JPS645735B2 - - Google Patents
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- JPS645735B2 JPS645735B2 JP55143753A JP14375380A JPS645735B2 JP S645735 B2 JPS645735 B2 JP S645735B2 JP 55143753 A JP55143753 A JP 55143753A JP 14375380 A JP14375380 A JP 14375380A JP S645735 B2 JPS645735 B2 JP S645735B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は無機物質を含有する出発混合物に、あ
とで燃焼により除去される重合体有機物質を添加
する無機物質の成形物および層の製造方法に関す
るものである。
とで燃焼により除去される重合体有機物質を添加
する無機物質の成形物および層の製造方法に関す
るものである。
ここに成形物とは、例えば成形したセラミツク
物品を意味するものとする。無機物質が関係する
場合においては、成形物は例えばフエライトを基
にして製造される。これ等の場合、重合体物質は
例えば結合剤として成立つ。西独公開特許第
2509696号には、例えば焼結セラミツクの製造方
法が記載されており、この方法では焼結し得るセ
ラミツク物質および可燃性有機結合剤を含有する
セラミツクブランクを加熱して有機結合剤を分解
する。
物品を意味するものとする。無機物質が関係する
場合においては、成形物は例えばフエライトを基
にして製造される。これ等の場合、重合体物質は
例えば結合剤として成立つ。西独公開特許第
2509696号には、例えば焼結セラミツクの製造方
法が記載されており、この方法では焼結し得るセ
ラミツク物質および可燃性有機結合剤を含有する
セラミツクブランクを加熱して有機結合剤を分解
する。
また無機物質の層と称するは、例えば螢光スク
リーンの螢光層を意味するものとする。英国特許
第1135656号明細書および西独公開特許第1948017
号明細書には、例えば陰極線管用螢光スクリーン
の製造方法が記載されている。西独公開特許第
1948017号に記載されている方法においては、螢
光スクリーン支持体上に被着する沈降液中に導入
する螢光物質を螢光スクリーン支持体上に堆積さ
せる。例えば0.2〜１％ポリビニルアルコール溶
液を沈降液として使用する。螢光物質が支持体上
に沈降した後、沈降液をデカンテーシヨンする。
然る後、螢光スクリーンを乾燥し、次いで約１時
間半乃至２時間約430℃の温度で加熱する。英国
特許第1135656号明細書によると、カラー受像管
の螢光スクリーン用の複数の螢光物質のドツトパ
ターンの製造方法には、個々の螢光スクリーン成
分を組込んだ感光性抵抗成分の連続する層を形成
することおよびかかる螢光物質用の有機結合剤を
除去することが含まれる。かかる螢光スクリーン
の個々の色成分（赤、青、緑）を形成するための
螢光物質をスクリーン表面上に、かかる物質を含
有する感光性フイルムの所定領域を化学線に露出
し、次いでこの露出したフイルムを現像して個々
の螢光物質を形成することにより１つずつ被着す
る。使用する螢光物質を含有する感光性被覆組成
物は、就中有機コロイド、感光剤および螢光物質
を含有する。被覆組成物の約２〜５％を形成する
有機コロイドはコロイド状ポリビニルアルコール
またはコロイド状ポリ酢酸ビニルとすることがで
きる。またこの方法では螢光スクリーンを最後に
加熱して複合抵抗層の光で硬化したポリビニルア
ルコールまたは他の有機コロイドを揮発させ除去
し、緑、青および赤の螢光物質成分から成る所望
パターンが三つ組または線パターンとしてあとに
残る。
リーンの螢光層を意味するものとする。英国特許
第1135656号明細書および西独公開特許第1948017
号明細書には、例えば陰極線管用螢光スクリーン
の製造方法が記載されている。西独公開特許第
1948017号に記載されている方法においては、螢
光スクリーン支持体上に被着する沈降液中に導入
する螢光物質を螢光スクリーン支持体上に堆積さ
せる。例えば0.2〜１％ポリビニルアルコール溶
液を沈降液として使用する。螢光物質が支持体上
に沈降した後、沈降液をデカンテーシヨンする。
然る後、螢光スクリーンを乾燥し、次いで約１時
間半乃至２時間約430℃の温度で加熱する。英国
特許第1135656号明細書によると、カラー受像管
の螢光スクリーン用の複数の螢光物質のドツトパ
ターンの製造方法には、個々の螢光スクリーン成
分を組込んだ感光性抵抗成分の連続する層を形成
することおよびかかる螢光物質用の有機結合剤を
除去することが含まれる。かかる螢光スクリーン
の個々の色成分（赤、青、緑）を形成するための
螢光物質をスクリーン表面上に、かかる物質を含
有する感光性フイルムの所定領域を化学線に露出
し、次いでこの露出したフイルムを現像して個々
の螢光物質を形成することにより１つずつ被着す
る。使用する螢光物質を含有する感光性被覆組成
