KR20020006531A - 아크-프리 전자총 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 전자총에 있어서,상기 전자총은 이미터 조립체와 자석 조립체를 포함하며,상기 이미터 조립체는,가열될 때 전자를 방출하는 필라멘트와;상기 필라멘트에 인접하여 배열되며 상기 필라멘트와 정렬되는 음극 윈도우를 형성하는 음극판; 및상기 음극판에 인접하여 배열되고 상기 음극 윈도우와 정렬되는 양극 윈도우를 형성하는 양극판을 구비하고,상기 음극판과 양극판은 상기 음극 윈도우와 양극 윈도우를 통해 횡단하는 전자열 안으로 상기 방출된 전자들을 지향하는 정전 필드를 형성하기 위한 전압원에 연결될 수 있으며,상기 자석 조립체는,도가니; 및상기 도가니에 대한 통로를 따라 전자열을 안내하기 위한 자기장을 발생시키는 자석을 구비하고,상기 양극 윈도우, 음극 윈도우 및 필라멘트는 전자열의 발산을 최소화 하는 정전 렌즈를 형성하기 위해 서로 정렬되는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 음극 윈도우에 대한 양극 윈도우의 정렬은 양극 윈도우의 상부 에지가 음극 윈도우의 상부 에지보다 높게 오프셋되도록 형성되는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 음극 윈도우는 필라멘트의 평행한 단면적보다 큰 면적을 가지며, 상기 양극 윈도우는 상기 음극 윈도우의 면적보다 큰 면적을 갖는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 전자열의 통로를 따라 자기장을 형성하기 위한 자석에 결속되는 복수의 부재들을 부가로 포함하는 전자총.
- 제 4항에 있어서, 상기 자석은 한 쌍의 자극을 포함하며,상기 자석에 결속된 복수의 부재들은,상기 자석의 자극들 중 각각 다른 하나로부터 연장하는 한 쌍의 연장판; 및상기 전자열의 통로를 따라 자기장의 균일성을 증가시키기 위해, 상기 연장판으로부터 상기 전자열의 통로를 향해 연장하는 복수의 연장 부재를 포함하는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 전류를 통과시키고 필라멘트를 가열하기 위해 상기 필라멘트에 전기 접속된 한 쌍의 절연 와이어; 및와이어들 중 하나의 적어도 일부가 관통하는 제 1 채널과 냉각 유체가 유동하는 제 2 채널을 형성하는 냉각 유체 자켓 부재를 부가로 포함하는 전자총.
- 제 6항에 있어서, 상기 냉각 유체 자켓 부재는,제 1 채널을 형성하는 제 1 벨로우즈; 및제 1 벨로우즈를 동심적으로 둘러싸는 제 2 벨로우즈를 포함하며,상기 제 2 채널은 제 1 벨로우즈와 제 2 벨로우즈 사이에 형성되는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 양극판은 직접 음극판에 대향하도록 형성된 제 2 양극 윈도우를 포함하는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 전압원에 전기적으로 접속될 수 있는 이온 포획판을 부가로 포함하며, 상기 양극판은 상기 이온 포획판에 정렬되는 제 2 양극 윈도우를 포함하는 전자총.
- 제 1항에 있어서, 상기 음극판은 상기 전자열을 형성하기 위해 양극판과 비교하여 음성 전위를 갖는 필라멘트를 완전히 둘러싸도록 성형되는 전자총.
