KR20020008049A - 다층 광학 기록 매체의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
스탬퍼 박리시의 곤란성 및 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있는 다층 광학 기록 매체 및 그 제조방법을 제공한다.
요철 패턴(G11)이 형성된 기판 상에, 제 1 광학 기록층(11)을 형성한다. 한편, 표면에 요철 패턴(G13)이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판(T)을 작성하고, 전사용 기판(T)의 요철 패턴(G13) 상에 반투명 막 등으로 이루어지는 제 2 광학 기록층(13)을 형성하고, 제 2 광학 기록층(13)의 상부에 접착제(14)에 의해 가요성 필름(15)을 접착하고, 제 2 광학 기록층(13)과 전사용 기판(T)의 계면에서 박리하여, 제 2 광학 기록층(13)을 가요성 필름(15)에 전사한다. 다음에, 제 1 광학 기록층(11)과 제 2 광학 기록층(13)을 대향시킨 상태로 접합한다.
Description
본 발명은 정보를 광학적으로 기록하는 광학 기록층을 복수층 적층한 다층 광학 기록 매체 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근, 정보 기록 분야에 있어서는 광학 정보 기록 방식에 관한 연구가 각 처에서 진행되고 있다. 상기 광학 정보 기록 방식은, 비접촉으로 기록·재생을 행할 수 있는 것, 재생 전용형, 추가 기록형, 개서 가능형의 각각의 메모리 형태에 대응할 수 있는 등의 수많은 이점을 갖고, 염가의 대용량 파일의 실현을 가능하게 하는 방식으로서 산업용으로부터 민생용까지 폭넓은 용도가 고려되고 있다.
그 중에서도, 특히, 재생 전용형 메모리 형태에 대응한 광 디스크인 디지털 오디오 디스크, 디지털 버사타일(versatile) 디스크 등으로 불리고 있는 고밀도 정보 기록 매체나 광학식 비디오 디스크 등이 보급되어 있다.
이러한 종류의 광 디스크에서는, 신호 정보를 나타내는 피트나 그룹 등의 요철 패턴이 형성된 투명 기판인 광 디스크 기판 상에 알루미늄 막 등의 금속 박막으로 이루어지는 반사막이 형성되고, 또한 상기 반사막을 대기 중의 수분, 산소로부터 보호하기 위한 보호막이 상기 반사막 상에 형성된 구성으로 되어 있다. 또한, 이러한 광 디스크의 정보를 재생할 때에는, 예를 들면 광 디스크 기판측으로부터 상기 요철 패턴에 레이저 광 등의 재생 광을 조사하고, 그 입사 광과 복귀 광의 반사율 차에 의해 정보를 검출한다.
이러한 광 디스크를 제조할 때에는, 우선 사출 성형 등의 수법에 의해 상기 요철 패턴을 갖는 광 디스크 기판을 형성하고, 그 위에 금속 박막으로 이루어지는 반사막을 증착 등의 수법에 의해 형성하며, 또한 그 위에 자외선 경화형 수지 등을 도포하여 보호막을 형성한다.
그런데, 최근, 이러한 광 디스크의 대기억 용량화에 대한 요구가 높아지고 있고, 이것에 대응하기 위해, 요철 패턴을 광 디스크 기판의 한쪽의 면 상에 형성하고, 이 위에 반투명 막을 형성하며, 상기 반투명 막 상에 수 10μm의 거리를 두고 요철 패턴을 형성하고, 그 위에 반사막을 형성하도록 하여 합계 2층의 광학 기록층을 갖는 광 디스크가 제안되어 있다.
상기의 광학 기록층을 복수층 갖는 광 디스크는, 대용량으로서, 생산성을 올려 용이하게 생산할 수 있는 것이 요망되고 있다.
상기의 방법으로서는, 요철 패턴을 갖는 스탬퍼에 자외선 경화형 수지를 도포하고, 가요성 필름에 가압하면서 자외선을 조사하여 경화시키고, 스탬퍼를 박리 함으로써, 가요성 필름에 접착된 상태로 경화한 자외선 경화형 수지에 요철 패턴을 전사하고, 얻어진 경화 수지 막의 요철 패턴 상에 반투명 막을 형성하여 광학 기록층을 1층 갖는 제 1 적층체를 형성하고, 한편, 사출 성형에 의해 요철 패턴을 갖는 기판을 형성하고, 얻어진 요철 패턴 상에 반사막을 형성하여, 동일하게 광학 기록층을 1층 갖는 제 2 적층체를 형성하고, 상기 제 1 적층체와 제 2 적층체를 접합하는 제조하는 방법이 있다.
