JPS646505Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ａ 産業上の利用分野 本考案は半導体装置の製造工程のなかで必要と
されるマスクおよびレチクルの欠陥修正装置に装
着される化合物蒸気吹付け装置に関するものであ
る。

ｂ 従来の技術 化合物蒸気の存在する雰囲気内でサンプルの所
定位置にイオンビームを照射し、照射位置にパタ
ーン膜を形成する方法は現在、例えばマスクリペ
ア装置として注目されている。ところで化合物蒸
気をサンプルの所定位置に供給する方法として
は、例えば新実験化学講座２、丸善371−379に述
べられているようなヌツセンセルが使用される。
すなわち第５図に示すように、化合物１を収納し
たヌツセンセル２の外周部にはヒーター３が設け
られており、このヒーター３によつて加熱されて
蒸発した化合物はオリフイス４を通して噴出され
る。尚、ヌツセンセル２には熱電対５が設けられ
ており、温度コントローラを通して加熱温度を調
節できるようになつている。そして、加熱温度に
よつて噴出させる化合物蒸気の量をコントロール
している。

ｃ 考案が解決しようとする問題点 第５図で説明した方法においては、オリフイス
４から噴出される化合物蒸気は、指向性を持たず
広い範囲にわたる。ところでパターン膜の形成を
行なうためにイオンビームを照射する領域は１×
１mm以下である。このため、イオンビームを照射
する領域以外に噴出された化合物蒸気は、無駄に
なるばかりでなく様々の不都合が生じる原因とな
る。すなわち例えば、不必要な場所に付着した化
合物の影響によつてパターン膜を形成する箇所に
供給する化合物蒸気量が時間と共に変化してしま
うこと、又は、イオン源に化合物が付着して系の
劣化をひき起こすことである。

本考案は、真空中において化合物蒸気を所定位
置に供給する場合における上記の問題点を解決す
るものである。

ｄ 問題点を解決するための手段 本考案は上記問題点を解決するために、マスク
およびレチクルの白点欠陥位置にイオンビーム照
射および化合物蒸気吹付けによつて炭化膜等のパ
ターン膜を形成させるマスクリペア装置に用いら
れる化合物蒸気吹付け装置において化合物を収納
するための筒状をなす容器と、前記容器内に設け
られた化合物収納孔および化合物蒸気案内孔と、
前記容器内に形成されると共に前記化合物蒸気案
内孔に連結された細管状のノズルと、前記化合物
収納孔と前記ノズルとの連絡を開状態または閉状
態とするためのバルブ体と、前記容器を保持する
ための保持体と、前記バルブ体を作動させるため
に前記保持体に設けられた駆動体と、前記容器の
外周に設けられた外部磁場無発生型ヒーターから
なる化合物蒸気吹付け装置の構成としたものであ
る。

ｅ 作用 前記ヒーターにより前記容器を加熱することに
より、収納された前記化合物を蒸気化させて、前
記バルブ体が開状態の時に前記化合物蒸気案内孔
およびノズルを経てビーム状に噴出させるように
した化合物蒸気吹付け装置であり、化合物蒸気の
噴出強度は前記ヒーターの加熱温度によつて調節
できるものである。

さらに本考案によるマスクリペア装置用化合物
蒸気吹付け装置は、前記ヒーターに通電して前記
容器を加熱した時に、前記ノズル近傍に発生する
磁場を充分弱くしイオンビームが悪響を受けるの
を防止することができる。

ｆ 実施例 以下図面に従つて本考案によるマスクリペア装
置用化合物蒸気吹付け装置を説明する。

真空中で、マスクおよびレチクルの白点欠陥位
置に化合物蒸気を吹付けながらイオンビームを照
射し、白点欠陥位置に付着した化合物を分解また
は化合させて炭化膜等のパターン膜を形成させる
マスクリペア装置において、化合物蒸気吹付け装
置は、例えば第１図に示されるようなものであ
る。すなわち６は化合物で容器７の内部の化合物
収納孔に収納されている。尚、フオトマスクの白
点欠陥を修正する場合においては、化合物種とし
てイオンビーム照射により炭化またはポリマー化
するピレンやフエナントレン等が使用される。ま
た８は化合物蒸気案内孔、９はプランジヤーであ
る。プランジヤー９はロツド１０を介して駆動体
２５によつて軸方向に移動できる構造となつてお
り、化合物蒸気案内孔８の端面とプランジヤー９
が密着している時にはバルブ体が閉状態で、化合
物蒸気案内孔８の端面とプランジヤー９が離れて
いる時にはバルブ体が開状態である。１１はヒー
ター線で容器７を加熱する。そして加熱によつて
蒸発した化合物６の蒸気はバルブ体が開状態のと
きに化合物蒸気案内孔８及びノズル１２を通して
細いビーム状に噴出される。また、１３は熱電
対、１４は弁受け、１５は保持体である。以上の
系は真空中に置かれている。すなわち１６は真空
容器で第１図中向かつて左下側が真空、右上側が
大気である。また１７はＯリングで真空をシール
している。１８はフイードスルーで、真空中のヒ
ーター１１および熱電対１３と大気中の温度コン
トローラを接続するためのものである。ここで化
合物蒸気の吹付け強度はヒーター１１による加熱
温度によつて調節する。尚、イオンビーム、マス
クおよび化合物蒸気発生装置の位置関係は第２図
に示すようなものである。すなわち１９はマスク
またはレチクル、２０はイオンビーム、２１は化
合物蒸気吹付け装置のノズル近傍および２２は化
合物蒸気吹付け装置から噴出された化合物分子、
２３はパターン膜形成位置である。

