JPS64877B2 - - Google Patents
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- JPS64877B2 JPS64877B2 JP11034283A JP11034283A JPS64877B2 JP S64877 B2 JPS64877 B2 JP S64877B2 JP 11034283 A JP11034283 A JP 11034283A JP 11034283 A JP11034283 A JP 11034283A JP S64877 B2 JPS64877 B2 JP S64877B2
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- film
- manufacturing
- sprayed
- diaphragm
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; ELECTRIC HEARING AIDS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
- H04R7/00—Diaphragms for electromechanical transducers; Cones
- H04R7/02—Diaphragms for electromechanical transducers; Cones characterised by the construction
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスピーカ用振動板の製造方法に関する
ものである。
ものである。
スピーカ用振動板としては、高い弾性を有し、
かつ軽量で適当な内部損失を有することが望まれ
る。そこで最近、比弾性率が高く、適当な内部損
失を持つ振動板として、プラズマ溶射によりアル
ミナ（Al2O3）、炭化ホウ素（B4C）等のセラミツ
クスを型に付着させて振動板を製造する方法が提
案されている。
かつ軽量で適当な内部損失を有することが望まれ
る。そこで最近、比弾性率が高く、適当な内部損
失を持つ振動板として、プラズマ溶射によりアル
ミナ（Al2O3）、炭化ホウ素（B4C）等のセラミツ
クスを型に付着させて振動板を製造する方法が提
案されている。
第１図は従来の振動板の製造方法の一例を示す
断面図、第２図Ａ，Ｂはその各工程を示す一部の
断面図である。図において、１はプラズマ溶射装
置で、電極１ａおよびノズル１ｂを有し、混合ガ
ス１ｃを導入してプラズマ炎１ｄを発生するよう
になつている。２はプラズマ炎１ｄ中に投入され
る溶射物質、３は基板、４はこの基板に取付けら
れた型、５はこの型に形成された溶射膜、６はこ
の溶射膜によつて形成された振動板である。
断面図、第２図Ａ，Ｂはその各工程を示す一部の
断面図である。図において、１はプラズマ溶射装
置で、電極１ａおよびノズル１ｂを有し、混合ガ
ス１ｃを導入してプラズマ炎１ｄを発生するよう
になつている。２はプラズマ炎１ｄ中に投入され
る溶射物質、３は基板、４はこの基板に取付けら
れた型、５はこの型に形成された溶射膜、６はこ
の溶射膜によつて形成された振動板である。
振動板の製造方法は、まず第１図に示すよう
に、一般的なプラズマ溶射装置１において、電極
１ａとノズル１ｂの間に、窒素あるいはアルゴン
ガス中に適当量の水素ガスを混合した混合ガス１
ｃを導入し、その間に電力を印加すると、混合ガ
ス１ｃは電離され、プラズマ炎１ｄが発生する。
プラズマ炎１ｄは20000℃以上の温度にも達して
おり、このプラズマ炎１ｄ中に溶射物質２たとえ
ば粉末状のセラミツクスを投入すると、容易に溶
融する。このプラズマ炎１ｄの流速は約3000ｍ／
secにもなるので、溶射物質２は高速で所望振動
板形状を有する型４に衝突して、付着堆積し、溶
射膜５を形成する。このように形成されたセラミ
ツクスの溶射膜５は、工具鋼、チタン等の硬い金
属あるいはセラミツクスで作られた型４の表面が
滑らかに加工されている場合は、第２図Ａに示す
状態から容易に離型でき、第２図Ｂに示すように
セラミツクス単体からなる振動板６が得られる。
に、一般的なプラズマ溶射装置１において、電極
１ａとノズル１ｂの間に、窒素あるいはアルゴン
ガス中に適当量の水素ガスを混合した混合ガス１
ｃを導入し、その間に電力を印加すると、混合ガ
ス１ｃは電離され、プラズマ炎１ｄが発生する。
プラズマ炎１ｄは20000℃以上の温度にも達して
おり、このプラズマ炎１ｄ中に溶射物質２たとえ
ば粉末状のセラミツクスを投入すると、容易に溶
融する。このプラズマ炎１ｄの流速は約3000ｍ／
secにもなるので、溶射物質２は高速で所望振動
板形状を有する型４に衝突して、付着堆積し、溶
射膜５を形成する。このように形成されたセラミ
ツクスの溶射膜５は、工具鋼、チタン等の硬い金
属あるいはセラミツクスで作られた型４の表面が
滑らかに加工されている場合は、第２図Ａに示す
状態から容易に離型でき、第２図Ｂに示すように
セラミツクス単体からなる振動板６が得られる。
ところで上記所望形状を有する型４はかなり高
価であるため、何回も繰り返えし使用できること
が望ましい。しかし溶射法においては、高温にな
つた溶射物質２を高速で型４に衝突させて膜を形
成しているため、従来の方法では型４の表面は
徐々に荒され、また金属の型４では酸化等により
表面状態の変化を生じる。その結果、溶射膜５は
型４の凹凸部に食い込み、型４からの溶射膜５の
