JPS603299A - スピ−カ用振動板の製造方法 - Google Patents

スピ−カ用振動板の製造方法

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JPS603299A
JPS603299A JP11034283A JP11034283A JPS603299A JP S603299 A JPS603299 A JP S603299A JP 11034283 A JP11034283 A JP 11034283A JP 11034283 A JP11034283 A JP 11034283A JP S603299 A JPS603299 A JP S603299A
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diaphragm
sprayed
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JP11034283A
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Masatomi Okumura
奥村 正富
Takeo Ido
井戸 猛夫
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; ELECTRIC HEARING AIDS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R7/00Diaphragms for electromechanical transducers; Cones
    • H04R7/02Diaphragms for electromechanical transducers; Cones characterised by the construction

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  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はスピーカ用振動板の製造方法に関するものであ
る。
スピーカ用振動板としては、高い弾性を有し、かつ軽量
で適当な内部損失を有することが望まれる。そこで最近
、比弾性率が高く、適当な内部損失を持つ振動板として
、プラズマ溶射によりアルミナ(A1203)、炭化ホ
ウ素(B 4 C)等のセラミックスを型に付着させて
振動板を製造する方法が提案されている。
第1図は従来の振動板の製造方法の一例を示す断面図、
第2図(A)、(B)はその各工程を示す一部の断面図
である。図において、(1)はプラズマ溶射装置で、電
極(1a)およびノズル(1b)を有し、混合ガス(1
c)を導入してプラズマ炎(1d)を発生するようにな
っている。(2)はプラズマ炎(1d)中に投入される
溶射物質、(3)は基板、(4)はこの基板に取付けら
れた型、(5)はこの型に形成された溶射膜、(6)は
この溶射膜によって形成された振動板である。
振動板の製造方法は、まず第1図に示すように、一般的
なプラズマ溶射装置(1)において、電極(1a)とノ
ズル(1b)の間に、窒素あるいはアルゴンガス中に適
当量の水素ガスを混合した混合ガス(1c)を導入し、
その間に電力を印加すると、混合ガス(1c)は電離さ
れ、プラズマ炎(ld)が発生する。プラズマ炎(1d
)、は20,000℃以上の温度にも達しており、この
プラズマ炎(1d)中に溶射物質(2)たとえば粉末状
のセラミックスを投入すると、容易に溶融する。このプ
ラズマ炎(1d)の流速は約3 、000 m/sec
にもなるので、溶射物質(2)は高速で所望振動板形状
を有する型(4)に衝突して、付着堆積し、溶射膜(5
)を形成する。このように形成されたセラミックスの溶
射膜(5)は、工具鋼、チタン等の硬い金属あるいはセ
ラミックスで作られた型(4)の表面が滑らかに加工さ
れている場合は、第2図(A)に示す状態から容易に離
型でき、第2図(B)に示すようにセラミックス単体か
らなる振動板(6)が得られる。
ところで上記所望形状を有する型(4)はかなり高価で
あるため、何回も繰り返えし使用できることが望ましい
。しかし溶射法においては、高温になった溶射物質(2
)を高速で型(4)に衝突させて膜を形成しているため
、従来の方法では型(4)の表面は徐々に荒され、また
金属の型(4)では酸化等により表面状態の変化を生じ
る。その結果、溶射膜(5)は型(4)の凹凸部に食い
込み、型(4)からの溶射膜(5)の離型性が悪くなり
、離型の際、溶射膜(5)に割れが発生したり、あるい
は全く離型できなくなることがある。そして使用回数が
増え、表面が粗くなると、この傾向は次第に強くなり、
通常は2〜3回で使用できなくなる。さらに最初の溶射
においては、型(4)の表面がきわめて平滑であるため
、溶射物質(2)が表面で滑ってしまい、付着効率が悪
い。このように、従来の方法においては、型(4)の使
用できる寿命が短く、かつ溶射効率も一定に制御しにく
いという欠点があった。
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、型の表面に酸あるいはアルカリで
溶解できる軟質の金属膜を形成し、その上にセラミック
スを溶射して振動板となる溶射膜を形成し、その後に上
記金属膜を溶解して離型することにより、型を何回も繰
り返えし使用できるとともに、溶射膜の付着効率が高く
、安価に振動板を製造することができるスピーカ用振動
板の製造方法を提供することを目的としている。
以下、本発明を一実施例に従って説明する。第3図(A
)、(B)、(C)はそれぞれこの発明の一実施例によ
る製造方法の各工程を示す一部の断面図である。図にお
いて、(7)は基板(3)に取付けられる複合型で、型
(4)と同様の型(7a)およびその表面に付着された
離型膜(7b)からなる。
振動板の製造方法は、まず第1図に示す従来と同様の一
