JPWO2024253033A5 - - Google Patents

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JPWO2024253033A5
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上記式(1)中、Y及びYは、各々独立して、水素及び電子供与基から選択されるが、同時に水素は選択されない。従って、 及びY は、両方共電子供与基から選択されてよいし、片方が水素で、片方が、電子供与基から選択されてよいが、両方共水素であることはない。
本明細書において電子供与基とは、フェニル基と結合したときに、フェニル基に電子を供与する性質を有する基をいい、本発明が目的とするホウ素化合物を得られる限り特に制限されることはない。電子供与基として、例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルコキシ、アミノ、アルキルアミド、ジアルキルアミノ、シリル、トリアルキルシリル、トリアリールシリル、アルキルアリールシリル等を例示することができる。電子供与基として、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルキルアミド、ジアルキルアミノ、トリアルキルシリル等が好ましく、アルキル、アルケニル、アルコキシ、トリアルキルシリル等が好ましい。

Claims (10)

  1. 下記式(1)で表されるホウ素化合物。
    [上記式(1)中、X及びXは、各々独立して、電子求引基から選択され、Y及びYは、各々独立して、電子供与基から選択され、は、炭素数1~24の有機基から選択され、該炭素数1~24の有機基は置換基を有していても良く、nは、0~2の整数から選択される。]
  2. 下記式(2)で表されるホウ素化合物のルイス塩基錯体。
    [上記式(2)中、X及びXは、各々独立して、電子求引基から選択され、Y及びYは、各々独立して、電子供与基から選択され、は、炭素数1~24の有機基から選択され、該炭素数1~24の有機基は置換基を有していても良く、nは、0~2の整数から選択され、LBは、ルイス塩基から選択される。]
  3. 請求項1に記載のホウ素化合物又は請求項2に記載のルイス塩基錯体を含む化学品組成物。
  4. 請求項1に記載のホウ素化合物又は請求項2に記載のルイス塩基錯体を含む水素化触媒。
  5. 請求項4に記載の水素化触媒を用いる、水素化物の製造方法。
  6. 粗水素ガス存在下で、請求項4に記載の水素化触媒を用いることを含む、水素化物の製造方法。
  7. 請求項1に記載のホウ素化合物又は請求項2に記載のルイス塩基錯体を含む重合開始剤。
  8. 請求項7に記載の重合開始剤を用いることを含む、重合体の製造方法。
  9. 請求項1に記載のホウ素化合物を含むルイス酸触媒。
  10. 請求項9に記載のルイス酸触媒を用いることを含む、付加体の製造方法。
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