物は、就中有機コロイド、感光剤および螢光物質
を含有する。被覆組成物の約２〜５％を形成する
有機コロイドはコロイド状ポリビニルアルコール
またはコロイド状ポリ酢酸ビニルとすることがで
きる。またこの方法では螢光スクリーンを最後に
加熱して複合抵抗層の光で硬化したポリビニルア
ルコールまたは他の有機コロイドを揮発させ除去
し、緑、青および赤の螢光物質成分から成る所望
パターンが三つ組または線パターンとしてあとに
残る。
米国特許第3856518号（西独特許第1358147号に
対応する）明細書からカラーテレビジヨン受像管
の受像スクリーンの電子写真製造において、加熱
により除去することができる導電性層と光電導性
層を受像管のフエースプレート上の導電性層上に
被着し、然る後第１のパターンおよび次のパター
ンの螢光物質成分並びに螢光物質成分間の光吸収
層を電子写真的に被着し、然る後フエースプレー
トを加熱して導電性層および光電導性層を除去す
る。
対応する）明細書からカラーテレビジヨン受像管
の受像スクリーンの電子写真製造において、加熱
により除去することができる導電性層と光電導性
層を受像管のフエースプレート上の導電性層上に
被着し、然る後第１のパターンおよび次のパター
ンの螢光物質成分並びに螢光物質成分間の光吸収
層を電子写真的に被着し、然る後フエースプレー
トを加熱して導電性層および光電導性層を除去す
る。
導電性層は通常重合体、例えばポリ−ジアリル
−ジメチルアンモニウムクロリド、ポリビニルベ
ンジル−トリメチル−アンモニウムクロリド、ス
チレンとマレイン酸ナトリウム若しくはカリウム
との共重合体および第三アミンで四級化したポリ
エピクロルヒドリンから成る。光導電性層は通常
重合体、例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
（PVK）、ポリ−アセナフチレンおよびポリ−９
−アクリロイルカルバゾールから成る。これ等の
物質は通常溶液の形態でフエースプレートまたは
前の層上に被着し、然る後溶媒を蒸発させる。通
常の溶媒はクロルベンゼン、テトラヒドロフラン
（THF）、塩化メチレンまたはテトラクロロエタ
ン（PVK用）、トルエンまたはクロロホルム（ポ
リアセナフチレン用）およびベンゼンまたはクロ
ロホルム（ポリ−９−アクリロイルカルバゾール
用）である。
−ジメチルアンモニウムクロリド、ポリビニルベ
ンジル−トリメチル−アンモニウムクロリド、ス
チレンとマレイン酸ナトリウム若しくはカリウム
との共重合体および第三アミンで四級化したポリ
エピクロルヒドリンから成る。光導電性層は通常
重合体、例えばポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール
（PVK）、ポリ−アセナフチレンおよびポリ−９
−アクリロイルカルバゾールから成る。これ等の
物質は通常溶液の形態でフエースプレートまたは
前の層上に被着し、然る後溶媒を蒸発させる。通
常の溶媒はクロルベンゼン、テトラヒドロフラン
（THF）、塩化メチレンまたはテトラクロロエタ
ン（PVK用）、トルエンまたはクロロホルム（ポ
リアセナフチレン用）およびベンゼンまたはクロ
ロホルム（ポリ−９−アクリロイルカルバゾール
用）である。
重合体物質、例えば結合剤、沈降液、導電性層
および光電導性層のベーキングは通常約450℃で
熱処理することにより行い、ベーキング温度は物
質の形により左右され、即ち成形物および層に含
まれる重合体物質の分解温度により決まる。これ
は大きい高価な炉を必要とするので、エネルギー
の費用がかなりかかる。更に、ベーキング温度が
高いとしばしば成形物が収縮するかまたはフエー
スプレートがゆがみ、フエースプレートと孔のマ
スクとの間の距離を局部的に変える。更に不良品
の数が多くなるか、または高い後処理費用がかか
る。
および光電導性層のベーキングは通常約450℃で
熱処理することにより行い、ベーキング温度は物
質の形により左右され、即ち成形物および層に含
まれる重合体物質の分解温度により決まる。これ
は大きい高価な炉を必要とするので、エネルギー
の費用がかなりかかる。更に、ベーキング温度が
高いとしばしば成形物が収縮するかまたはフエー
スプレートがゆがみ、フエースプレートと孔のマ
スクとの間の距離を局部的に変える。更に不良品
の数が多くなるか、または高い後処理費用がかか
る。
本発明の目的は重合体有機物質、例えば前記結
合剤、沈降液、導電性および光電導性物質のベー
キングを促進し、ベーキングを比較的低温度で実
施せんとするにある。
合剤、沈降液、導電性および光電導性物質のベー
キングを促進し、ベーキングを比較的低温度で実
施せんとするにある。
重合体成分を消失させる本質的に酸化分解であ
るベーキングをこれまで知られているより低い温
度で、(a)ベーキング期間を一層長くすることな
く、(b)成形物および層の特性に有害な影響を与え
ることなく、実施する優れたベーキング処理を提
供しなければならない。
るベーキングをこれまで知られているより低い温
度で、(a)ベーキング期間を一層長くすることな
く、(b)成形物および層の特性に有害な影響を与え