그러나, 상기의 종래 광학 기록층을 복수층 갖는 광 디스크의 제조방법에 있어서는 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 것이 곤란하고, 경화 수지에 불균일이 발생하거나, 수지가 스탬퍼에 부착하여 스탬퍼의 수명이 짧게 되어 버린다고 하는 문제가 있다.
또한, 가요성 필름에 접착한 경화 수지 막에 반투명 막을 형성하는 공정에 있어서, 가요성 필름을 사용하고 있으므로 핸들링성이 그다지 좋지 않기 때문에, 성막(成膜) 처리를 실시하는 데 곤란을 수반하거나, 성막 처리 중에 가요성 필름에주름이 생기게 되는 등의 문제도 갖고 있다.
본 발명은, 상기의 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 따라서 본 발명의 목적은 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있는 다층 광학 기록 매체 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은, 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하는 공정과, 상기 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층과 상기 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정과, 상기 제 1 광학 기록층과 상기 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 1 광학 기록층을 반사막에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 2 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 2 광학 기록층을 스퍼터링 법에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 2광학 기록층을 알루미늄, 은 또는 실리콘 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재료에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 기판에 반사 막 등으로 이루어지는 제 1 광학 기록층을 형성한다. 한편, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고, 전사용 기판의 요철 패턴 상에 반투명 막 등으로 이루어지는 제 2 광학 기록층을 형성하고, 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하고, 제 2 광학 기록층과 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 제 2 광학 기록층을 가요성 필름에 전사한다. 다음에, 제 1 광학 기록층과 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합한다.
따라서, 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 공정이나, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막하는 공정을 요하지 않고 제조할 수 있고, 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은, 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 1 전사용 기판을 작성하는 공정과, 상기 제 1 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 1 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정과, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 2 전사용 기판을 작성하는 공정과, 상기 제 2 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 3 광학 기록층을 형성하는 공정과, 상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 1 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정과, 상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 1 광학 기록층 상에 전사하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 3 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 3 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 1 광학 기록층 상에 전사하는 공정 이후에, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고, 해당 요철 패턴 상에 광학 기록층을 형성하고, 해당 광학 기록층을 접착제에 의해 접합하여 전사하는 공정을 반복한다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은, 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 1 전사용 기판을 작성하는 공정과, 상기 제 1 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과, 상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 1 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정과, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 2 전사용 기판을 작성하는 공정과, 상기 제 2 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 3 광학 기록층을 형성하는 공정과, 상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정과, 상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 2 광학 기록층 상에 전사하는 공정과, 상기 제 1 광학 기록층과 상기 제 3 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 3 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 적합하게도 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 2 광학 기록층 상에 전사하는 공정 이후에, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고, 해당 요철 패턴 상에 광학 기록층을 형성하고, 해당 광학 기록층을 접착제에 의해 접합하여 전사하는 공정을 반복한다.
상기의 본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법은 기판에 반사막 등으로 이루어지는 제 1 광학 기록층을 형성한다.
다음에, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 1 전사용 기판을 작성하고, 제 1 전사용 기판의 요철 패턴 상에 반투명 막 등으로 이루어지는 제 2 광학 기록층을 형성하고, 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하고, 제 2 광학 기록층과 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 제 2 광학 기록층을 가요성 필름에 전사한다.
다음에, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 2 전사용 기판을 작성하고, 제 2 전사용 기판의 요철 패턴 상에 반투명 막 등으로 이루어지는 제 3 광학 기록층을 형성하고, 제 3 광학 기록층을 제 1 광학 기록층 또는 제 1 광학 기록층 상에 전사한다.
다음에, 제 3 광학 기록층과, 제 1 광학 기록층 또는 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합한다.
