KR20020032091A - 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20020032091A
KR20020032091A KR1020000062983A KR20000062983A KR20020032091A KR 20020032091 A KR20020032091 A KR 20020032091A KR 1020000062983 A KR1020000062983 A KR 1020000062983A KR 20000062983 A KR20000062983 A KR 20000062983A KR 20020032091 A KR20020032091 A KR 20020032091A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
region
liquid crystal
seal
active region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020000062983A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100720411B1 (ko
Inventor
김경진
Original Assignee
구본준, 론 위라하디락사
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 구본준, 론 위라하디락사, 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 구본준, 론 위라하디락사
Priority to KR1020000062983A priority Critical patent/KR100720411B1/ko
Priority to US09/973,932 priority patent/US6954242B2/en
Publication of KR20020032091A publication Critical patent/KR20020032091A/ko
Priority to US11/215,005 priority patent/US7339647B2/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100720411B1 publication Critical patent/KR100720411B1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

본 발명은 대형 패널에 적합한 자외선 경화형 씨일재를 사용함에 있어서, 보다 용이한 씨일재 경화가 가능한 액정 디스플레이 패널을 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 액정 디스플레이 패널은 액티브 영역 및 패드 영역으로 정의된 제 1 기판 및 제 2 기판 그리고 그 사이에 액정이 봉입된 액정 디스플레이 패널에 있어서, 상기 액티브 영역에 형성된 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들과, 상기 액티브 영역의 주변을 따라 씨일재가 형성된 씨일 영역과, 상기 씨일 영역을 제외한 상기 액티브 영역 및 패드 영역에 형성되는 차광층을 포함하여 구성되고, 그 제조방법은 상기 제 1 기판상의 액티브 영역에 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들을 형성하는 공정과, 상기 씨일 영역을 제외한 상기 제 2 기판상에 차광층을 형성하는 공정과, 상기 액티브 영역의 주변을 따라 상기 씨일 영역에 자외선 경화형 씨일재를 형성하는 공정과, 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 공정과, 상기 제 2 기판상에 자외선을 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법{Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same}
본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로 특히, 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
정보통신분야의 급속한 발전으로 말미암아 원하는 정보를 표시해 주는 디스플레이 산업의 중요성이 날로 증가하고 있으며, 현재까지 정보디스플레이 장치 중 CRT(cathod ray tube)는 다양한 색을 표시할 수 있고, 화면의 밝기도 우수하다는 장점 때문에 지금까지 꾸준한 인기를 누려왔다. 하지만 대형, 휴대용, 고해상도 디스플레이에 대한 욕구 때문에 무게와 부피가 큰 CRT 대신에 평판디스플레이(flat panel display) 개발이 절실히 요구되고 있다. 이러한 평판디스플레이는 컴퓨터 모니터에서 항공기 및 우주선 등에 사용되는 디스플레이에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
현재 생산 혹은 개발된 평판디스플레이는 액정디스플레이(liquid crystal display : LCD), 전계발광디스플레이(electroluminescent display : ELD), 전계방출 디스플레이(field emission display : FED), 플라즈마 디스플레이(plasma display panel : PDP) 등이 있다. 이상적인 평판디스플레이가 되기 위해서는 경중량, 고휘도, 고효율, 고해상도, 고속응답특성, 저구동전압, 저소비전력, 저코스트(cost) 및 천연색 디스플레이 특성 등이 요구된다.
현재 휴대용 컴퓨터 모니터로 널리 쓰이는 액정 디스플레이는 크게 두 장의 유리 기판과 그 사이에 봉입되는 액정으로 이루어진다. 즉, 두 장의 유리 기판 중 한 기판상에는 복수개의 픽셀 패턴이 형성되고, 대향하는 다른 기판상에는 칼라필터층이 형성되며 이와 같은 유리 기판 사이에 액정을 주입하고 씨일(Seal)재를 이용하여 두 유리 기판을 접착한다.
다시말하면, 씨일재는 두 장의 유리 기판을 접착, 고정시키는 재료인데, 액정은 공기중에 방치될 경우 수분을 흡수하게 되므로 비저항이 낮아지게 되고, 불순물이 생성되는 등 특성이 저하되므로 외부로부터 수분의 침투를 방지할 수 있도록 씨일재를 사용하여 두 장의 유리 기판을 접착한다.
