JPS648916B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS648916B2 JPS648916B2 JP6395583A JP6395583A JPS648916B2 JP S648916 B2 JPS648916 B2 JP S648916B2 JP 6395583 A JP6395583 A JP 6395583A JP 6395583 A JP6395583 A JP 6395583A JP S648916 B2 JPS648916 B2 JP S648916B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- frequency
- waveguide
- dimension
- heating chamber
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高周波加熱装置の均一加熱に関する。
高周波加熱装置の均一加熱手段として、高周波
を乱反射するスターラ、高周波を放射する回転ア
ンテナ、被加熱物を回転移動するターンテーブ
ル、加熱室周壁に多数の高周波供給口を設ける方
法などが知られている。いずれにしてもカツトア
ンドトライによる多数の実験によつて実用に供せ
る程度に加熱むらを少なくしているが、人手とか
なりの検討期間を要するという欠点があつた。
を乱反射するスターラ、高周波を放射する回転ア
ンテナ、被加熱物を回転移動するターンテーブ
ル、加熱室周壁に多数の高周波供給口を設ける方
法などが知られている。いずれにしてもカツトア
ンドトライによる多数の実験によつて実用に供せ
る程度に加熱むらを少なくしているが、人手とか
なりの検討期間を要するという欠点があつた。
本発明は上記欠点を解消するもので、簡単な手
段で均一加熱を得る高周波加熱装置を提供するこ
とを目的とする。
段で均一加熱を得る高周波加熱装置を提供するこ
とを目的とする。
以下本発明の一実施例を第1図、第2図に従つ
て説明する。第1図は本発明の高周波加熱装置の
一実施例を示す要部断面略図で、第2図は第1図
のXY方向から見た上面図である。1は高周波エ
ネルギーを発生する高周波発振器で、2は高周波
発振器1を加熱室3に連結する導波管である。加
熱室3および導波管2は金属板から形成されてい
る。加熱室3内の下部には食品などの被加熱物4
を載置して回転移動させるターンテーブル5を設
けている。加熱室3に導波管2を結合する部分に
は高周波放射口を2個所6,7設け、一方の高周
波放射口6を導波管2の先端部とし、もう一方の
高周波放射口7を加熱室3の端部とし、かつ導波
管2の軸方向に対する上記2個所の高周波放射口
6,7の寸法B、Dと上記2個所の高周波放射口
6,7の間を隔てる仕切部8の寸法Cとを合計し
た寸法B+C+Dを使用波長λに対して1/2λ〜
λ+1/4λにするとともに仕切部8の寸法Cを1/8
λ以上としている。9は導波管2の下板と加熱室
3の上壁端部とを接合するためのねじである。ね
じ9の取付部寸法Eは製作の容易さの点から15mm
以上は必要である。
て説明する。第1図は本発明の高周波加熱装置の
一実施例を示す要部断面略図で、第2図は第1図
のXY方向から見た上面図である。1は高周波エ
ネルギーを発生する高周波発振器で、2は高周波
発振器1を加熱室3に連結する導波管である。加
熱室3および導波管2は金属板から形成されてい
る。加熱室3内の下部には食品などの被加熱物4
を載置して回転移動させるターンテーブル5を設
けている。加熱室3に導波管2を結合する部分に
は高周波放射口を2個所6,7設け、一方の高周
波放射口6を導波管2の先端部とし、もう一方の
高周波放射口7を加熱室3の端部とし、かつ導波
管2の軸方向に対する上記2個所の高周波放射口
6,7の寸法B、Dと上記2個所の高周波放射口
6,7の間を隔てる仕切部8の寸法Cとを合計し
た寸法B+C+Dを使用波長λに対して1/2λ〜
λ+1/4λにするとともに仕切部8の寸法Cを1/8
λ以上としている。9は導波管2の下板と加熱室
3の上壁端部とを接合するためのねじである。ね
じ9の取付部寸法Eは製作の容易さの点から15mm
