JPS648718B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS648718B2
JPS648718B2 JP59501013A JP50101384A JPS648718B2 JP S648718 B2 JPS648718 B2 JP S648718B2 JP 59501013 A JP59501013 A JP 59501013A JP 50101384 A JP50101384 A JP 50101384A JP S648718 B2 JPS648718 B2 JP S648718B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
iron
plating
bath
acid
seconds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP59501013A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60500873A (ja
Inventor
Haiman Cheshin
Edomando Shii Kuniru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M&T Chemicals Inc
Original Assignee
M&T Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M&T Chemicals Inc filed Critical M&T Chemicals Inc
Publication of JPS60500873A publication Critical patent/JPS60500873A/ja
Publication of JPS648718B2 publication Critical patent/JPS648718B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/10Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
    • C25D5/12Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/627Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Nonmetallic Welding Materials (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Description

請求の範囲 1 金属基体上に接着性クロム電着物を確実に形
成する方法において、 (a) 金属基体上に接着性の鉄又は鉄合金めつきを
うるのに十分な時間及び電流密度で、金属基体
を鉄塩含有浴からの鉄又は鉄合金でめつきする
段階; (b) 鉄又は鉄合金めつきされた金属基体上に、ヨ
ウ素放出性化合物、臭素放出性化合物及びこれ
らの混合物から成る群から選ばれたハロゲン放
出性化合物及びクロム酸を含むクロム酸浴か
ら、接着性クロムめつきをうるのに十分な時間
及び電流密度でクロムを電着させる段階、 を含む上記方法。
2 金属基体を鉄又は鉄含有合金めつきする段階
の前に、金属基体を活性化処理に付す段階をさら
に含む請求の範囲第1項の方法。
3 活性化処理がハロゲン化物を含むクロム酸浴
中で行われる請求の範囲第2項の方法。
4 活性化処理が金属基体の電解処理を包含する
請求の範囲第2項の方法。
5 活性化処理が金属基体の浸漬処理を包含する
請求の範囲第2項の方法。
6 金属基体が鉄又は鉄含有合金である請求の範
囲第1項の方法。
7 金属基体上に接着性クロム電着物を確実に形
成する方法において、 (a) 金属基体上に接着性の鉄又は鉄合金めつきを
うるのに十分な時間及び電流密度で、金属基体
を鉄塩含有浴からの鉄又は鉄合金でめつきする
段階; (b) 金属基体上の鉄含有電着物を、めつきされた
金属基体上にクロムを電着させる段階の前に、
酸含有浴中で陽極処理に付す段階;及び (c) 鉄又は鉄合金めつきされた金属基体上に、ヨ
ウ素放出性化合物、臭素放出性化合物及びこれ
らの混合物から成る群から選ばれたハロゲン放
出性化合物及びクロム酸を含むクロム酸浴か
ら、接着性クロムめつきをうるのに十分な時間
及び電流密度でクロムを電着させる段階、 を含む上記方法。
8 金属基体が鉄又は鉄含有合金であり、該金属
基体を鉄又は鉄含有合金でめつきする段階の前に
酸含有浴中での処理に付す請求の範囲第7項の方
法。
9 酸含有浴の酸が塩酸である請求の範囲第8項
の方法。
10 酸含有浴の酸が硫酸である請求の範囲第8
項の方法。
11 酸含有浴と鉄塩含有浴が本質的に同じ浴で
ある請求の範囲第8項の方法。
12 金属基体が鉄又は鉄含有合金であり、陽極