따라서, 3층의 광학 기록층을 갖는 광 디스크를 제조할 때에, 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 공정이나, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막하는 공정을 요하지 않고 제조할 수 있고, 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있다.
또한, 제 3 광학 기록층을 전사하는 공정 이후에, 표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고, 해당 요철 패턴 상에 광학 기록층을 형성하고, 해당 광학 기록층을 접착제에 의해 접합하여 전사하는 공정을 반복함으로써, 4층 이상의 광학 기록층을 갖는 광 디스크를 제조하는 것이 가능하다.
도 1은 제 1 실시예에 따른 다층 광학 기록 매체의 단면도.
도 2는 제 1 실시예에 따른 다층 광학 기록 매체의 제조방법의 제조 공정을 도시하는 단면도이고, (a)는 전사 기판에 제 2 광학 기록층용의 요철 패턴을 형성하는 공정까지, (b)는 제 2 광학 기록층의 형성 공정까지를 도시한다.
도 3은 도 2의 연속 공정을 도시하는 단면도이고, (c)는 가요성 필름의 중합 공정까지, (d)는 접착제의 경화 공정까지를 도시한다.
도 4는 도 3의 연속 공정을 도시하는 단면도이고, (e)는 전사 기판으로부터 제 2 광학 기록층을 박리하는 공정까지, (f)는 제 2 적층체와 제 1 적층체의 접합 공정까지를 도시한다.
도 5는 제 2 실시예에 따른 다층 광학 기록 매체의 단면도.
도 6은 제 2 실시예에 따른 다층 광학 기록 매체의 제조방법의 제조공정을 도시하는 단면도이고, (a)는 전사 기판에 제 3 광학 기록층용의 요철 패턴을 형성하는 공정까지, (b)는 제 1 적층체의 형성공정까지, (c)는 제 1 적층체에의 전사 기판의 중합 공정까지를 도시한다.
도 7은 도 6의 연속 공정을 도시하는 단면도이고, (d)는 전사 기판으로부터 제 3 광학 기록층을 박리하는 공정까지, (e)는 제 2 적층체와 제 3 광학 기록층이 접착된 제 1 적층체의 접합 공정까지를 도시한다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1: 제 1 적층체 2: 제 2 적층체
10, 20: 기판 11, 21: 제 1 광학 기록층
12, 14, 22, 24, 26: 접착제 층 14a, 22a: 접착제
13, 25: 제 2 광학 기록층 15, 27: 가요성 필름
23: 제 3 광학 기록층 T: 전사 기판
G11, G13, G21, G23: 요철 패턴
이하, 본 발명의 실시예에 관해서 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제 1 실시예
도 1은, 본 실시예에 따른 다층 광학 기록 매체(이하 광 디스크라고도 한다)의 단면도이다.
예를 들면, 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께가 1.1mm 정도의 기판(10)에, 제 1 광학 기록층용 요철 패턴(G11)이 형성되어 있고, 그 위 층에 예를 들면, 막두께 15nm의 알루미늄으로 이루어지고, 상기 요철 패턴(G11)에 대응하는 패턴을 갖는 반사막인 제 1 광학 기록층(11)이 형성되어 있고, 상기한 바와 같이 하여 제 1 적층체(1)가 구성되어 있다.
한편, 예를 들면 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께가 70μm 정도의 가요성 필름(15)에, 예를 들면 막두께 8nm의 알루미늄 등으로 이루어지고, 다른 공정에 있어서 미리 요철 패턴이 형성된 반투명 막인 제 2 광학 기록층(13)이 자외선 경화 수지 등의 접착제 층(14)에 의해 접착되어 있고, 상기한 바와 같이 하여 제 2 적층체(2)가 구성되어 있다.
제 1 광학 기록층(11)과 제 2 광학 기록층(13)이 대향하는 상태로, 감압성 접착제 또는 자외선 경화 수지계 접착제 등의 접착제 층(12)에 의해 접합할 수 있있다. 여기서, 제 1 광학 기록층(11)과 제 2 광학 기록층(13)의 간격(즉 접착제 층(12)의 막두께)는, 수 10μm 정도(예를 들면 27μm)이다.
이상과 같이, 본 실시예에 따른 광 디스크가 구성되어 있다.