離型性が悪くなり、離型の際、溶射膜５に割れが
発生したり、あるいは全く離型できなくなること
がある。そして使用回数が増え、表面が粗くなる
と、この傾向は次第に強くなり、通常は２〜３回
で使用できなくなる。さらに最初の溶射において
は、型４の表面がきわめて平滑であるため、溶射
物質２が表面で滑つてしまい、付着効率が悪い。
このように、従来の方法においては、型４の使用
できる寿命が短く、かつ溶射効率も一定に制御し
にくいという欠点があつた。
価であるため、何回も繰り返えし使用できること
が望ましい。しかし溶射法においては、高温にな
つた溶射物質２を高速で型４に衝突させて膜を形
成しているため、従来の方法では型４の表面は
徐々に荒され、また金属の型４では酸化等により
表面状態の変化を生じる。その結果、溶射膜５は
型４の凹凸部に食い込み、型４からの溶射膜５の
離型性が悪くなり、離型の際、溶射膜５に割れが
発生したり、あるいは全く離型できなくなること
がある。そして使用回数が増え、表面が粗くなる
と、この傾向は次第に強くなり、通常は２〜３回
で使用できなくなる。さらに最初の溶射において
は、型４の表面がきわめて平滑であるため、溶射
物質２が表面で滑つてしまい、付着効率が悪い。
このように、従来の方法においては、型４の使用
できる寿命が短く、かつ溶射効率も一定に制御し
にくいという欠点があつた。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除
去するためになされたもので、型の表面に酸ある
いはアルカリで溶解できる軟質の金属膜を形成
し、その上にセラミツクスを溶射して振動板とな
る溶射膜を形成し、その後に上記金属膜を溶解し
て離型することにより、型を何回も繰り返えし使
用できるとともに、溶射膜の付着効率が高く、安
価に振動板を製造することができるスピーカ用振
動板の製造方法を提供することを目的としてい
る。
去するためになされたもので、型の表面に酸ある
いはアルカリで溶解できる軟質の金属膜を形成
し、その上にセラミツクスを溶射して振動板とな
る溶射膜を形成し、その後に上記金属膜を溶解し
て離型することにより、型を何回も繰り返えし使
用できるとともに、溶射膜の付着効率が高く、安
価に振動板を製造することができるスピーカ用振
動板の製造方法を提供することを目的としてい
る。
以下、本発明を一実施例に従つて説明する。第
３図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれこの発明の一実施例に
よる製造方法の各工程を示す一部の断面図であ
る。図において、７は基板３に取付けられる複合
型で、型４と同様の型７ａおよびその表面に付着
された離型膜７ｂからなる。
３図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれこの発明の一実施例に
よる製造方法の各工程を示す一部の断面図であ
る。図において、７は基板３に取付けられる複合
型で、型４と同様の型７ａおよびその表面に付着
された離型膜７ｂからなる。
振動板の製造方法は、まず第１図に示す従来と
同様の一般的なプラズマ溶射装置１を用いて溶射
を行う。この場合、第３図Ａに示すように所望の
形状（図においてはドーム形状）に加工されたチ
タン製の型７ａの表面に、メツキにより銅の離型
膜７ｂを形成した複合型７を使用し、その表面
に、プラズマ溶射装置１から溶射物質２として炭
化ホウ素（B4C）粉末を溶射し、第３図Ｂに示す
ように溶射膜５を形成する。その後、溶射膜５と
複合型７の一体物を適度の濃度に稀釈した硝酸液
に浸すと、硝酸液は溶射膜５が付着していない部
分および溶射膜５内に存在する気孔を通つて徐々
に浸入し、離型膜７ｂとしてメツキした銅膜のみ
を溶解して離型し、第３図Ｃに示すように、B4C
単体からなる振動板６を得ることができる。
同様の一般的なプラズマ溶射装置１を用いて溶射
を行う。この場合、第３図Ａに示すように所望の
形状（図においてはドーム形状）に加工されたチ
タン製の型７ａの表面に、メツキにより銅の離型
膜７ｂを形成した複合型７を使用し、その表面
に、プラズマ溶射装置１から溶射物質２として炭
化ホウ素（B4C）粉末を溶射し、第３図Ｂに示す
ように溶射膜５を形成する。その後、溶射膜５と
複合型７の一体物を適度の濃度に稀釈した硝酸液
に浸すと、硝酸液は溶射膜５が付着していない部
分および溶射膜５内に存在する気孔を通つて徐々
に浸入し、離型膜７ｂとしてメツキした銅膜のみ
を溶解して離型し、第３図Ｃに示すように、B4C
単体からなる振動板６を得ることができる。
このような方法によれば、溶射されたB4C粉
は、離型膜７ｂ上に付着して、型７ａには直接に
衝突しないため、型７ａの表面を荒すことは極め
て少なく、また振動板６は離型膜７ｂを化学的に
溶解することにより、型７ａから離型されるた
め、離型は完全に行われ、かつ離型の際の振動板
６の割れ等はほとんどなくなる。そして型７ａの
表面の荒れが極めて少ないため、再び表面に離型
膜７ｂをメツキすると、型７ａは繰り返えし何回
も使用できる。さらに離型膜７ｂとしてメツキし
た銅は軟質の金属であるため、溶射されたB4Cは
この離型膜７ｂに食い込み、衝突したB4Cのほと
んどを付着させることができる。
は、離型膜７ｂ上に付着して、型７ａには直接に
衝突しないため、型７ａの表面を荒すことは極め
て少なく、また振動板６は離型膜７ｂを化学的に
溶解することにより、型７ａから離型されるた
め、離型は完全に行われ、かつ離型の際の振動板
６の割れ等はほとんどなくなる。そして型７ａの