処理がクロム酸含有浴中で行われる請求の範囲第
7項の方法。
発明の背景 関連する特許出願の相互参照 本出願は、1981年8月24日に出願された共に係
属中の米国特許出願No.06/295430に十分に記載さ
れた方法の改善に関する。この米国出願の主題は
引用することによつてここに包含される。
技術分野 本出願は、6価クロムめつき浴から高い電流効
率でかつ高い接着の質を有して基礎金属すなわち
基体上に光沢クロムを電着することに関する。
従来技術の説明 高性能クロムめつき法の使用は、或る基礎金属
への十分な被膜接着を得ることができないという
理由で妨げられてきた。
ハロゲン化物を含むクロムめつき浴は、接着の
問題を提示する。そのような浴は、ミツイ、J7B
−33941(1978年9月);Dillenberg、米国特許
4093522;Perakh ら、米国特許4234396;及び
共に係属中の米国特許出願No.06/295430(1981年
8月24日出願)に開示されたタイプのものであ
る。
この問題は、電着の開始時に妨害することがあ
りうるハロゲン化物の存在に帰せられてきた。
典型的なクロムめつき溶液、たとえばクロム酸
及び触媒たとえば硫酸塩又は種々のフツ化物と硫
酸塩の組合せを用いて、ASTMB571−79で測定
されたときの十分な接着を得るために、通常のや
り方はめつき溶液中で又は別途のクロム酸含有溶
液中で所定の電流密度で所定の時間、鉄系材料を
逆にすなわち陽極的にエツチングすることであ
る。
そのようなエツチング法の時間長さを表示する
表は、Metal Finishing、80(5)、65〜8(1982)、
C.H.Peger著、に見られる。特定のステンレス鋼
用の或る種の硫酸及びフツ化水素酸エツチング剤
の使用も、刊行物で示唆されている。
400ステンレス鋼合金及び低及び高炭素鋼のた
めの陽極的クロム酸処理は、48th Metal
Finishing Guidebook−Directory、78、188〜
202(1980)A.Logozzo 著、に開示されている。
300ステンレス、ニツケル合金及び鋳鉄のための
硫酸−フツ化物中での陽極処理も推奨されてい
る。
従来技術に見られる別の代替法は、或る特別の
ニツケル及びコバルトををベースとする合金のた
めのウツドニツケルストライクの使用である。
(Boeing Aircraft)BAC5709−5.2J(1)。
陽極的硫酸エツチングにより作られたよごれ
(smut)のための清澄化剤として塩化第二鉄−塩
酸溶液の使用は、Hard Chromium Plating、
Robert Draper Ltb.、Teddington、1964、J.D.
Greenwood著、の第137頁に開示されている。
これら手順がハロゲン化物含有クロムめつき浴
で用いられる時、鉄金属基体の多くは、これら浴
からのクロム電着物が不十分な接着を有するの
で、満足にめつきされないことが判つた。
電着の開始時の陰極における還元性条件によ
り、ハロゲンイオンが還元されて、クロムが基体
に分子結合するのを妨げる形にすると推定するこ
とができる。いずれにしても高性能クロムめつき
の使用は、不十分な接着の問題により制限されて
いる。
本発明の概要 従来技術の系で起きたこの問題は、クロムが処
理されるベース上に接着してめつきされる前に鉄
含有電着物が基体金属に結合される方法を使用す
ることにより克服されうることが今見い出され
た。
本発明に従い、基体を接着性鉄含有沈着物にさ
らす段階、続くクロム酸陽極処理及び処理された
鉄含有沈着物上に、ヨウ素放出性化合物、臭素放
出性化合物及びこれらの混合物から成る群から選
ばれたハロゲン放出性化合物を含む浴からクロム
を沈着させることを包含する方法により、接着し
たクロム沈着物が金属基体上に得られる。補助的
触媒たとえば硫酸塩、単純な及び複雑なフツ化
物、硼酸塩、カルボン酸塩、塩素化物、塩素酸塩
及び過塩素酸塩もまた存在しうる。本方法は更
に、鉄塩含有浴からの鉄めつきの前に酸性浴又は
鉄又は鉄合金めつき浴中で基体金属を活性化する
段階を含むことができる。
最適の態様を含む本発明の説明 電解的コーテイング法は、米国特許4093522及
び4234396号明細書、及び1981年8月24日に出願
され、そこに本方法段階及び電解浴処方が十分に
記載されていると共に係属中の米国特許出願06/
295430号明細書から最も良く理解できる。
下記の実施例及び対照実験において、直径9.5
mm(3/8インチ)の棒が支持具に把持され、これ
は処理面積を要求通りに変えることができるよう
に、延長部分の長さを種々に変えることを可能に
する。通常のテスト心棒は鋼ドリル棒である。正
確な加熱及び温度制御を得るために、温度調製装
置及び石英加熱装置が用いられた。クロムめつき
溶液の場合、陽極は鉛合金である。クロム酸エツ
チング溶液はステンレス鋼を用いることができ、
一方、鉄めつき溶液は鉄又は鋼対極電極を用いる
ことができる。