ることなく、実施する優れたベーキング処理を提
供しなければならない。
本発明において、この目的は無機物質を含有す
る出発混合物に、あとで燃焼により除去される重
合体有機物質を添加する無機物質の成形物および
層の製造方法において、次の一般式 MRo （式中のＭはV〓、Mo〓、Mo〓、Io〓、Ca、Cp〓、Ni
〓、（VO）〓または（VO）〓、ｎは２または３、Ｒ
はポリ不飽和化合物、アミノアルコール、カルボ
ン酸、ヒドロキシカルボン酸、メルカプトカルボ
ン酸、エノール化性ケトン、ケトオキシム、アル
ドオキシム、アミンおよびフオスフインから成る
群から選ばれた化合物の有機残基を示す）で表わ
され、150〜420℃に加熱する場合Ｍの酸化物にな
り得る金属有機化合物の少くとも１種を、出発混
合物に溶解するかまたは溶解した状態で出発混合
物に添加することを特徴とする無機物質の成形物
および層を製造する方法により達成される。
る出発混合物に、あとで燃焼により除去される重
合体有機物質を添加する無機物質の成形物および
層の製造方法において、次の一般式 MRo （式中のＭはV〓、Mo〓、Mo〓、Io〓、Ca、Cp〓、Ni
〓、（VO）〓または（VO）〓、ｎは２または３、Ｒ
はポリ不飽和化合物、アミノアルコール、カルボ
ン酸、ヒドロキシカルボン酸、メルカプトカルボ
ン酸、エノール化性ケトン、ケトオキシム、アル
ドオキシム、アミンおよびフオスフインから成る
群から選ばれた化合物の有機残基を示す）で表わ
され、150〜420℃に加熱する場合Ｍの酸化物にな
り得る金属有機化合物の少くとも１種を、出発混
合物に溶解するかまたは溶解した状態で出発混合
物に添加することを特徴とする無機物質の成形物
および層を製造する方法により達成される。
ベーキング中実際に有効である成分は金属酸化
物である。この酸化物は重合体有機物質に適当で
ある溶媒、例えばクロルベンゼンまたはテトラヒ
ドロフランに不溶性であるので、これ等の溶媒に
適当に可溶性であり、ベーキング中酸化物になる
金属有機化合物を選定してこの酸化物が成形物中
または層中に均一に分子状で分布しベーキングを
最大限に促進させるようにする。
物である。この酸化物は重合体有機物質に適当で
ある溶媒、例えばクロルベンゼンまたはテトラヒ
ドロフランに不溶性であるので、これ等の溶媒に
適当に可溶性であり、ベーキング中酸化物になる
金属有機化合物を選定してこの酸化物が成形物中
または層中に均一に分子状で分布しベーキングを
最大限に促進させるようにする。
ここで「適当に可溶性」と称するは、本発明の
範囲内で１〜10％（wt／wt）の溶解度を意味す
るものとする。
範囲内で１〜10％（wt／wt）の溶解度を意味す
るものとする。
炭素および水素だけでなく、酸素および／また
は窒素を含有する物質を前記種類の有機物質から
選定するのが好ましい。尚他の元素、例えば硫黄
または燐を含む化合物は酸化分解中形成する副生
成物、例えば二酸化硫黄および燐の酸化物のため
あまり好ましくない。
は窒素を含有する物質を前記種類の有機物質から
選定するのが好ましい。尚他の元素、例えば硫黄
または燐を含む化合物は酸化分解中形成する副生
成物、例えば二酸化硫黄および燐の酸化物のため
あまり好ましくない。
好適な化合物を例示すると、金属オクトエート
および金属ナフテネート並びにアセチルアセトネ
ート、酢酸エステルおよびジメチルグリオキシム
の金属化合物がある。特に好ましい化合物はマン
ガン（）アセチルアセトネートMn（C5H7O2）3、
バナジウムオキシアセチルアセトネートVO
（C5H7O2）2、バナジウムアセチルアセトネートＶ
（C5H7O2）3、トリス−（ジメチルアミノ）−バナジ
ルVO〔Ｎ（CH3）2〕である。
および金属ナフテネート並びにアセチルアセトネ
ート、酢酸エステルおよびジメチルグリオキシム
の金属化合物がある。特に好ましい化合物はマン
ガン（）アセチルアセトネートMn（C5H7O2）3、
バナジウムオキシアセチルアセトネートVO
（C5H7O2）2、バナジウムアセチルアセトネートＶ
（C5H7O2）3、トリス−（ジメチルアミノ）−バナジ
ルVO〔Ｎ（CH3）2〕である。
ベーキング温度は金属有機化合物の濃度が高く
なるに従つて低下する。重合体有機物質の重量に
対して計算して0.5〜３％の濃度で使用するのが
好ましい。
なるに従つて低下する。重合体有機物質の重量に
対して計算して0.5〜３％の濃度で使用するのが
好ましい。
金属有機化合物の定性的および定量的選定にお
いて、重合体物質、例えば結合剤、沈降液、導電
性層および光電導層の性質がベーキング前に全く
影響されないかまたは極く僅かしか影響されない
ように注意すべきである。この選定を可能にする
ため、補助的試験によりポリ−Ｎ−ビニルカルバ
ゾールの光電導性に対する、選定した化合物の負
の影響の大きさを見出すことが簡単である。更
に、選定した金属有機化合物の分解温度を補助的
試験により簡単な方法で測定することができる。
いて、重合体物質、例えば結合剤、沈降液、導電
性層および光電導層の性質がベーキング前に全く
影響されないかまたは極く僅かしか影響されない
ように注意すべきである。この選定を可能にする
