℃にて行なわれる。３，４，５，６，７，
８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―オンの脱
水素反応はまず窒素原子を含まない環において優
先的に進行する。それ故適当な時間で該反応を終
了させれば５―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロカ
ルボスチリルを収率良く得ることができる。また
該反応の反応時間を充分に長くすれば、窒素原子
を含む環においても脱水素反応が起こり、５―ヒ
ドロキシカルボスチリルを収率良く得ることがで
きる。斯くして得られる５―ヒドロキシ―３，４
―ジヒドロカルボスチリル及び５―ヒドロキシカ
ルボスチリルはそれぞれ慣用の単離手段例えば再
結晶等により反応混合物から容易に単離、精製さ
れる。
キサヒドロカルボスチリル―５―オンを脱水素す
ることにより５―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロ
カルボスチリル及び５―ヒドロキシカルボスチリ
ルを製造し得る。３，４，５，６，７，８―ヘキ
サヒドロカルボスチリル―５―オンの脱水素反応
は脱水素剤の存在下適当な溶媒中にて行なわれ
る。用いられる脱水素剤としては例えばパラジウ
ム、パラジウム炭素等のパラジウム系脱水素触
媒、ラネーニツケル等のニツケル系脱水素触媒等
の貴金属系脱水素触媒、２，３，５，６―テトラ
クロルベンゾキノン等を挙げることができ、この
うちパラジウム系脱水素触媒が好適である。斯か
る脱水素剤の使用量としては原料である３，４，
５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボスチリル―
５―オンに対して通常１〜50重量％、好ましくは
１〜５重量％用いるのがよい。また溶媒としては
高沸点の不溶性溶媒であれば特に制限はないが、
例えばデカリン等の飽和炭化水素系溶媒が好まし
い。脱水素反応は通常80〜250℃、好ましくは150
〜200℃にて行なわれる。３，４，５，６，７，
８―ヘキサヒドロカルボスチリル―５―オンの脱
水素反応はまず窒素原子を含まない環において優
先的に進行する。それ故適当な時間で該反応を終
了させれば５―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロカ
ルボスチリルを収率良く得ることができる。また
該反応の反応時間を充分に長くすれば、窒素原子
を含む環においても脱水素反応が起こり、５―ヒ
ドロキシカルボスチリルを収率良く得ることがで
きる。斯くして得られる５―ヒドロキシ―３，４
―ジヒドロカルボスチリル及び５―ヒドロキシカ
ルボスチリルはそれぞれ慣用の単離手段例えば再
結晶等により反応混合物から容易に単離、精製さ
れる。
以下に実施例及び参考例を挙げる。
実施例
３―アミノシクロヘキセノン33.3ｇ（0.3モル）
とアクリル酸2.6ｇ（0.36モル）とを混合し、140
℃で３時間加熱する。生成する固体をメタノール
より再結晶して３，４，５，６，７，８―ヘキサ
ヒドロカルボスチリル―５―オン47ｇ（収率95
％）を得る。
とアクリル酸2.6ｇ（0.36モル）とを混合し、140
℃で３時間加熱する。生成する固体をメタノール
より再結晶して３，４，５，６，７，８―ヘキサ
ヒドロカルボスチリル―５―オン47ｇ（収率95
％）を得る。
融点 194〜195℃
IR（KBr）：3200，3100，1685，1625，820cm-1
NMR δ（ppm）：9.90（ｍ，1H）
2.95〜1.60（ｍ，10H）
参考例 １
３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボ
スチリル―５―オン1.65ｇ（0.01モル）と10％パ
ラジウム炭素0.5ｇとをデカリン20ml中に加え、
３時間加熱還流し、メタノールより再結晶して５
―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロカルボスチリル
1.21ｇ（収率74％）を得る。
スチリル―５―オン1.65ｇ（0.01モル）と10％パ
ラジウム炭素0.5ｇとをデカリン20ml中に加え、
３時間加熱還流し、メタノールより再結晶して５
―ヒドロキシ―３，４―ジヒドロカルボスチリル
1.21ｇ（収率74％）を得る。
融点 232〜233℃
IR（KBr）：3150，1650，1600，785，705cm-1
NMR δ（ppm）：9.95（Ｓ，1H）
7.45〜6.23（ｍ，3H）
3.16〜2.23（ｍ，4H）
参考例 ２
３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカルボ
スチリル―５―オン1.65ｇ（0.01モル）と10％パ
ラジウム炭素0.5ｇとをデカリン20ml中に加え、
24時間加熱還流し、メタノールより再結晶して５
―ヒドロキシカルボスチリル1.30ｇ（収率81％）
を得る。
スチリル―５―オン1.65ｇ（0.01モル）と10％パ
ラジウム炭素0.5ｇとをデカリン20ml中に加え、
24時間加熱還流し、メタノールより再結晶して５
―ヒドロキシカルボスチリル1.30ｇ（収率81％）
を得る。
融点 335℃
IR（KBr）：3000，1640，1600，875，790cm-1
NMR δ（ppm）：8.07（ｄ、Ｊ＝10.5Hz，1H）
7.24（ｄ，ｄ、Ｊ＝7.5Hz、7.5Hz、1H）
6.63（ｄ，ｄ、Ｊ＝7.5Hz、7.5Hz、2H）
6.35（ｄ、Ｊ＝10.5Hz、1H）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 で示される３―アミノシクロヘキセノンとアクリ
ル酸とを加熱反応させることにより式 で示される３，４，５，６，７，８―ヘキサヒド
ロカルボスチリル―５―オンを得ることを特徴と
する３，４，５，６，７，８―ヘキサヒドロカル
ボスチリル―５―オンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56036298A JPS57149270A (en) | 1981-03-12 | 1981-03-12 | Preparation of 3,4,5,6,7,8-hexahydrocarbostyril-5-one |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56036298A JPS57149270A (en) | 1981-03-12 | 1981-03-12 | Preparation of 3,4,5,6,7,8-hexahydrocarbostyril-5-one |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57149270A JPS57149270A (en) | 1982-09-14 |
| JPS645025B2 true JPS645025B2 (ja) | 1989-01-27 |
Family
ID=12465900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56036298A Granted JPS57149270A (en) | 1981-03-12 | 1981-03-12 | Preparation of 3,4,5,6,7,8-hexahydrocarbostyril-5-one |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57149270A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5919095B2 (ja) * | 1977-06-22 | 1984-05-02 | 大塚製薬株式会社 | キノリン誘導体及びその製造法 |
-
1981
- 1981-03-12 JP JP56036298A patent/JPS57149270A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57149270A (en) | 1982-09-14 |
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