研摩接着テストにおいて、めつき処理中にクロ
ムが剥れる極めて劣る接着又は基礎金属からのク
ロムの広範囲のチツピング(かけ)がある劣る接
着を含む、不十分さの分類が用いられた。
ドリル棒テストサンプルは、数種のタイプのも
のであつた。本発明に従いクロム酸含有エツチン
グ溶液が用いられたときにF鋼棒は十分な接着を
示し、一方、エツチング剤単独が用いられたとき
にVP鋼棒は極めて劣る接着した示さない。十分
な接着は、エツチングが鉄電着物前処理段階と組
合せて用いられたときにのみ達成できた。
実施例 1 200g/の緑ばん、30g/の硼酸、10ml/の
硫酸及び20g/の48%フツ化硼素酸を含む浴を
用いて金属基体を鉄でめつきした。
金属基体は、砂吹き処理、続くAjax ブラン
ド研摩粉みがき、水すすぎ、アルカリ液浸漬、水
すすぎ及び乾燥を用いて準備された。
鉄めつき前に4340鋼基体は、冷硫酸中で0.31
A/cm2で1分間エツチングされた。
鉄めつきは、0.31A/cm2で1分間そして0.0775
A/cm2で10分間、57℃で実施され、次に水ですす
がれた。
400g/クロム酸浴中での陽極処理は、60℃、
0.62A/cm2で2分間実施された。
クロムめつき段階は、400g/クロム酸、16g/
臭素酸塩及び64g/酢酸浴を用いた。
十分な接着が達成された。
実施例 2 実施例1の手順が用いられた。但し、0.0775
A/cm2での鉄めつきは63℃で20分間行われ、次に
水ですすがれた。陽極処理は4分間実施された。
十分な接着が達成された。
実施例 3 先の実施例の手順が用いられた。但し、鉄めつ
きは1.24A/cm2、66℃で4分間行われ、次に水で
すすがれた。陽極処理は0.465A/cm2、60℃で3分
間行われた。十分な接着が達成された。
実施例 4 下記の例外を除き先の実施例の手順が用いられ
た: 1010鋼基体が先述のように準備され、485g/
緑ばん、200ml/硼砂浴中で0.93A/cm2で0.25分間
そして0.233A/cm2で1分間めつきされた。めつき
浴温度は55℃であつた。陽極処理は、0.31A/cm2
57℃で1分間、150g/クロム酸浴を用いた。
クロム酸浴は700g/クロム酸、2g/ヨウ化
物及び4g/プロピオン酸を含み、処理は0.62
A/cm2、60℃で1分間行われ、十分な接着を与え
た。
実施例 5 1020鋼基体を実施例1の手順に従い準備し、鉄
を0.31A/cm2で1分間そして0.155A/cm2で3分間、
69℃でめつきし、次に水ですすいだ。
150g/クロム酸陽極処理浴は56℃に保たれ
た。処理は0.31A/cm2で3分間であつた。
クロムめつきは、400g/クロム酸、120g/
モノクロム酢酸、1g/ヨウ化物浴を0.62A/cm2
で0.75時間用いた。浴は58℃に保たれた。十分な
接着がえられた。
実施例 6 先の実施例の手順を用いた。但し、鉄めつきは
0.31A/cm2で1分間そして0.155A/cm2で5分間、66
℃で行われ、クロムめつき浴は60℃であつた。十
分な接着がえられた。
実施例 7 先の実施例の手順を用いた。但し、鉄めつきは
64℃であり、陽極処理は400g/クロム酸浴を60
℃で用いた。処理は1.24A/cm2で2分間行われ、
次に0.62A/cm2、60℃で1時間クロムめつきが行
われた。その結果、十分な接着がえられた。
実施例 8 実施例4の手順を用いた。但し、F鋼基体が鉄
浴中0.775A/cm2で1分間エツチングされ、鉄浴中
での鉄めつきは0.775A/cm2、63℃で3分間行われ
た。クロム酸めつき浴は、700g/クロム酸、2
g/ヨウ化物及び8g/のスルホ酢酸の二ナト
リウム塩(Na2SAA)を含んでいた。めつきは、
0.62A/cm2で0.75時間行われた。浴は55℃に保たれ
た。この方法から十分な接着が得られた。
実施例 9 先の実施例の手順が行われたが、下記の変更が
ある: 基体は4130鋼であり、61℃での鉄めつきは
0.775A/cm2で0.25分間そして0.233A/cm2で1分間行
われ、次に水ですすがれた。陽極処理浴は、57℃
で、150g/のクロム酸を含んでいた。処理は
0.31A/cm2で1分間であつた。クロムめつき浴温
度は60℃であり、十分な接着がえられた。
実施例 10 金属基体としてF鋼ドリル棒が用いられた。鉄
含有電気めつき浴は、80g/FeSO4・7H2O 及
び100ml/硫酸を含んでいた。金属基体は、0.93
A/cm2で30秒間陽極処理に付された。0.93A/cm2
60秒間の鉄めつきに続いて、250g/CrO3浴中で
の陽極処理が60秒間、0.31A/cm2で行われた。ク
ロムめつき浴は本質的に、60℃で300g/CrO3
30g/のスルホ酢酸の二ナトリウム塩、1.5g/
I、1.5g/SO2を含み、0.93A/cm2で15分間を要
する。得られたクロムめつきの接着は十分であつ
た。
実施例 11 実施例10の条件を用いた。但し、鉄めつき浴は