以上は必要である。
高周波放射口6,7の寸法B、Dと仕切部の寸
法Cとの合計寸法B+C+Dを1/2λ〜λ+1/4λ
にしている理由を説明する。導波管2内の管内波
長λgは使用波長(自由空間波長)λよりも大き
く、長辺寸法aを狭くするほど大きくなるという
性質があるが、実用寸法の導波管では1/2λ〜λ
+1/4λの範囲内に少なくとも1/2λgが含まれて
いる。具体的に述べると、家庭用の高周波加熱装
置いわゆる電子レンジにおいては、λ=122mm
(周波数2450MHzに対応)で、1/2λ〜λ+1/4λ
は61〜153mmであり、a寸法は96、80、70mmが一
般的である。a=96mmに対しては1/2λg=79mm
で、61<B+C+D<153mmの範囲内では、磁界
最大位置が導波管軸方向に対して先端と79mmの2
箇所であり、磁界最小位置は39.5mmと118.5mmの
2箇所である。磁界最大位置では磁界と直行する
導波管軸方向の壁面電流も最大となる。この壁面
電流を切るように高周波放射口6,7を設けるこ
とにより、高周波放射口6,7から能率よく高周
波エネルギーを加熱室3内に向かつて放射でき
る。そこで、a=96mmの場合は、高周波放射口
6,7をそれぞれ磁界最大位置である導波管の先
端部と79mm付近に配設する。仕切部8は高周波放
射効率の悪い磁界最小位置39.5mm付近に配設す
る。実用上、a=96mmでは、B+C+Dの最小寸
法1/2λgに対応する79mmである。
法Cとの合計寸法B+C+Dを1/2λ〜λ+1/4λ
にしている理由を説明する。導波管2内の管内波
長λgは使用波長(自由空間波長)λよりも大き
く、長辺寸法aを狭くするほど大きくなるという
性質があるが、実用寸法の導波管では1/2λ〜λ
+1/4λの範囲内に少なくとも1/2λgが含まれて
いる。具体的に述べると、家庭用の高周波加熱装
置いわゆる電子レンジにおいては、λ=122mm
(周波数2450MHzに対応)で、1/2λ〜λ+1/4λ
は61〜153mmであり、a寸法は96、80、70mmが一
般的である。a=96mmに対しては1/2λg=79mm
で、61<B+C+D<153mmの範囲内では、磁界
最大位置が導波管軸方向に対して先端と79mmの2
箇所であり、磁界最小位置は39.5mmと118.5mmの
2箇所である。磁界最大位置では磁界と直行する
導波管軸方向の壁面電流も最大となる。この壁面
電流を切るように高周波放射口6,7を設けるこ
とにより、高周波放射口6,7から能率よく高周
波エネルギーを加熱室3内に向かつて放射でき
る。そこで、a=96mmの場合は、高周波放射口
6,7をそれぞれ磁界最大位置である導波管の先
端部と79mm付近に配設する。仕切部8は高周波放
射効率の悪い磁界最小位置39.5mm付近に配設す
る。実用上、a=96mmでは、B+C+Dの最小寸
法1/2λgに対応する79mmである。
同様にa=80mmの場合は、61<B+C+D<
153mmの範囲内に磁界最大位置が2箇所、最小位
置が2箇所あるが、高周波放射口6,7をそれぞ
れ磁界最大位置である導波管先端部と95mm付近に
配設し、仕切部8は磁界最小位置の47.5mm付近に
配設する。実用上、a=80mmではB+C+Dの最
小寸法は1/2λgに対応する95mmである。
153mmの範囲内に磁界最大位置が2箇所、最小位
置が2箇所あるが、高周波放射口6,7をそれぞ
れ磁界最大位置である導波管先端部と95mm付近に
配設し、仕切部8は磁界最小位置の47.5mm付近に
配設する。実用上、a=80mmではB+C+Dの最
小寸法は1/2λgに対応する95mmである。
また、a=70mmの場合は、61<B+C+D<
153mmの範囲内に磁界最大位置が2箇所、最小位
置が1箇所あるが、高周波放射口6,7をそれぞ
れ磁界最大位置である導波管先端部と126mm付近
に配設し、仕切部8は磁界最小位置の63mm付近に
配設する。実用上、a=70mmではB+C+Dの最
小寸法は1/2λgに対応する126mmである。家庭用
の電子レンジでは、加熱室の幅は270mm〜400mm程
度である。前述のように、a=96mmでは、B+C
+Dの最小寸法が79mmであり、これにEの最小寸