이러한 씨일재는 크게 무기 씨일재와 유기 씨일재로 구분할 수 있으며, 상기 무기 씨일재는 초기액정 디스플레이에서 많이 사용되었으나, 이후 액정 재료 등의 개발로 인해 더 이상 사용하지 않는 추세에 있다. 그리고 상기 유기 씨일재로서는 에폭시(Epoxy)계 수지, 페놀(Phenol)계 수지, 아크릴(Acryl)계 수지가 사용되고 있는데, 이와 같은 수지 씨일재는 각각의 주제와 경화제를 혼합하여 사용하는 2액성 타입과 주제와 경화제가 합쳐져 있는 1액성 타입으로 분류할 수 있다.
상기와 같은 씨일재는 경화시키는 방법에 따라 열에 의해 경화되어지는 열경화형과, 자외선에 의해 경화되어지는 자외선 경화형이 있는데, 이 모두 높은 신뢰성 확보를 위해 강한 접착강도, 높은 결정화율, 양호한 인쇄성 등이 요구되어 지고, 보다 정밀한 셀 갭(Cell Gap)을 제어하기 위해 기판의 가압, 가열, 경화시의 퍼짐 정도가 균일한 것이 요구되고 있다.
상기 열경화성 수지는 비교적 고온에서도 기계적 강도, 접착 강도가 크고, 가교도가 높은 장점이 있으며, 주로 에폭시(Epoxy), 페놀(phenol) 수지 등이 이용된다. 반면에, 자외선 경화형 수지는 대면적으로 갈수록 사용 가능성이 높이지는 것으로, 저온경화가 가능하고, 경화시간이 단축된다는 잇점과 더불어 대형기판에적용시 열팽창에 대한 두려움이 적고 합착 정도가 향상된다는 특징을 가지고 있다.
액정을 주입하는 방법으로서는 여러 가지 방법이 있으나, 주로 셀 내부를 진공으로 한 다음 그 압차를 이용하여 액정이 셀 내부로 빨려 들어가도록 하는 방법과 액정을 감압상태에서 산포하거나 도포하는 방법이 있다.
즉, 셀 내부를 진공상태로 유지하여 압력 차를 이용한 액정 주입은 진공 챔버(Chamber)내에서 이루어지는데, 먼저 씨일재가 인쇄된 액정패널을 진공 챔버내에 위치시킨 후 기압을 점차적으로 감소시키면 액정패널의 내부가 진공에 가까운 저압상태가 된다. 상기 액정패널의 내부가 저압상태가 되면, 액정 주입구를 패널의 외부에 위치하고 있는 액정에 접촉시킨 후, 챔버내에 공기를 유입하면 액정패널의 외부 기압이 점차 높아지게 되고 그로 인해 패널의 내부와 외부의 기압차가 발생하여 진공상태인 패널 내부로 액정이 주입되어 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 액정층이 형성된다.
액정을 감압상태에서 산포하는 방법은 기판상에 씨일재를 패터닝한 후, 디스펜서(Dispenser)를 이용하여 기판상에 적하하는 방법으로서, 삼투압에 의한 방법에 비해 액정의 주입 속도가 매우 빠르다는 장점이 있다. 이 방법은 대면적 기판으로 갈수록 주입 시간이 짧다는 장점을 가지고 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 장치를 설명하기로 한다.
도 1a는 박막트랜지스터 및 화소 전극이 패터닝된 하판의 평면도이고, 도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도이며, 도 1c는 칼라필터 패턴이 형성된 상판의단면도이다.
먼저, 도 1a 및 1b에 도시된 바와 같이, 하판(11)은 그 위에 일방향으로 형성된 게이트 배선(13a)과, 상기 게이트 배선(13a)과 교차하는 방향으로 형성된 데이터 배선(15a)과, 상기 게이트 배선(13a)과 데이터 배선(15a)의 교차부위에 형성된 박막트랜지스터(17) 및 화소 전극(19)으로 구성된다.
상기 게이트 배선(13a) 및 데이터 배선(15a)은 각각 패드 영역에까지 연장되어 게이트 구동회로 및 데이터 구동회로(도시하지 않음)와 전기적으로 연결된다.
한편, 도 1c에 도시된 바와 같이, 상판(11a)은 그 위에 형성된 복수의 칼라필터 패턴(21)과, 화소 전극(19)을 제외한 영역으로 빛이 투과되는 것을 차단하기 위한 차광층(23) 및 투명전극(25)으로 구성되는데, 상기 차광층(23)은 도 2에 도시된 바와 같이, 액티브 영역(A)에서는 매트릭스 형상으로 패터닝되고, 액티브 영역(A)의 주변을 따라 씨일재(27)가 형성된 씨일 영역(S)을 충분히 덮도록 일체형으로 패터닝된다.