更に、10g/のCoSO4・7H2Oを含んでいた。こ
のめつきにより十分な接着が得られた。
実施例 12 実施例10の手順が用いられた。但し、めつき浴
は更に、20g/のCoSO4・7H2Oを含んでいた。
十分な接着性をもつめつきが得られた。
対照例 1 実施例13及び14の鉄含有電気めつき浴の代わり
に、CoSO4・7H2O(1100g/)及び硫酸(80ml/
))浴が60秒間、1.55A/cm2で金属基体を陽極的
に処理し、次に同条件で陽極的にめつきするため
に用いられた。続く陽極処理は、150g/クロム
酸浴を65℃で60秒間、0.46A/cm2で用いた。クロ
ムめつきは、1.24A/cm2で15分間行われた。不十
分な結果が得られた。
実施例11及び12のコバルト含有浴は悪影響を与
えないが、対照例1及び2における鉄なしのコバ
ルトの使用は十分な結果を与えなかつた。
対照例 2 対照例1の条件を用いた。但し、鉄めつき前の
陽極処理は10秒であり、クロムめつき前の陽極処
理は用いられなかつた。結果は不十分であつた。
実施例 13 いくつかの例外を除き、実施例10の手順が本質
的に繰返された。めつき浴は更に、5g/の
NiCO3を含み、FeSO4濃度は100g/であり、ク
ロム酸濃度はめつき前の浴中で150g/であつ
た。陽極処理及びめつき時間及び電流密度は、対
照例1で用いられたのと同じであつた。しかし対
照例とは違つて、十分な接着が得られた。
実施例 14、15及び16 実施例13の手順が用いられた。但し、NiCO3
濃度は、各々10g/、20g/及び40g/であつ
た。各場合において十分な接着が得られた。
実施例 17 実施例10の手順が用いられた。但し、鉄含有浴
は、485g/緑ばん、20g/硼砂及び200ml/塩
酸であつた。鉄めつき浴中での陽極処理は、0.77
A/cm2で60秒間であつた。鉄めつきは、1.0A/cm2
15秒間、次に0.31A/cm2で60秒間であつた。陽極
処理は、800g/のクロム酸を含む浴中で0.39A/
cm2で60秒間であつた。クロムめつき浴は本質的に
300g/CrO3、30g/のスルホ酢酸二ナトリウム
塩、1g/I及び1g/SO4であつた。めつきは
1.55A/cm2で15分間行われた。十分な接着が得ら
れた。
実施例 18 実施例17が繰返された。但し、基体はVP鋼で
あつた。十分な接着が達成された。
対照例 3 実施例17の手順が用いられた。但し、鉄めつき
浴は、約250g/のNiCO2・6H2O及び125ml/
の塩酸を含むウツドニツケル浴で置き代えられ
た。金属基体は、金属基体を陽極的に処理するた
めにウツド浴中で30秒間0.21A/cm2で陽極的に処
理され、次に0.21A/cm2で180秒間めつきされた。
次の段階は、めつきされた金属基体を0.39A/cm2
で60秒間陽極処理することである。クロムめつき
は1.55A/cm2で15分間行われた。接着は得られな
かつた。
実施例 19、20及び21 実施例17の手順を用いた。但し、鉄めつき浴中
での陽極処理は0.08A/cm2で60秒間であつた。鉄
めつきは1.03A/cm2で120秒間行われた。陽極処理
は0.39A/cm2で60秒間であり、次に1.55A/cm2で15
分間クロムめつきが行われた。実施例20及び21で
は鉄めつき時間は、各々60秒間及び30秒間に減少
された。各場合に十分な接着が得られ、これは鉄
含有めつき浴中でのめつき時間が狭く臨界的では
ないことを示している。
実施例 22及び23 実施例10の手順が用いられた。但し、鉄含有浴
は100g/の緑ばん及び100ml/の硫酸を含み、
基体は実施例22及び23で各々F鋼及び1010鋼であ
つた。各場合に鉄めつき浴中での陽極処理は1.5
A/cm2で60秒間であり、鉄めつきは1.5A/cm2で60秒
間行われた。陽極処理は0.37A/cm2で60秒間であ
り、クロムめつきは1.49A/cm2で15分間であつた。
各場合に十分な接着が得られた。
実施例 24及び25 実施例22の手順が用いられた。但し、鉄含有浴
は更に、50g/の硼砂を含み、鉄めつきされた
金属基体がその中で陽極処理されるクロム酸含有
溶液は150g/のクロム酸を含んでいた。実施例
24では、鉄めつき前の処理又は鉄めつきは行われ
なかつた。実施例25では、鉄めつき浴中での陽極
処理は1.6A/cm2で60秒間であり、鉄めつき1.6A/
cm2で60秒間であつた。クロムめつき前の陽極処理
は、実施例24では0.37A/cm2で120秒間、実施例25
では60秒間であつた。クロムめつきは1.49A/cm2
で15分間であつた。各場合に十分な接着が得ら
れ、これはF鋼は本発明の処理を必ずしも必要と
しないことを示している。
実施例 26、27、28及び29 実施例24及び25の手順を本質的に繰返した。但
し、クロムめつき浴は実施例26〜28では34℃に保
たれ、実施例29では45℃に保たれ、クロム浴組成