第２図に示した化合物蒸気吹付け装置のノズル
先端とパターン膜形成位置２３との距離は短い程
良い。なぜならば、前記ノズル先端とパターン膜
形成位置との距離が長いと、噴出される化合物分
子２２は拡がりのために不必要な場所にも吹付け
られる。この不必要な化合物分子はパターン膜形
成に無駄になるばかりでなく様々の不都合が生じ
る原因となる。すなわち例えば、マスクリペア装
置内の前記化合物の分圧が時間と共に変化してイ
オン源の短寿命化をひき起こす事である。ところ
で第３図に示したヒーター線の巻き方では、ノズ
ル先端とパターン膜形成位置との距離を充分短く
することができない。なぜならば、ヒーター線１
１に通電して容器７を加熱すると、ノズル近傍に
磁場が生じてイオンビーム２０の軌道が乱され
て、所定の形状のパターン膜形成ができなくなつ
てしまうからである。そこで本考案においてはヒ
ータを外部磁場無発型とした。第４図ａはヒータ
ー線１１を無誘導巻きにした実施例で、容器７に
巻かれたヒーター線１１はノズル位置近傍でＵタ
ーンするように巻かれている。このため、ヒータ
ー線１１に通電する時電流はＵターン前と後とで
は容器７に対して反対まわりに流れるために、磁
場は生じない。第１図ｂもヒーター線を無誘導巻
きにした実施例で、容器７は第１図で説明したも
のと同等で、１１は２芯または４芯のシース型ヒ
ーター線である。第１図ｂの例では、シース線は
容器７のノズル近傍で巻き終わつているが、シー
ス線内部の電熱素線はシース線終点でＵターンし
ているため、実質上第４図ａの例と同等で磁場は
生じない。また、ヒーター線１１の加工の都合
上、第４図ａの無誘導巻きが困難な場合には、第
４図ｃに示すヒーター線の巻き方でも通電時に発
生する磁場は充分に弱いものであつた。すなわ
ち、容器７の中程ではヒーター線１１は無誘導巻
きであるが、ノズル位置近傍の数巻きは通常の巻
き方である。第４図ｄはヒーター線の外周部に磁
気遮蔽体を装着した実施例で、容器７およびヒー
ター線１１はこれまでに説明したものと同等で、
これらの外周部に筒状の磁気遮蔽体２４を装着し
ている。ここで磁気遮蔽体２４の材質としては
PB，PC，PD，PE等の鉄ニツケル磁性合金が適
当であつた。

ｇ 以上説明してきたように、本考案のマスクリ
ペア装置用化合物蒸気吹付け装置によると、蒸
気圧の低い化合物蒸気を局所的に吹付けるた
め、不必要な箇所を過剰に汚染することがなく
なる。また、化合物蒸気の吹付け量を容易に制
御できる点も大きな特徴となつている。

又ヒーター線に通電する時に生じるノズル近
傍の磁場を充分弱くすることができるためにパ
ターン膜形成の形状を乱す事なくノズル先端と
パターン膜形成位置を充分近づけることができ
る。その結果、イオン源の長寿命化すなわちマ
スクリペア装置のメインテナンスを著しく軽減
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案のマスクリペア装置用化合物吹
付け装置の全体装置を示す図である。第２図はイ
オンビーム、マスクおよび化合物蒸気吹付け装置
の位置関係を示す図、第３図は参考例としてのヒ
ーター線の巻き方を示す図である。第４図ａ，
ｂ，ｃ，ｄは本考案のマスクリペア装置用化合物
吹付け装置の実施例を示す図である。第５図は従
来のマスクリペア装置用化合物蒸気吹付け装置で
ある。 ６…化合物、７…容器、８…化合物蒸気案内
孔、９…プランジヤー、１０…ロツド、１１…ヒ
ータ、１２…ノズル、１５…保持体。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) マスクおよびレチクルの白点欠陥位置にイオ
   ンビーム照射および化合物蒸気吹付けによつて
   炭化膜等のパターン膜を形成させるマスクリペ
   ア装置に用いられる化合物蒸気吹付け装置にお
   いて、化合物を収納するための簡状をなす容器
   と、前記容器内に設けられた化合物収納孔およ
   び化合物蒸気案内孔と、前記容器内に形成され
   ると共に前記化合物蒸気案内孔に連結された細
   管状のノズルと、前記化合物収納孔と前記ノズ
   ルとの連絡を開状態または閉状態とするための
   バルブ体と、前記容器を保持するための保持体
   と、前記バルブ体を作割させるために前記保持
   体に設けられた駆動体と、前記容器の外周に設
   けられた外部磁場無発生型ヒーターからなるこ
   とを特徴とするマスクリペア装置用化合物蒸気
   吹付け装置。 (2) 実用新案登録請求の範囲第１項記載のマスク
   リペア装置用化合物蒸気吹付け装置において、
   前記外部磁界無発生型ヒータは無誘導巻のヒー
   タ線であることを特徴とするマスクリペア装置
   用化合物蒸気吹付け装置。 (3) 実用新案登録請求の範囲第１項記載のマスク
   リペア装置用化合物蒸気吹付け装置において、
   前記外部磁界無発生型ヒータはヒータ線とその
   外周に装着された磁気遮蔽体よりなることを特
   徴とするマスクリペア装置用化合物蒸気吹付け
   装置。