表面の荒れが極めて少ないため、再び表面に離型
膜７ｂをメツキすると、型７ａは繰り返えし何回
も使用できる。さらに離型膜７ｂとしてメツキし
た銅は軟質の金属であるため、溶射されたB4Cは
この離型膜７ｂに食い込み、衝突したB4Cのほと
んどを付着させることができる。
離型膜７ｂの厚さが極端に薄いと、溶射時の熱
や衝撃力により剥離し、型の表面部が荒れて離型
性が悪くなる。一方、厚すぎる場合は、メツキ工
程および溶解工程に時間がかかるため望ましくな
い。発明者らの実験によれば、0.1〜10μ程度が望
ましいという結果が得られている。また離型膜７
ｂを溶解する硝酸の濃度、液温等は溶解状況に影
響を与える。あまり溶解を急激に行うと、化学反
応による熱やガスにより振動板６が損傷すること
があり、溶解速度はできるだけ小さくすることが
望ましい。
や衝撃力により剥離し、型の表面部が荒れて離型
性が悪くなる。一方、厚すぎる場合は、メツキ工
程および溶解工程に時間がかかるため望ましくな
い。発明者らの実験によれば、0.1〜10μ程度が望
ましいという結果が得られている。また離型膜７
ｂを溶解する硝酸の濃度、液温等は溶解状況に影
響を与える。あまり溶解を急激に行うと、化学反
応による熱やガスにより振動板６が損傷すること
があり、溶解速度はできるだけ小さくすることが
望ましい。
なお前記実施例においては、型７ａの材質とし
てチタン、離型膜７ｂとして電気メツキによる銅
膜、溶解液として硝酸を用いたが、型７ａの材質
としてステンレスその他の金属、あるいはアルミ
ナ（Al2O3）、窒化ホウ素（BN）等のセラミツク
ス、離型膜７ｂとして銅以外にアルミニウム等の
軟質の金属が適用でき、また離型膜７ｂの形成は
電気メツキ以外に、無電解メツキ、蒸着、溶射等
によつても行える。さらに溶射物質２としては、
炭化ホウ素についてのみ記述したが、アルミナ
（Al2O3）等の他のセラミツクスを使用してもよ
い。また離型膜７ｂの溶解液は型７ａおよび離型
膜７ｂに適したものを使用することができ、例え
ば離型膜７ｂにアルミニウムを使用した場合は塩
酸を使用するのが望ましく、材質によつてはアル
カリ溶液でもよい。
てチタン、離型膜７ｂとして電気メツキによる銅
膜、溶解液として硝酸を用いたが、型７ａの材質
としてステンレスその他の金属、あるいはアルミ
ナ（Al2O3）、窒化ホウ素（BN）等のセラミツク
ス、離型膜７ｂとして銅以外にアルミニウム等の
軟質の金属が適用でき、また離型膜７ｂの形成は
電気メツキ以外に、無電解メツキ、蒸着、溶射等
によつても行える。さらに溶射物質２としては、
炭化ホウ素についてのみ記述したが、アルミナ
（Al2O3）等の他のセラミツクスを使用してもよ
い。また離型膜７ｂの溶解液は型７ａおよび離型
膜７ｂに適したものを使用することができ、例え
ば離型膜７ｂにアルミニウムを使用した場合は塩
酸を使用するのが望ましく、材質によつてはアル
カリ溶液でもよい。
以上述べたように、この発明によれば、所望の
形状を有する金属あるいはセラミツクスの型の表
面に軟質金属膜を形成し、その上にプラズマ溶射
によりセラミツクスの溶射膜を形成し、全体を離
型膜のみが溶解できる液に浸漬して離型し、セラ
ミツクス単体の振動板を得るように構成したの
で、型を繰り返えし何回も使用できるとともに、
セラミツクスの付着効率も上げることができ、従
来に比較して安価に振動板を製造できる効果があ
る。
形状を有する金属あるいはセラミツクスの型の表
面に軟質金属膜を形成し、その上にプラズマ溶射
によりセラミツクスの溶射膜を形成し、全体を離
型膜のみが溶解できる液に浸漬して離型し、セラ
ミツクス単体の振動板を得るように構成したの
で、型を繰り返えし何回も使用できるとともに、
セラミツクスの付着効率も上げることができ、従
来に比較して安価に振動板を製造できる効果があ
る。
第１図は従来の製造方法を示す断面図、第２図
Ａ，Ｂはその各工程を示す一部の断面図、第３図
Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれ本発明の一実施例による製
造方法の各工程を示す一部の断面図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示
し、１はプラズマ溶射装置、１ａは電極、１ｂは
ノズル、２は溶射物質、４は型、５は溶射膜、６
は振動板、７は複合型、７ａは型、７ｂは離型膜
である。
Ａ，Ｂはその各工程を示す一部の断面図、第３図
Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれ本発明の一実施例による製
造方法の各工程を示す一部の断面図である。 各図中、同一符号は同一または相当部分を示
し、１はプラズマ溶射装置、１ａは電極、１ｂは
ノズル、２は溶射物質、４は型、５は溶射膜、６
は振動板、７は複合型、７ａは型、７ｂは離型膜
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 所望形状の型の上に軟質の金属膜を形成し、
その上にセラミツクスをプラズマ溶射法により溶
射して溶射膜を形成したのち、上記金属膜を溶解
させて離型し、セラミツクスからなる振動板を得
ることを特徴とするスピーカ用振動板の製造方
法。 ２ 型が金属またはセラミツクスからなることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のスピーカ
用振動板の製造方法。 ３ 型がチタン、ステンレス、アルミナまたは窒