は800g/CrO3、5g/I及び10g/Clであつ
た。実施例26では、鉄めつき前の処理段階及び鉄
めつき段階が省かれた。実施例27では、クロムめ
つき前の処理段階が省かれた。各場合において、
鉄めつき浴中での陽極処理は1.55A/cm2で60秒間
であり、鉄めつきは1.55A/cm2で60秒間であつた。
陽極処理は0.35A/cm2で60秒間であつた。クロム
めつきは実施例26では0.35A/cm2で15分間、他の
実施例では10分間であつた。電流密度は、実施例
27及び28で0.77A/cm2、他の実施例で0.62A/cm2
あつた。実施例29で十分な接着が得られ、しかし
実施例26では極めて劣る接着が得られ、他の二つ
の実施例では劣る接着が得られた。
クロムめつき操作に対する温度の影響は、1981
年8月24日に出願された共に係属中の特許出願
295430で述べられており、この出願の対照は、本
出願に冗長な対象を包含する必要を除くために、
引用することによつて本出願に含められる。
先述の実施例は、すぐれたクロムめつきが本出
願の手順の使用により鉄又は鉄合金基体上に確実
に達成されうることを明瞭に示している。或る基
体上へのクロムめつきが不成功になる原因は簡単
には判らないが、本発明の手順を用いずにクロム
めつきを支持する金属基体の能力に関する予言に
基礎を与える十分な情報はない。基体の化学的分
析は、予言がそれに基礎を置きうる特性的差違又
は類似性を明らかにすることに失敗した。本発明
の処理は悪い効果を生まず、一貫したプラスの結
果を与えた。
鉄めつき前の処理浴は、従来知られた一般に用
いられる酸性活性化浴の任意のものであることが
できる。たとえば、Plating and Surface
Finishing、Diniら著(1982年11月)、の第63〜65
頁及びChromium Plating、Weinerら著(1980
年)、Finishing Publications社(Teddington、
イングランド)の第102〜104頁に開示されている
タイプの予備処理浴のいずれかを、鉄めつき段階
前に用いることができる。
鉄めつき前の処理、鉄めつき及び陽極処理の場
合、時間、温度及び浴組成は、狭い臨界的なもの
ではない。時間及び電流密度は、クロムめつきさ
れるべき特定の基体の性質により決められるよう
な望む結果を達成するために十分であることのみ
が必要である。
JP59501013A 1983-02-03 1984-02-01 高性能クロム電着物を接着する方法 Granted JPS60500873A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/463,465 US4450050A (en) 1983-02-03 1983-02-03 Process for bonding high efficiency chromium electrodeposits
US463465 1983-02-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60500873A JPS60500873A (ja) 1985-06-06
JPS648718B2 true JPS648718B2 (ja) 1989-02-15

Family

ID=23840183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59501013A Granted JPS60500873A (ja) 1983-02-03 1984-02-01 高性能クロム電着物を接着する方法

Country Status (15)

Country Link
US (1) US4450050A (ja)
EP (1) EP0137817B1 (ja)
JP (1) JPS60500873A (ja)
DE (1) DE3468442D1 (ja)
EG (1) EG16172A (ja)
ES (1) ES8502485A1 (ja)
GR (1) GR81725B (ja)
IN (1) IN160454B (ja)
IT (2) IT1198780B (ja)
NO (2) NO843973L (ja)
NZ (1) NZ207033A (ja)
PH (1) PH20218A (ja)
PT (1) PT78057B (ja)
WO (1) WO1984003109A1 (ja)
ZA (1) ZA84794B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8411063D0 (en) * 1984-05-01 1984-06-06 Mccormick M Chromium electroplating