ため、補助的試験によりポリ−Ｎ−ビニルカルバ
ゾールの光電導性に対する、選定した化合物の負
の影響の大きさを見出すことが簡単である。更
に、選定した金属有機化合物の分解温度を補助的
試験により簡単な方法で測定することができる。
本発明の方法の利点は、特に光電導性物質を溶
解するため少量の金属有機化合物を単に添加する
だけでベーキングの問題を解決し、成形物および
層の製造操作を変える必要がないことに存する。
解するため少量の金属有機化合物を単に添加する
だけでベーキングの問題を解決し、成形物および
層の製造操作を変える必要がないことに存する。
本発明を次の実施例につき説明する。
実施例 １
クロルベンゼン１当り60ｇのポリ−Ｎ−ビニ
ルカルバゾールおよび軟化剤としてのジアルキル
フタレート12ｇの溶液に、１重量％のマンガン
（）−トリス−２，４−ペンタンジオネート（マ
ンガン（）アセチルアセトネート）（0.6ｇ）を
添加し、混合物を透明溶液が得られるまで一夜か
きまぜた。
ルカルバゾールおよび軟化剤としてのジアルキル
フタレート12ｇの溶液に、１重量％のマンガン
（）−トリス−２，４−ペンタンジオネート（マ
ンガン（）アセチルアセトネート）（0.6ｇ）を
添加し、混合物を透明溶液が得られるまで一夜か
きまぜた。
この溶液を用い光電導性層を、既に導電性層で
被覆したフエースプレートに散布したが、クロル
ベンゼンを添加することにより粘度を再調整する
ことが可能であつた。
被覆したフエースプレートに散布したが、クロル
ベンゼンを添加することにより粘度を再調整する
ことが可能であつた。
或いはまた、クロルベンゼンの代りに、THF
および塩化メチレンを使用し、60ｇのPVKも
THFおよび塩化メチレンを夫々１当り溶解し
た。光電導層は散布しなかつたが、回転法または
ブラジにより塗布した。
および塩化メチレンを使用し、60ｇのPVKも
THFおよび塩化メチレンを夫々１当り溶解し
た。光電導層は散布しなかつたが、回転法または
ブラジにより塗布した。
高マンガン（）−アセチルアセトネート分の
溶液を得るために、上記例とは異なり、高濃度
PVK−軟化剤のフルオルベンゼンまたはTHF溶
液およびマンガン（）化合物の濃厚溶液を出発
物質として用いた。この方法でマンガス（）−
アセチルアセトネートを溶解する際の困難を回避
した。Mo（）化合物の５重量％溶液および100
ｇ／PVK溶液から出発して、これ等の所望量
を混合して約60ｇ／のPVKと３重量％のマン
ガン（）化合物（PVKの重量に対して計算し
て）を含有する溶液を得、このようにして得た混
合物を少くとも24時間かきまぜた。
溶液を得るために、上記例とは異なり、高濃度
PVK−軟化剤のフルオルベンゼンまたはTHF溶
液およびマンガン（）化合物の濃厚溶液を出発
物質として用いた。この方法でマンガス（）−
アセチルアセトネートを溶解する際の困難を回避
した。Mo（）化合物の５重量％溶液および100
ｇ／PVK溶液から出発して、これ等の所望量
を混合して約60ｇ／のPVKと３重量％のマン
ガン（）化合物（PVKの重量に対して計算し
て）を含有する溶液を得、このようにして得た混
合物を少くとも24時間かきまぜた。
然る後、３種の異なる螢光物質をスクリーンに
電子写真法で被着し、導電性および光電導性の層
をベーキングした。マンガン（）化合物を有せ
ぬ層は450℃まで加熱しなければならないが、１
または３重量％のマンガン化合物を有する層は
420℃または400℃まで加熱して有機物質を完全に
除去できた。極めて少量の残留金属酸化物は仕上
つた管において妨害する影響を及ぼさず、即ち螢
光物質の輝度は影響されなかつた。
電子写真法で被着し、導電性および光電導性の層
をベーキングした。マンガン（）化合物を有せ
ぬ層は450℃まで加熱しなければならないが、１
または３重量％のマンガン化合物を有する層は
420℃または400℃まで加熱して有機物質を完全に
除去できた。極めて少量の残留金属酸化物は仕上
つた管において妨害する影響を及ぼさず、即ち螢
光物質の輝度は影響されなかつた。
実施例 ２
実施例１に記載した如く、クロルベンゼン１
当り60ｇのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールと20％
の軟化剤を含む溶液に0.6ｇのバナジウム（）
オキシド−ビス（２，４−ペンタンジオネート）
を添加し、混合物を一夜かきまぜた。実施例１と
同様の方法で、この溶液を用いてフエースプレー
トに光電導性層を被着することができた。
当り60ｇのポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールと20％
の軟化剤を含む溶液に0.6ｇのバナジウム（）
オキシド−ビス（２，４−ペンタンジオネート）
を添加し、混合物を一夜かきまぜた。実施例１と
同様の方法で、この溶液を用いてフエースプレー
トに光電導性層を被着することができた。
また高バナジウムオキシド−トリス−アセチル
アセトネート分を有する溶液を製造することがで
きた。クロルベンゼン（またはTHF）に５重量
％のバナジウム（）−オキシド化合物を含む溶