상기의 광 디스크는, 예를 들면, 제 2 광학 기록층(13) 및 제 1 광학 기록층(11)이 가요성 필름(15)측으로부터 100μm 정도의 깊이의 범위내에 위치하고 있고, 가요성 필름(15)측으로부터 기록 정보를 판독하는 표면 판독(예측)의 광 디스크로서 사용된다.
다음에, 상기의 본 실시예에 따른 광 디스크의 제조방법에 관해서 도면을 참조하여 설명한다.
우선, 도 2 (a)에 도시된 바와 같이, 예를 들면 사출 성형 등에 의해, 표면에 제 2 광학 기록층용의 요철 패턴(G13)이 형성되고, 예를 들면 막두께가 1.2mm인 아크릴계 수지로 이루어지는 전사 기판(T)을 형성한다.
다음에, 도 2 (b)에 도시된 바와 같이, 요철 패턴(G13)이 형성된 전사 기판(T)상에, 예를 들면 스퍼터링 법에 의해, 예를 들면 8nm의 막두께의 알루미늄, 또는 은 또는 실리콘 등을 퇴적시키고, 상기 요철 패턴(G13)에 대응하는 패턴을 갖는 반투명 막인 제 2 광학 기록층(13)을 형성한다.
다음에, 도 3 (c)에 도시된 바와 같이, 스핀 코팅법 등에 의해 제 2 광학 기록층(13) 상에 자외선 경화 수지계의 접착제(14a)를 공급, 평탄화하고, 그 위면에, 예를 들면 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께 70μm 정도의 가요성 필름(15)을 중합한다.
다음에, 도 3 (d)에 도시된 바와 같이, 가요성 필름(15)측으로부터 자외선(L)을 조사하여, 접착제 층(14)을 경화시키고, 가요성 필름(15)과 제 2 광학 기록층(13)을 접착한다.
다음에, 도 4 (e)에 도시된 바와 같이, 제 2 광학 기록층(13)과 전사 기판(T)의 계면에서 박리한다. 이로써, 제 2 광학 기록층(13)이 가요성 필름(15)측에 전사되고, 제 2 광학 기록층(13)이 접착제 층(14)에 의해 가요성 필름(15)에접착된 구성의 제 2 적층체(2)가 된다.
아크릴계 수지로 이루어지는 전사 기판(T) 상에 스퍼터링 법에 의해 형성된 알루미늄 막은, 상기 알루미늄 막을 파괴하지 않고, 용이하게 박리할 수 있다. 또한, 가요성 필름(15)이 휘어짐으로써, 또한 박리가 용이하게 되어 있다.
다음에, 도 4 (f)에 도시된 바와 같이, 감압성 접착제 혹은 자외선 경화 수지계 접착제 등의 접착제 층(12)에 의해, 미리 형성하여 놓은 제 1 적층체(1)에 상기의 제 2 적층체(2)를 접합한다.
여기서, 제 1 적층체(1)는, 예를 들면 사출 성형 등에 의해, 표면에 제 1 광학 기록층용의 요철 패턴(G11)이 형성되고, 예를 들면 막두께가 1.1mm의 폴리카보네이트로 이루어지는 기판(10)을 형성하고, 그 위 층에, 예를 들면 스퍼터링법에 의해, 예를 들면 15nm의 막두께의 알루미늄 등을 퇴적시키고, 상기 요철 패턴(G11)에 대응하는 패턴을 갖는 반사막인 제 1 광학 기록층(11)을 형성함으로써, 형성한다.
상기의 제 2 적층체(2)와 제 1 적층체(1)를 접합하는 공정에 있어서는, 제 1 광학 기록층(11)과 제 2 광학 기록층(13)을 대향시킨 상태로 접합한다. 여기서, 제 1 광학 기록층(11)과 제 2 광학 기록층(13)의 간격{즉 접착제 층(12)의 막두께}는, 수 10μm 정도(예를 들면 27μm)로 한다.
이상으로, 도 1에 도시된 광 디스크를 제조할 수 있다.