US4664759A (en) * 1985-10-15 1987-05-12 M&T Chemicals Inc. Method for forming adherent, bright, smooth and hard chromium electrodeposits on stainless steel substrates from high energy efficient chromium baths
WO1987000869A1 (en) * 1985-08-09 1987-02-12 M & T Chemicals Inc. Process for forming adherent chromium electrodeposits from a high energy efficient bath
US4668348A (en) * 1985-09-26 1987-05-26 M&T Chemicals Inc. Method for forming adherent, bright, smooth and hard chromium electrodeposits on ferrous metal substrates from high energy efficient chromium baths
US4585530A (en) * 1985-08-09 1986-04-29 M&T Chemicals Inc. Process for forming adherent chromium electrodeposits from high energy efficient bath on ferrous metal substrates
US5243320A (en) * 1988-02-26 1993-09-07 Gould Inc. Resistive metal layers and method for making same
DE4422877A1 (de) * 1994-06-30 1996-01-04 Gesipa Blindniettechnik Blindbefestigersetzgerät
CN103255454A (zh) * 2013-06-08 2013-08-21 河北瑞兆激光再制造技术有限公司 报废活塞杆的修复工艺
CN104227316B (zh) * 2014-09-30 2016-05-25 任晓东 一种修复井下千斤顶的方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3806429A (en) * 1972-07-03 1974-04-23 Oxy Metal Finishing Corp Electrodeposition of bright nickel-iron deposits,electrolytes therefor and coating an article with a composite nickel-iron,chromium coating
DE2500730C3 (de) * 1975-01-10 1980-04-24 Bergische Metallwarenfabrik Dillenberg & Co Kg, 5601 Gruiten Galvanisches Chrombad
JPS5464034A (en) * 1977-10-31 1979-05-23 Toyo Kohan Co Ltd Pretreatment of steel plate treated with electrolytic chromic acid
US4234396A (en) * 1978-03-08 1980-11-18 Mark Perakh Chromium plating
US4188459A (en) * 1978-09-27 1980-02-12 Whyco Chromium Company, Inc. Corrosion resistant plating and method utilizing alloys having micro-throwing power
US4366034A (en) * 1981-06-04 1982-12-28 Westinghouse Electric Corp. Hard chromium plating process for cobalt-chromium-tungsten alloys

Also Published As

Publication number Publication date
IT1198780B (it) 1988-12-21
EP0137817A4 (en) 1985-09-26
ZA84794B (en) 1985-03-27
JPS60500873A (ja) 1985-06-06
DE3468442D1 (en) 1988-02-11
EP0137817A1 (en) 1985-04-24
US4450050A (en) 1984-05-22
WO1984003109A1 (en) 1984-08-16
IT8409333A1 (it) 1985-08-03
ES529411A0 (es) 1985-01-01