液およびPVKの100ｇ／溶液を製造した。２溶
液を混合して60ｇ／のPVKと３重量％のバナ
ジウム（）オキシド−トリス−アセチルアセト
ネートを含む溶液を得、このようにして得た混合
物を少くとも24時間かきまぜた。然る後前述の如
く、３種の異なる螢光物質をスクリーンに塗布
し、導電性および光電導性の層をベーキングし
た。１または３重量％のバナジウム−オキシド化
合物を有する層は低温度（夫々約420℃および約
400℃）で十分ベーキングされた。
アセトネート分を有する溶液を製造することがで
きた。クロルベンゼン（またはTHF）に５重量
％のバナジウム（）−オキシド化合物を含む溶
液およびPVKの100ｇ／溶液を製造した。２溶
液を混合して60ｇ／のPVKと３重量％のバナ
ジウム（）オキシド−トリス−アセチルアセト
ネートを含む溶液を得、このようにして得た混合
物を少くとも24時間かきまぜた。然る後前述の如
く、３種の異なる螢光物質をスクリーンに塗布
し、導電性および光電導性の層をベーキングし
た。１または３重量％のバナジウム−オキシド化
合物を有する層は低温度（夫々約420℃および約
400℃）で十分ベーキングされた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 無機物質を含有する出発混合物に、あとで燃
焼により除去される重合体有機物質を添加する無
機物質の成形物および層の製造方法において、次
の一般式 MRo （式中のＭはV〓、Mo〓、Mo〓、Io〓、Ca、Co〓、
Ni〓、（VO）〓または（VO）〓、ｎは２または３、
Ｒはポリ不飽和化合物、アミノ酸、カルボン酸、
ヒドロキシカルボン酸、メルカプトカルボン酸、
エノール化性ケトン、ケトオキシム、アルドオキ
シム、アミンおよびホスフインから成る群から選
ばれた化合物の有機残基を示す）で表わされ、
150〜420℃に加熱する場合Ｍの酸化物に変化し得
る金属有機化合物の少くとも１種を出発混合物に
溶解するかまたは出発混合物に溶液として添加す
ることを特徴とする無機物質の成形物および層の
製造方法。 ２ 金属有機化合物が炭素および水素だけでな
く、また酸素および／または窒素を含む特許請求
の範囲第１項記載の成形物および層の製造方法。 ３ 金属オクトエート若しくはナフテネート或い
はアセチルアセトン、酢酸エステルおよびジメチ
ルグリオキシムの金属化合物を金属有機化合物と
して使用する特許請求の範囲第２項記載の成形物
および層の製造方法。 ４ マンガン（）−アセチルアセトネート、バ
ナジウムオキシ−アセチルアセトネート、バナジ
ウムアセチルアセトネートおよび／またはトリス
−（ジメチルアミノ）−バナジルから成る群から選
ばれた金属有機化合物の少くとも１種を使用する
特許請求の範囲第３項記載の成形物および層の製
造方法。 ５ 金属有機化合物を、重合体有機物質の重量に
対して計算して0.5〜３％の濃度で使用する特許
請求の範囲第１〜４項のいずれかの項に記載の成
形物および層の製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19792942109 DE2942109A1 (de) | 1979-10-18 | 1979-10-18 | Verfahren zum herstellen von formkoerpern und schichten aus anorganischen stoffen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5665434A JPS5665434A (en) | 1981-06-03 |
| JPS645735B2 true JPS645735B2 (ja) | 1989-01-31 |
Family
ID=6083748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14375380A Granted JPS5665434A (en) | 1979-10-18 | 1980-10-16 | Method of manufacturing formed article and layer |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4399090A (ja) |
| EP (1) | EP0027673B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5665434A (ja) |
| CA (1) | CA1153018A (ja) |
| DE (2) | DE2942109A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4474731A (en) * | 1983-03-28 | 1984-10-02 | International Business Machines Corporation | Process for the removal of carbon residues during sintering of ceramics |