상기의 본 실시예에 따른 광 디스크의 제조방법에 의하면, 상기의 본 실시예의 광 디스크의 제조방법에서는, 얇은 가요성 필름에, 얇은 반투명 막인 제 2 광학기록층을 용이하게 전사할 수 있고, 종래 방법과 같은 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 공정이나, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막하는 공정은 불필요하며, 따라서, 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있다.
제 2 실시예
도 5는, 본 실시예에 따른 광 디스크의 단면도이다.
예를 들면 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께 1.1mm 정도의 기판(20)에, 제 1 광학 기록층용의 요철 패턴(G21)이 형성되어 있고, 그 위 층에 예를 들면 막두께 15nm의 알루미늄으로 이루어지고, 상기 요철 패턴(G21)에 대응하는 패턴을 갖는 반사막인 제 1 광학 기록층(21)이 형성되어 있고, 상기한 바와 같이 하여 제 1 적층체(1)가 구성되어 있다.
상기의 제 1 광학 기록층(21)의 상층에, 예를 들면 막두께 5nm의 알루미늄 등으로 이루어지고, 다른 공정에 있어서 미리 요철 패턴이 형성된 반투명 막인 제 3 광학 기록층(23)이 자외선 경화 수지 등의 접착제 층(22)에 의해 접착되어 있다.
한편, 예를 들면 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께 50μm 정도의 가요성 필름(27)에, 예를 들면 막두께 4nm의 알루미늄 등으로 이루어지고, 다른 공정에 있어서 미리 요철 패턴이 형성된 반투명 막인 제 2 광학 기록층(25)이 자외선 경화 수지 등의 접착제 층(26)에 의해 접착되어 있고, 상기한 바와 같이 하여 제 2적층체(2)가 구성되어 있다.
제 3 광학 기록층(23)과 제 2 광학 기록층(25)이 대향하는 상태로, 감압성 접착제 또는 자외선 경화 수지계 접착제 등의 접착제 층(24)에 의해 접합되어 있다. 여기서, 제 1 광학 기록층(21)과 제 3 광학 기록층(23)의 간격(즉 접착제 층(22)의 막두께), 및, 제 3 광학 기록층(23)과 제 2 광학 기록층(25)의 간격(즉 접착제 층(24)의 막두께)는, 각각 수 10μm 정도(예를 들면 25μm)이다.
이상과 같이, 광학 기록층을 3층 갖는 본 실시예에 따른 광 디스크가 구성되어 있다.
상기의 광 디스크는, 예를 들면, 제 1 광학 기록층(21), 제 2 광학 기록층(25) 및 제 3 광학 기록층(23)이, 가요성 필름(27)측에서 100μm 정도의 깊이의 범위 내에 위치하고 있고, 가요성 필름(27)측으로부터 기록 정보를 판독하는 표면 판독(예측)의 광 디스크로서 사용된다.
다음에, 상기의 본 실시예에 따른 광 디스크의 제조방법에 관해서 도면을 참조하여 설명한다.
우선, 도 6 (a)에 도시된 바와 같이, 예를 들면 사출 성형 등에 의해, 표면에 제 2 광학 기록층용의 요철 패턴(G23)이 형성되고, 예를 들면 막두께가 1.1mm의 아크릴계 수지로 이루어지는 전사 기판(T)을 형성하고, 요철 패턴(G23)이 형성된 전사 기판(T) 상에, 예를 들면 스퍼터링 법에 의해, 예를 들면 5nm의 막두께의 알루미늄, 또는 은 또는 실리콘 등을 퇴적시키고, 상기 요철 패턴(G23)에 대응하는 패턴을 갖는 반투명 막인 제 3 광학 기록층(23)을 형성한다.
한편, 도 6 (b)에 도시된 바와 같이, 예를 들면 사출 성형 등에 의해, 표면에 제 1 광학 기록층용의 요철 패턴(G21)이 형성되고, 예를 들면 막두께가 1.1mm의 폴리카보네이트로 이루어지는 기판(20)을 형성하고, 그 위 층에, 예를 들면 스퍼터링법에 의해, 예를 들면 15nm의 막두께의 알루미늄 등을 퇴적시키고, 상기 요철 패턴 (G21)에 대응하는 패턴을 갖는 반사막인 제 1 광학 기록층(21)을 형성하고, 제 1 적층체(1)로 한다.