般的なプラズマ溶射装置(1)を用いて溶射を行う。こ
の場合、第3図(A)に示すように所望の形状(図にお
い゛てはドーム形状)に加工されたチタン製の型(7a
)の表面に、メッキにより銅の離型膜(7b)を形成し
た複合型(7)を使用し、その表面に、プラズマ溶射装
置(1)から溶射物質(2)として炭化ホウ素(B4C
)粉末を溶射し、第3図(B)に示すように溶射膜(5
)を形成する。その後、溶射膜(5)と複合型(7)の
一体物を適度の濃度に稀釈した硝酸液に浸すと、硝酸液
は溶射膜(5)が付着していない部分および溶射膜(5
)内に存在する気孔を通って徐々に浸入し、離型膜(7
b)としてメッキした銅膜のみを溶解して離型し、第3
図(C)に示すように、B4C単体からなる振動板(6
)を得ることができる。
このような方法によれば、溶射されたB4C粉は、離型
膜(7b)上に付着して、型(7a)には直接に衝突し
ないため、型(7a)の表面を荒すことは極めて少なく
、また振動板(6)は離型膜(7b)を化学的に溶解す
ることにより、型(7a)から離型されるため、離型は
完全に行われ、かつ離型の際の振動板(6)の割れ等は
ほとんどなくなる。そして型(7a)の表面のit’e
hれが極めて少ないため、再び表面に離型膜(7b)を
メッキすると、型(7a)は繰り返えし何回も使用でき
る。さらトこ離型1摸(7b)としてメッキした銅は軟
質の金属であるため、溶射されたB4Cはこの離型膜(
7b)に食い込み、衝突したBACのほとんどをイ」着
させることができる。
離型膜(7b)の厚さが極端に薄いと、溶射時の熱や衝
撃力により剥離し、型の表面部が荒れて離型性が悪くな
る。一方、厚すぎる場合は、メッキ工程およびiR解工
程に時間がかかるため望ましくない。発明者らの実験に
よれば、0.1〜10μ程度が望ましいというに?r果
が得られている。また離型膜(7b)を溶解する硝酸の
濃度、液温等は溶解状況に影響を与える。あまり溶解を
急激に行うと、化学反応による熱やガスにより振動板(
6)が損傷することがあり、溶解速度はできるだけ小さ
くすることが望ましい。
なお前記実施例においては、型(7a)の材質としてチ
タン、離型膜(7b)として電気メッキによる銅膜、溶
解液として硝酸を用いたが、型(7a)の材質としてス
テンレスその他の金属、あるいはアルミナ(Al 20
3)、窒化ホウ素(BN)等のセラミックス、離型膜(
7b)として銅以外にアルミニウム等の軟質の金属が適
用でき、また離型膜(7b)の形成は電気メツキ以外に
、無電解メッキ、蒸着、溶射等によっても行える。さら
に溶射物質(2)としては、炭化ホウ素についてのみ記
述したが、アルミナ(Al 20’3 )等の他のセラ
ミックスを使用してもよい。また離型膜(7b)の溶解
液は型(7a)および離型膜(7b)に適したものを使
用することができ、例えば離型膜(7b)にアルミニウ
ムを使用した場合は塩酸を使用するのが望ましく、材質
によってはアルカリ溶液でもよい。
以上述べたように、この発明によれば、所望の形状を有
する金属あるいはセラミックスの型の表面に軟質金属1
摸を形成し、その上にプラズマ溶射によりセラミックス
の溶射膜を形成し、全体を雛型膜のみが溶解できる液に
浸漬して離型し、セラミックス単体の振動板を得るよう
に構成したので、型を繰り返えし何回も使用できるとと
もに、セラミックスの41着効率も」二げることかでき
、従来に比較して安価に振動板を製造できる効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の製造方法を示す断面図、第2図(A)、
(11)はその各工程を示す一部の断面図、第3図(A
)、(13)、(C)はそれぞれ本発明の一実施例によ
る製造方法の各」二程を示す一部の断面図である。 各図中、同−符じは同一または相当部分を示し、(1)
はプラズマ溶射装置、(1a)は電極、(ib)はノズ
ル、(2)は溶射物質、(4)は型、(5)は溶射膜、
(6)は振動板、(7)は複合型、(7a)は型、(7
b)は離型膜である。 代理人大岩増雄 545

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所望形状の型の上に軟質の金属膜を形成し、その
    上にセラミックスをプラズマ溶射法により溶射して溶射
    膜を形成したのち、上記金属膜を溶解させて離型し、セ
    ラミックスからなる振動板を得ることを特徴とするスピ
    ーカ用振動板の製造方法。
  2. (2)型が金属またはセラミックスからなることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載のスピーカ用振動板の
    製造方法。
  3. (3)型がチタン、ステンレス、アルミナまたは窒化ホ
    ウ素からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のスピーカ用振動板の製造方法。
  4. (4)金属膜が銅またはアルミニウムからなることを特
    徴とする特許請求の範囲第、1項ないし第3項のいずれ
    かに記載のスピーカ用振動板の製造方法。
  5. (5)溶射膜がアルミナまたは炭化ホウ素からなること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項のいず
    れかに記載のスピーカ用振動板の製造方法。
  6. (6)金属膜の溶解が酸またはアルカリ溶液中に浸漬し
    て行うものであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項ないし第5項のいずれかに記載のスピーカ用振動板の
    製造方法。
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Cited By (8)

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