| US4627160A (en) * | 1985-08-02 | 1986-12-09 | International Business Machines Corporation | Method for removal of carbonaceous residues from ceramic structures having internal metallurgy |
| US4650108A (en) * | 1985-08-15 | 1987-03-17 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method for forming hermetic seals |
| US4966742A (en) * | 1985-08-20 | 1990-10-30 | Khoury Issam A | Preparation of thin ceramic sheets |
| US5034248A (en) * | 1988-11-14 | 1991-07-23 | Akzo America Inc. | Bis(aminoalkoxy) and bis(alkylaminoalkoxy)copper(II) solutions, preparation and use |
| FR2657800A1 (fr) * | 1990-02-02 | 1991-08-09 | Pechiney Recherche | Procede de frittage de poudres de metaux ou d'alliages metalliques de ceramiques ou de cermets. |
| WO1991013714A1 (de) * | 1990-03-15 | 1991-09-19 | Klaus Rennebeck | Verfahren zur herstellung metallischen oder keramischen materials |
| US5271956A (en) * | 1991-12-30 | 1993-12-21 | Eastman Kodak Company | Method of forming ternary metal fluoride films by the decomposition of metallo-organic compounds in the presence of a fluorinating agent |
| US5618467A (en) * | 1993-11-18 | 1997-04-08 | Michigan Biotechnology Institute | Luminescent materials, phosphors and compositions containing such phosphors |
| US5464651A (en) * | 1993-11-18 | 1995-11-07 | Michigan Biotechnology Institute | Phosphors, compositions containing such phosphors and methods of use |
| US6544467B2 (en) * | 2000-12-18 | 2003-04-08 | Delphi Technologies, Inc. | Exhaust gas sensor and the method of manufacture thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1095450A (fr) * | 1953-12-04 | 1955-06-02 | Procédé d'obtention de matériaux réfractaires et ultraréfractaires | |
| US3370026A (en) * | 1964-09-24 | 1968-02-20 | American Cyanamid Co | Method of producing photochromic castings |
| US3576755A (en) * | 1964-09-24 | 1971-04-27 | American Cyanamid Co | Photochromism in plastic film containing inorganic materials |
| US3359226A (en) * | 1964-09-24 | 1967-12-19 | American Cyanamid Co | Method for production of a moldable photochromic composition |
| GB1135656A (en) * | 1965-09-22 | 1968-12-04 | Nat Video Corp | Method of manufacture of phosphor arrays for cathode ray tube screens and coating compositions useful therein |