다음에, 도 6 (c)에 도시된 바와 같이, 스핀 코팅법 등에 의해 제 1 광학 기록층(121)상에 자외선 경화 수지계의 접착제(22a)를 공급, 평탄화하고, 그 위면에, 제 3 광학 기록층(23)과 제 1 광학 기록층(21)이 대향하는 상태로, 상기의 제 3 광학 기록층(23)이 형성된 전사 기판(T)을 제 1 적층체(1)에 중합한다.
다음에, 도 7 (d)에 도시된 바와 같이, 전사 기판(T) 측에서 도시하지 않은 자외선을 조사함으로써 접착제 층(22)을 경화시키고, 제 1 광학 기록층(21)에 제 3 광학 기록층(23)을 접착한 후, 제 3 광학 기록층(23)과 전사 기판(T)의 계면에서 박리한다. 이로써, 제 3 광학 기록층(23)이 제 1 적층체(1)측에 전사된다. 여기서, 제 3 광학 기록층(23)과 제 1 광학 기록층(21)의 간격(즉 접착제 층(22)의 막두께)은, 수 10μm 정도(예를 들면 25μm)로 한다.
아크릴계 수지로 이루어지는 전사 기판(T) 상에 스퍼터링 법에 의해 형성된 알루미늄 막은, 상기 알루미늄 막을 파괴하지 않고, 용이하게 박리할 수 있다.
다음에, 도 7 (e)에 도시하는 바와 같이, 감압성 접착제 또는 자외선 경화 수지계 접착제 등의 접착제 층(24)에 의해, 미리 형성해 둔 제 2 적층체(2)를, 상기의 제 3 광학 기록층(23)이 접착된 제 1 적층체(1)에 접합한다.
여기서, 제 2 적층체(2)는, 제 1 실시예와 동일하게 형성할 수 있다.
즉, 예를 들면 사출 성형 등에 의해, 표면에 제 2 광학 기록층용의 요철 패턴이 형성되고, 예를 들면 막두께가 1.1mm의 아크릴 계수지로 이루어지는 전사 기판을 형성하고, 요철 패턴이 형성된 전사 기판 상에, 예를 들면 스퍼터링 법에 의해, 예를 들면 4nm의 막두께의 알루미늄, 또는 은 또는 실리콘 등을 퇴적시키고, 상기 요철 패턴에 대응하는 패턴을 갖는 반투명 막인 제 2 광학 기록층(25)을 형성하고, 스핀 코팅법 등에 의해 제 2 광학 기록층(25) 상에 자외선 경화 수지계의 접착제를 공급, 평탄화하고, 그 위면에, 예를 들면 폴리카보네이트 등으로 이루어지는 막두께 50μm 정도의 가요성 필름(27)을 중합하고, 가요성 필름(27)측으로부터자외선을 조사하여 접착제 층(26)을 경화시키고, 제 2 광학 기록층(25)과 전사 기판의 계면에서 박리하여, 상기 구성의 제 2 적층체(2)로 한다.
상기의 제 2 적층체(2)를 제 3 광학 기록층(23)이 접착된 제 1 적층체(1)에 접합하는 공정에 있어서는, 제 3 광학 기록층(23)과 제 2 광학 기록층(25)을 대향시킨 상태로 접합한다. 여기서, 제 3 광학 기록층(23)과 제 2 광학 기록층(25)의 간격(즉 접착제 층(24)의 막두께)은, 수 10μm 정도(예를 들면 25μm)로 한다. 이상으로, 도 5에 도시하는 광 디스크를 제조할 수 있다.
상기의 본 실시예에 따른 광 디스크의 제조방법에 의하면, 상기의 본 실시예의 광 디스크의 제조방법에서는, 얇은 가요성 필름 등에, 얇은 반투명 막인 제 2 광학 기록층 또는 제 3 광학 기록층을 용이하게 전사할 수 있고, 종래 방법과 같은 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 공정이나, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막하는 공정은 불필요하고, 따라서, 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있다.
상기의 본 실시예의 다층 광학 기록 매체 및 제조방법은, 광학 기록층을 복수층 갖는 기록매체로서, 기록 방식 등에 의하지 않고 적용할 수 있다.