- 실내 물질을 증발시키기 위한 진공 적층실에 장착될 수 있는 전자총에 있어서,상기 전자총은 이미터 조립체와 자석 조립체를 포함하며,상기 이미터 조립체는,가열될 때 전자를 방출하는 필라멘트와;상기 필라멘트에 인접하여 배열되며 상기 필라멘트와 정렬되는 음극 윈도우를 형성하는 음극판; 및상기 음극판에 인접하여 배열되고 상기 음극 윈도우와 정렬되는 양극 윈도우를 형성하는 양극판을 구비하고,상기 음극판과 양극판은 상기 전압원에 연결될 수 있으며, 서로에 대해 정렬되고, 상기 필라멘트는 음극 윈도우와 양극 윈도우를 통해 횡단하는 최소 발산을 갖는 전자열 안으로 상기 방출된 전자들을 집중시키는 렌즈로서 작용하는 정전 필드를 형성하기 위해 구비되며,상기 자석 조립체는,도가니와;상기 도가니에 대한 통로를 따라 전자열을 안내하기 위한 자기장을 발생시키는 한쌍의 자극을 갖는 자석과;상기 자석의 자극들 중 각각 다른 하나로부터 연장하는 한 쌍의 연장판, 및상기 연장판으로부터 상기 전자열의 통로를 향해 연장하는 복수의 연장 부재를 구비하고,상기 자석, 한 쌍의 연장판, 및 복수의 연장 부재는 상기 전자열이 최소 발산을 갖고 도가니로 안내되도록 전자열 통로를 따라 균일한 필드를 제공하는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 상기 음극 윈도우에 대한 양극 윈도우의 정렬은 양극 윈도우의 상부 에지가 음극 윈도우의 상부 에지보다 높게 오프셋되도록 형성되는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 상기 음극 윈도우는 필라멘트의 평행한 단면적보다 큰 면적을 가지며, 상기 양극 윈도우는 상기 음극 윈도우의 면적보다 큰 면적을 갖는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 전류를 통과시키고 필라멘트를 가열하기 위해 상기 필라멘트에 전기 접속된 한 쌍의 절연 와이어; 및와이어들 중 하나의 적어도 일부가 관통하는 제 1 채널과 냉각 유체가 유동하는 제 2 채널을 형성하는 냉각 유체 자켓 부재를 부가로 포함하는 전자총.
- 제 14항에 있어서, 상기 냉각 유체 자켓 부재는,제 1 채널을 형성하는 제 1 벨로우즈; 및제 1 벨로우즈를 동심적으로 둘러싸는 제 2 벨로우즈를 포함하며,상기 제 2 채널은 제 1 벨로우즈와 제 2 벨로우즈 사이에 형성되는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 상기 양극판은 직접 음극판에 대향하도록 형성된 제 2 양극 윈도우를 포함하는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 상기 전압원에 전기적으로 접속될 수 있는 이온 포획판을 부가로 포함하며, 상기 양극판은 상기 이온 포획판에 정렬되는 양극 윈도우를 포함하는 전자총.
- 제 11항에 있어서, 상기 음극판은 상기 전자열을 형성하기 위해 양극판과 비교하여 음성 전위를 갖는 필라멘트를 완전히 둘러싸도록 성형되는 전자총.
- 전자총에 있어서,상기 전자총은 이미터 조립체와 자석 조립체를 포함하며,상기 이미터 조립체는,가열될 때 전자를 방출하는 필라멘트와;상기 필라멘트에 인접하여 배열된 음극판; 및상기 음극판에 인접하여 배열된 양극판을 구비하며,상기 음극판과 양극판은 상기 방출된 전자들을 전자열 안으로 지향하는 정전 필드를 형성하기 위한 전압원에 연결될 수 있으며,상기 자석 조립체는,도가니와;상기 도가니에 대한 통로를 따라 전자열을 안내하기 위한 자기장을 발생시키는 자석; 및상기 전압원에 전기적으로 연결될 수 있는 이온 포획판을 구비하며,상기 양극판은 그 안에 형성되고 작동중 양이온을 흡인하는 이온 포획판에 정렬되는 양극 윈도우를 포함하는 전자총.
- 전자총에 있어서,상기 전자총은 이미터 조립체와 자석 조립체를 포함하며,상기 이미터 조립체는,가열될 때 전자를 방출하는 필라멘트와;상기 필라멘트에 인접하여 배열된 음극판; 및상기 음극판에 인접하여 배열된 양극판을 구비하며,상기 음극판과 양극판은 상기 방출된 전자들을 전자열 안으로 지향하는 정전 필드를 형성하기 위한 전압원에 연결될 수 있으며,상기 자석 조립체는,도가니와;상기 도가니에 대한 통로를 따라 전자열을 안내하기 위한 자기장을 발생시키는 자석과;전류를 흐르게 하고 상기 필라멘트를 가열하기 위해 상기 필라멘트에 전기적으로 연결되는 한 쌍의 절연 와이어; 및상기 와이어 중 하나의 적어도 일부가 통과하는 제 1 채널과 냉각 유체가 유동하는 제 2 채널을 형성하는 냉각 유체 자켓 부재를 구비하는 전자총.