NO843973L (no) 1984-10-02
IN160454B (ja) 1987-07-11
NZ207033A (en) 1987-05-29
NO843974L (no) 1984-10-02
EG16172A (en) 1987-05-30
GR81725B (ja) 1984-12-12
IT8409333A0 (it) 1984-02-03
PT78057B (en) 1986-03-20
EP0137817B1 (en) 1988-01-07
PH20218A (en) 1986-10-21
ES8502485A1 (es) 1985-01-01
PT78057A (en) 1984-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004523663A (ja) アルミニウム加工部材のメッキおよび前処理方法
US4416739A (en) Electroplating of titanium and titanium base alloys
US3232854A (en) Chromium plating
JPS648718B2 (ja)
US2835630A (en) Treatment of metals prior to electro-plating
US2457059A (en) Method for bonding a nickel electrodeposit to a nickel surface
US2389131A (en) Electrodeposition of antimony
US4585530A (en) Process for forming adherent chromium electrodeposits from high energy efficient bath on ferrous metal substrates
US3594288A (en) Process for electroplating nickel onto metal surfaces
EP0030305A1 (en) Chemical pretreatment for method for the electrolytical metal coating of magnesium articles
US4731166A (en) Method of producing an adherent, smooth deposit of chromium on a nodular iron substrate
US2739932A (en) Electrodepositing chromium on aluminum
US2966448A (en) Methods of electroplating aluminum and alloys thereof
US4664759A (en) Method for forming adherent, bright, smooth and hard chromium electrodeposits on stainless steel substrates from high energy efficient chromium baths
US4717456A (en) Two-step electrolytic activation process for chromium electrodeposition
US3202589A (en) Electroplating
US2092130A (en) Anodic cleaning process
US2729601A (en) Electroplating on beryllium
US4225397A (en) New and unique aluminum plating method
Dini et al. The properties of gold deposits produced by DC, pulse and asymmetric AC plating
US2702785A (en) Process of producing hard chromium platings on light metals
US4035247A (en) Method of manufacturing a reflecting mirror
US4668348A (en) Method for forming adherent, bright, smooth and hard chromium electrodeposits on ferrous metal substrates from high energy efficient chromium baths
JPS61204393A (ja) ニツケル被覆ステンレス鋼帯の製造方法
US3186925A (en) Chromium plating process with a pure nickel strike