化ホウ素からなることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のスピーカ用振動板の製造方法。 ４ 金属膜が銅またはアルミニウムからなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項
のいずれかに記載のスピーカ用振動板の製造方
法。 ５ 溶射膜がアルミナまたは炭化ホウ素からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
４項のいずれかに記載のスピーカ用振動板の製造
方法。 ６ 金属膜の溶解が酸またはアルカリ溶液中に浸
漬して行うものであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項ないし第５項のいずれかに記載のス
ピーカ用振動板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11034283A JPS603299A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | スピ−カ用振動板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11034283A JPS603299A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | スピ−カ用振動板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603299A JPS603299A (ja) | 1985-01-09 |
| JPS64877B2 true JPS64877B2 (ja) | 1989-01-09 |
Family
ID=14533319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11034283A Granted JPS603299A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | スピ−カ用振動板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603299A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4617400A (en) * | 1985-09-11 | 1986-10-14 | Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd. | Process for preparing cyclic urea derivatives |
| JPH0385100A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-10 | Kenwood Corp | スピーカ用振動板及びその製造法 |
| EP1148052A3 (en) | 1998-10-09 | 2003-10-15 | Mitsui Chemicals, Inc. | 1,3-dialkyl-2-imidazolidinones and a manufacturing process therefor |
| US8057914B2 (en) | 2007-03-26 | 2011-11-15 | Howmedica Osteonics Corp. | Method for fabricating a medical component from a material having a high carbide phase and such medical component |
| US8920534B2 (en) | 2007-03-26 | 2014-12-30 | Howmedica Osteonics Corp. | Method for fabricating a biocompatible material having a high carbide phase and such material |
| US7771775B2 (en) * | 2007-03-26 | 2010-08-10 | Howmedica Osteonics Corp. | Method for fabricating a medical component from a material having a high carbide phase |
| KR101096548B1 (ko) * | 2009-11-06 | 2011-12-20 | 주식회사 비에스이 | 멤스 마이크로폰 및 그 제조방법 |
| JP5653776B2 (ja) * | 2011-01-28 | 2015-01-14 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高性能スピーカー用振動板及びスピーカー用振動板の製造方法 |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP11034283A patent/JPS603299A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS603299A (ja) | 1985-01-09 |
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