- 제 20항에 있어서, 상기 냉각 유체 자켓 부재는,제 1 채널을 형성하는 제 1 벨로우즈; 및제 1 벨로우즈를 동심적으로 둘러싸는 제 2 벨로우즈를 포함하며,상기 제 2 채널은 제 1 벨로우즈와 제 2 벨로우즈 사이에 형성되는 전자총.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/283,898 | 1999-03-30 | ||
| US09/283,898 US6064686A (en) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Arc-free electron gun |
| PCT/US2000/006015 WO2000058049A1 (en) | 1999-03-30 | 2000-03-08 | Arc-free electron gun |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20020006531A true KR20020006531A (ko) | 2002-01-19 |
| KR100711529B1 KR100711529B1 (ko) | 2007-04-27 |
Family
ID=23088048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR20017012316A Expired - Fee Related KR100711529B1 (ko) | 1999-03-30 | 2000-03-08 | 아크-프리 전자총 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6064686A (ko) |
| EP (1) | EP1204507B1 (ko) |
| JP (1) | JP4689049B2 (ko) |
| KR (1) | KR100711529B1 (ko) |
| AT (1) | ATE454948T1 (ko) |
| AU (1) | AU3619600A (ko) |
| DE (1) | DE60043700D1 (ko) |
| TW (1) | TW451249B (ko) |
| WO (1) | WO2000058049A1 (ko) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004192903A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Prazmatec:Kk | 電子銃 |
| JP4584008B2 (ja) * | 2005-04-14 | 2010-11-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | 電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置 |
| US7544523B2 (en) * | 2005-12-23 | 2009-06-09 | Fei Company | Method of fabricating nanodevices |
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| DE102020213174B4 (de) | 2020-10-19 | 2026-01-08 | THEVA DüNNSCHICHTTECHNIK GMBH | Emitteranordnung für eine elektronenkanone, aktiv gekühlte strahlführungseinrichtung und axiale elektronenkanone |
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1999
- 1999-03-30 US US09/283,898 patent/US6064686A/en not_active Expired - Lifetime
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2000
- 2000-03-08 WO PCT/US2000/006015 patent/WO2000058049A1/en not_active Ceased
- 2000-03-08 DE DE60043700T patent/DE60043700D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-08 AT AT00914863T patent/ATE454948T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-03-08 EP EP00914863A patent/EP1204507B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-08 JP JP2000607788A patent/JP4689049B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-08 KR KR20017012316A patent/KR100711529B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-08 AU AU36196/00A patent/AU3619600A/en not_active Abandoned
- 2000-05-02 TW TW089105781A patent/TW451249B/zh not_active IP Right Cessation
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|---|---|
| AU3619600A (en) | 2000-10-16 |
| DE60043700D1 (de) | 2010-03-04 |
| TW451249B (en) | 2001-08-21 |
| WO2000058049A1 (en) | 2000-10-05 |
| EP1204507A4 (en) | 2007-07-18 |
| JP2002540574A (ja) | 2002-11-26 |
| JP4689049B2 (ja) | 2011-05-25 |
| KR100711529B1 (ko) | 2007-04-27 |
| ATE454948T1 (de) | 2010-01-15 |
| EP1204507B1 (en) | 2010-01-13 |
| EP1204507A1 (en) | 2002-05-15 |
| US6064686A (en) | 2000-05-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A15-nap-PA0105 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| R17-X000 | Change to representative recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R17-oth-X000 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U12-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100414 Year of fee payment: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110414 Year of fee payment: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120409 Year of fee payment: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130403 Year of fee payment: 7 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140331 Year of fee payment: 8 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150416 Year of fee payment: 9 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 9 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160415 Year of fee payment: 10 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 10 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170330 Year of fee payment: 11 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 11 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180412 Year of fee payment: 12 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 12 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee | ||
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20190420 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20190420 |