광학 기록층의 총 수는 특별히 한정은 없고, 예를 들면 제 2 실시예에 있어서, 제 3 광학 기록층을 접착제 층 등을 개재하여 적층시킨 다층 구성으로 할 수 있다. 이 경우, 제 3 광학 기록층은 어느것이나 반투명 막으로 한다. 이러한 다층의 제 3 광학 기록층으로서는, 예를 들면, 제 2 실시예에 있어서 전사 기판으로부터 제 1 적층체에 전사하는 공정을 반복함으로써 형성할 수 있다.
또한, 상기의 설명에 있어서는, 제 3 광학 기록층을 제 1 광학 기록층 상에 전사하고, 다음에 제 3 광학 기록층과 제 2 광학 기록층을 접합하고 있지만, 제 3 광학 기록층을 제 2 광학 기록층 상에 전사하고, 다음에 제 3 광학 기록층과 제 1 광학 기록층을 접합하는 순서로 하는 것도 가능하다.
본 발명은, 상기의 실시예에 한정되지 않는다.
예를 들면, 다층 광학 기록 매체를 구성하는 기판, 광학 기록 층 및 층간의 접착제 층 등의 재료 및 막 두께 등은, 상기의 실시예에서 설명한 것에 한정되지않고, 적절히 선택하는 것이 가능하다.
그밖에, 본 발명의 요지를 변경하지 않은 범위에서 여러가지의 변경을 할 수 있다.
본 발명의 다층 광학 기록 매체의 제조방법에 의하면, 자외선을 조사하여 경화시킨 수지로부터 스탬퍼를 박리하는 공정이나, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막하는 공정은 불필요하고, 스탬퍼를 박리하는 것의 곤란성을 수반하지 않고, 얇은 가요성 필름 상에 반투명 막을 성막할 때의 곤란성도 회피하여 제조할 수 있다.
Claims (11)
- 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하는 공정과,상기 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층과 상기 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정, 및상기 제 1 광학 기록층과 상기 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 광학 기록층을 반사막에 의해 형성하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 광학 기록층을 스퍼터링 법에 의해 형성하는다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 광학 기록층을 알루미늄, 은 혹은 실리콘 중 적어도 어느 하나를 포함하는 재료에 의해 형성하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 1 전사용 기판을 작성하는 공정과,상기 제 1 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 1 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정과,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 2 전사용 기판을 작성하는 공정과,상기 제 2 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 3 광학 기록층을 형성하는 공정과,상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 1 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정과,상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 1 광학 기록층 상에 전사하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 3 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제 3 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 1 광학 기록층 상에 전사하는 공정 이후에,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고,해당 요철 패턴 상에 광학 기록층을 형성하고, 해당 광학 기록층을 접착제에 의해 접합하여 전사하는 공정을 반복하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 요철 패턴이 형성된 기판 상에 제 1 광학 기록층을 형성하는 공정과,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 1 전사용 기판을 작성하는 공정과,상기 제 1 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 2 광학 기록층을 형성하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층의 상부에 접착제에 의해 가요성 필름을 접착하는 공정과,상기 제 2 광학 기록층과 상기 제 1 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 2 광학 기록층을 상기 가요성 필름에 전사하는 공정과,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 제 2 전사용 기판을 작성하는 공정과,상기 제 2 전사용 기판의 요철 패턴 상에 제 3 광학 기록층을 형성하는 공정과,상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정과,상기 제 3 광학 기록층과 상기 제 2 전사용 기판의 계면에서 박리하여, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 2 광학 기록층 상에 전사하는 공정과,상기 제 1 광학 기록층과 상기 제 3 광학 기록층을 대향시킨 상태로 접합하는 공정을 갖는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 제 3 광학 기록층을 반투명 막에 의해 형성하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 제 3 광학 기록층을 상기 제 2 광학 기록층 상에 전사하는 공정 이후에,표면에 요철 패턴이 형성된 아크릴 수지로 이루어지는 전사용 기판을 작성하고, 해당 요철 패턴 상에 광학 기록층을 형성하고, 해당 광학 기록층을 접착제에 의해 접합하여 전사하는 공정을 반복하는 다층 광학 기록 매체의 제조방법.
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| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20010718 |
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