| US3454510A (en) * | 1966-03-03 | 1969-07-08 | Eastman Kodak Co | Polyolefin compositions and degradable films made therefrom |
| DE1948017A1 (de) * | 1969-09-23 | 1971-03-25 | Licentia Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Leuchtschirmes |
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| BE789277A (fr) * | 1971-09-27 | 1973-03-26 | Union Carbide Corp | Composition de polymere d'ethylene degradable sous l'action desintemperies |
| US3812214A (en) * | 1971-10-28 | 1974-05-21 | Gen Electric | Hardenable composition consisting of an epoxy resin and a metal acetylacetonate |
| US4056588A (en) * | 1972-03-01 | 1977-11-01 | Imi (Tami) Institute For Research And Development | Bonded particulate ceramic materials and their manufacture |
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| ZA731336B (en) * | 1972-03-15 | 1973-11-28 | Ici Ltd | Alumina |
| NL7204638A (ja) * | 1972-04-07 | 1973-10-09 | ||
| US4094690A (en) * | 1972-08-07 | 1978-06-13 | Imperial Chemical Industries Limited | Liquid composition |
| JPS5722923B2 (ja) * | 1974-02-27 | 1982-05-15 | ||
| US3932310A (en) * | 1974-03-07 | 1976-01-13 | W. R. Grace & Co. | Reduction firing of ceramics composited with organic binders |
| US3973439A (en) * | 1975-04-15 | 1976-08-10 | Westinghouse Electric Corporation | Metal acetyl acetonate composition for forming thermoparticulating coating |
| JPS5511208A (en) * | 1978-07-10 | 1980-01-26 | Toshiba Corp | Production of electrochromic layer |
| JPS6053858B2 (ja) * | 1979-02-16 | 1985-11-27 | シャープ株式会社 | エレクトロクロミック表示装置の製造方法 |
| JPS55149920A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-21 | Hitachi Ltd | Electrode substrate |
-
1979
- 1979-10-18 DE DE19792942109 patent/DE2942109A1/de not_active Withdrawn
-
1980
- 1980-10-06 US US06/194,159 patent/US4399090A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-10-09 CA CA000362029A patent/CA1153018A/en not_active Expired
- 1980-10-15 DE DE8080200972T patent/DE3066303D1/de not_active Expired
- 1980-10-15 EP EP80200972A patent/EP0027673B1/de not_active Expired
- 1980-10-16 JP JP14375380A patent/JPS5665434A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4399090A (en) | 1983-08-16 |
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