JPS646045U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS646045U JPS646045U JP9940387U JP9940387U JPS646045U JP S646045 U JPS646045 U JP S646045U JP 9940387 U JP9940387 U JP 9940387U JP 9940387 U JP9940387 U JP 9940387U JP S646045 U JPS646045 U JP S646045U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protrusion
- workpiece
- block type
- type receiver
- workpiece support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
第１図は、本考案を用いたＯＦ面確認のための
測定状態を示す平面図。第２図は、本考案を用い
たＯＦ面確認のための測定状態を示す正面図。第
３図は、本考案の一実施例に用いられるワーク載
置器の斜視図。第４図は、本考案を用いた結晶方
位の測定状態を示す平面図。第５図は、本考案を
用いた結晶方位の測定状態を示す正面図。第６図
は、従来のＯＦ面確認のための測定装置の要部縦
断面図。第７図は、従来の結晶方位測定のための
測定装置の要部縦断面図。第８図は、本考案を用
いたＯＦ面確認のための他の測定状態を示す正面
図。 １……直線溝、２……Ｖブロツク型受器、３…
…突部、４……ワーク載置器、５……Ｘ線回析用
窓、６……ワーク支持体、７……シリコン単結晶
インゴツト、８……Ｘ線、１０，１０′……ワー
ク載置部、１１……ボルト。
測定状態を示す平面図。第２図は、本考案を用い
たＯＦ面確認のための測定状態を示す正面図。第
３図は、本考案の一実施例に用いられるワーク載
置器の斜視図。第４図は、本考案を用いた結晶方
位の測定状態を示す平面図。第５図は、本考案を
用いた結晶方位の測定状態を示す正面図。第６図
は、従来のＯＦ面確認のための測定装置の要部縦
断面図。第７図は、従来の結晶方位測定のための
測定装置の要部縦断面図。第８図は、本考案を用
いたＯＦ面確認のための他の測定状態を示す正面
図。 １……直線溝、２……Ｖブロツク型受器、３…
…突部、４……ワーク載置器、５……Ｘ線回析用
窓、６……ワーク支持体、７……シリコン単結晶
インゴツト、８……Ｘ線、１０，１０′……ワー
ク載置部、１１……ボルト。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 斜面及び／又は上面に若干の幅をもつ一以上の
直線溝を奥行方向に穿設したＶブロツク型受器と
、 前記直線溝の断面形状に略一致する断面形状を
有し、前記直線溝に対し摺動可能な突部を備え且
つ、前記Ｖブロツク型受器の斜面及び／又は上面
に密着して摺動できる面をその一構成面として前
記突部以外にもつ断面多角形のワーク載置器と、 前記ワーク載置器に、その上面後端部に直立し
て設けられた、Ｘ線回析用窓を有するワーク支持
体と、 から成り、 前記直線溝と前記突部とが係合摺動可能である
ことにより、前記ワーク載置器が、前記Ｖブロツ
ク型受器から適宜着脱できることを特徴とする結
晶方位―オリエンテーシヨンフラツト面測定用治
具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9940387U JPH034036Y2 (ja) | 1987-06-30 | 1987-06-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9940387U JPH034036Y2 (ja) | 1987-06-30 | 1987-06-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS646045U true JPS646045U (ja) | 1989-01-13 |
| JPH034036Y2 JPH034036Y2 (ja) | 1991-02-01 |
Family
ID=31326529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9940387U Expired JPH034036Y2 (ja) | 1987-06-30 | 1987-06-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH034036Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03236214A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線露光装置およびｘ線露光方法 |
| JP2008207272A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Rex Industries Co Ltd | 帯鋸盤 |
| JP2018112421A (ja) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | パルステック工業株式会社 | Ｖ溝深さ可変ステージ及びｘ線回折測定装置 |
-
1987
- 1987-06-30 JP JP9940387U patent/JPH034036Y2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03236214A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線露光装置およびｘ線露光方法 |
| JP2008207272A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Rex Industries Co Ltd | 帯鋸盤 |
| JP2018112421A (ja) * | 2017-01-10 | 2018-07-19 | パルステック工業株式会社 | Ｖ溝深さ可変ステージ及びｘ線回折測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH034036Y2 (ja) | 1991-02-01 |