法15mmを加えた寸法94mmである。この94mmがA
(=B+C+D+E)寸法の最小であり、上記電
子レンジの最小幅270mmの1/2である135mmよりも
短く実施可能である。同様に、a=80mmではA寸
法の最小は110mmとなり、a=70mmではA寸法の
最小は141mmとなる。このように、a=96、80、
70mmいずれの場合も導波管2の先端と加熱室3の
側壁との距離Aは、実際の電子レンジの加熱室の
導波管軸方向の幅のほぼ1/2以内と短くでき、ス
ペース的、コスト的に有利である。
153mmの範囲内に磁界最大位置が2箇所、最小位
置が1箇所あるが、高周波放射口6,7をそれぞ
れ磁界最大位置である導波管先端部と126mm付近
に配設し、仕切部8は磁界最小位置の63mm付近に
配設する。実用上、a=70mmではB+C+Dの最
小寸法は1/2λgに対応する126mmである。家庭用
の電子レンジでは、加熱室の幅は270mm〜400mm程
度である。前述のように、a=96mmでは、B+C
+Dの最小寸法が79mmであり、これにEの最小寸
法15mmを加えた寸法94mmである。この94mmがA
(=B+C+D+E)寸法の最小であり、上記電
子レンジの最小幅270mmの1/2である135mmよりも
短く実施可能である。同様に、a=80mmではA寸
法の最小は110mmとなり、a=70mmではA寸法の
最小は141mmとなる。このように、a=96、80、
70mmいずれの場合も導波管2の先端と加熱室3の
側壁との距離Aは、実際の電子レンジの加熱室の
導波管軸方向の幅のほぼ1/2以内と短くでき、ス
ペース的、コスト的に有利である。
なお、A寸法が加熱室3のほぼ1/2以内であつ
ても、ターンテーブル5で被加熱物4を回転移動
させるので、被加熱物4の全面に均一に高周波エ
ネルギーを照射することができる。
ても、ターンテーブル5で被加熱物4を回転移動
させるので、被加熱物4の全面に均一に高周波エ
ネルギーを照射することができる。
仕切部8の寸法Cを1/8λ以上としている理由
を説明する。高周波加熱装置の使用波長λを122
mm(周波数2450MHzに対応)とした場合、1/8λ
は約15mmとなる。この15mmは、家庭用の高周波加
熱装置いわゆる電子レンジにおいて、仕切部8を
塗装した鉄板あるいはステンレススチールで製作
したとき、500W〜700Wの高周波エネルギーを供
給している加熱室3内に被加熱物4を入れ忘れた
状態すなわち空焼状態で異常加熱による変色や変
形などの不都合が生じないために必要なもので、
その最小寸法であり、実用上は寸法Cは15mmより
大き目にする必要がある。
を説明する。高周波加熱装置の使用波長λを122
mm(周波数2450MHzに対応)とした場合、1/8λ
は約15mmとなる。この15mmは、家庭用の高周波加
熱装置いわゆる電子レンジにおいて、仕切部8を
塗装した鉄板あるいはステンレススチールで製作
したとき、500W〜700Wの高周波エネルギーを供
給している加熱室3内に被加熱物4を入れ忘れた
状態すなわち空焼状態で異常加熱による変色や変
形などの不都合が生じないために必要なもので、
その最小寸法であり、実用上は寸法Cは15mmより
大き目にする必要がある。
次に、本発明の高周波加熱装置の作用、効果を
説明する。高周波発振器1から加熱室3に向かう
高周波エネルギーは、まず加熱室3端部の高周波
放射口7から加熱室3内に放射され、続いて残り
の高周波エネルギーが導波管2の先端部の高周波
放射口6から加熱室3内に放射される。仕切部8
の寸法Cや位置を調節することにより、高周波放
射口7と6との高周波エネルギーの放射比率を調
節でき、ターンテーブル5の半径方向の加熱むら
を少なくすることができる。円周方向の加熱むら
はターンテーブル5の回転移動により少なくする
ことができるのはいうまでもない。
説明する。高周波発振器1から加熱室3に向かう
高周波エネルギーは、まず加熱室3端部の高周波
放射口7から加熱室3内に放射され、続いて残り
の高周波エネルギーが導波管2の先端部の高周波
放射口6から加熱室3内に放射される。仕切部8
の寸法Cや位置を調節することにより、高周波放
射口7と6との高周波エネルギーの放射比率を調
節でき、ターンテーブル5の半径方向の加熱むら
を少なくすることができる。円周方向の加熱むら
はターンテーブル5の回転移動により少なくする
ことができるのはいうまでもない。
以上のように、本発明によると、高周波放射口
の寸法範囲、どこを調節すればよいかが明確であ
るので、加熱むら改善に要する人手や期間を低減
でき、ターンテーブル上の半径方向、円周方向の
加熱むらが少なく、かつ二つの放射効率のよい放
射口を設けた導波管の先端と加熱室の側壁との距
離が実際の電子レンジの加熱室の幅のほぼ1/2以
内と短くて済み、スペース的、コスト的に有利な
高周波加熱装置が提供でき、実施する効果は大な
るものがある。
の寸法範囲、どこを調節すればよいかが明確であ
るので、加熱むら改善に要する人手や期間を低減
でき、ターンテーブル上の半径方向、円周方向の
加熱むらが少なく、かつ二つの放射効率のよい放
射口を設けた導波管の先端と加熱室の側壁との距
離が実際の電子レンジの加熱室の幅のほぼ1/2以
内と短くて済み、スペース的、コスト的に有利な
高周波加熱装置が提供でき、実施する効果は大な
るものがある。
第1図は本発明の高周波加熱装置の一実施例を
示す要部断面略図で、第2図は第1図のXY方向
から見た上面図である。 1……高周波発振器、2……導波管、3……加
熱室、4……被加熱物、5……ターンテーブル、
6,7……高周波放射口、8……仕切部、B,
C,D……各高周波放射口及び仕切部の寸法。
示す要部断面略図で、第2図は第1図のXY方向
から見た上面図である。 1……高周波発振器、2……導波管、3……加
熱室、4……被加熱物、5……ターンテーブル、
6,7……高周波放射口、8……仕切部、B,
C,D……各高周波放射口及び仕切部の寸法。
Claims (1)
- 1 高周波エネルギーを発生する高周波発振器1
と、この高周波発振器1を加熱室3に連結する導
波管2と、被加熱物4を回転移動させるターンテ
ーブル5とを備えた高周波加熱装置において、導
波管2と加熱室3との結合部に2個の高周波放射
口6,7を設け、導波管軸方向に対する上記2個
所の高周波放射口6,7の寸法B、Dと上記2個
所の高周波放射口6,7の間を隔てる仕切部8の
寸法Cとを合計した寸法(B+C+D)を使用波
長の1/2〜5/4にしたことを特徴とする高周波加熱
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6395583A JPS59189588A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6395583A JPS59189588A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59189588A JPS59189588A (ja) | 1984-10-27 |
| JPS648916B2 true JPS648916B2 (ja) | 1989-02-15 |
Family
ID=13244247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6395583A Granted JPS59189588A (ja) | 1983-04-12 | 1983-04-12 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59189588A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6025874B2 (ja) * | 1980-09-18 | 1985-06-20 | 株式会社東芝 | 高周波加熱装置 |
-
1983
- 1983-04-12 JP JP6395583A patent/JPS59189588A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59189588A (ja) | 1984-10-27 |
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