도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도로서, 게이트 배선(13a) 또는 데이터 배선(15a)이 형성된 하판(11)과 차광층(23)이 형성된 상판(11a), 그리고 하판(11)과 상판(11a)을 합착하기 위해 액티브 영역(A)의 주변에 형성된 씨일재(27)로 구성되며, 상기 씨일재(27)가 형성된 영역에 상응하는 상판(11a)에는 차광층(23)이 형성되고, 하판(11)에는 게이트 배선(13a)이 형성된다.
여기서, 상기 씨일재(27)는 열에 의해 경화되는 열경화형 씨일재이며, 참고적으로 도 3은 특징적인 부분만을 간략화하여 도시한 것이다.
그러나 상기와 같은 종래 액정 디스플레이 패널은 다음과 같은 문제점이 있었다.
첫째, 열경화형 씨일재는 경화를 위해서는 고온의 열을 가해주어야 하며, 따라서 열팽창에 의한 기판의 스트레스를 가중시키고, 장시간의 씨일재 경화 시간이 요구된다.
둘째, 패널이 대형화됨에 따라 씨일재가 자외선에 의해 경화되는 자외선 경화형이 사용되는 추세에 있으나, 종래와 같이 씨일 영역의 상부가 빛을 투과시키지 못하는 차광층으로 덮여 있기 때문에 열경화성 씨일재를 자외선 경화형 씨일재로 대체할 수가 없다.
셋째, 자외선 경화형 씨일재로 대체하기 위해서는 씨일재의 상부에 존재하는 차광층을 제거하여야 하는 별도의 포토공정 및 식각 공정이 추가되므로 공정이 복잡해지고 그만큼 공정 시간 및 비용이 증가하게 된다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 대형 패널에 적합한 자외선 경화형 씨일재를 사용하고, 자외선 경화형 씨일재를 사용함에 따른 용이한 씨일재 경화가 가능한 액정 디스플레이 패널을 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1a는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 패널의 하판의 평면도
도 1b는 도 1a의 Ⅰ-Ⅰ'선에 따른 단면도
도 1c는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 패널의 상판의 단면도
도 2는 종래 기술에 따른 액정 디스플레이 패널의 평면도
도 3은 도 2의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도
도 4는 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 평면도
도 5는 도 4의 Ⅲ-Ⅲ'선에 따른 단면도
도 6은 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 상판의 단면도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
41 : 하판 41a : 상판
43a : 게이트 배선 51 : 칼라필터 패턴
53 : 차광층 57 : 씨일재
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정 디스플레이 패널은 액티브 영역 및 패드 영역으로 정의된 제 1 기판 및 제 2 기판 그리고 그 사이에 액정이 봉입된 액정 디스플레이 패널에 있어서, 상기 액티브 영역에 형성된 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들과, 상기 액티브 영역의 주변을 따라 씨일재가 형성된 씨일 영역과, 상기 씨일 영역을 제외한 상기 액티브 영역 및 패드 영역에 형성되는 차광층을 포함하여 구성되고, 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널 제조방법은 액티브 영역 및 패드 영역으로 정의된 제 1 기판 및 제 2 기판 그리고 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하기 위한 씨일재가 형성된 씨일 영역을 갖는 액정 디스플레이 패널의 제조에 있어서, 상기 제 1 기판상의 액티브 영역에 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들을 형성하는 공정과, 상기 씨일 영역을 제외한 상기 제 2 기판상에 차광층을 형성하는 공정과, 상기 액티브 영역의 주변을 따라 상기 씨일 영역에 자외선 경화형 씨일재를 형성하는 공정과, 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 공정과, 상기 제 2 기판상에 자외선을 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명의 액정 디스플레이 패널은 대면적의 패널을 만족시키기 위해 자외선 경화형 씨일재를 사용함에 따라 상판 중 상기 씨일재가 형성된 영역에는 자외선을 차광할 수 있는 물질을 제거하는 것에 의해 씨일재의 경화를 용이하게 한다.
상기 자외선을 차광할 수 있는 물질에는 상판에 형성되는 차광층과, 하판에 형성되는 각종 전극용 금속(게이트 배선, 데이터 배선)을 들 수 있는데, 본 발명에서는 적어도 씨일재가 형성되는 씨일 영역에 상응하는 상판에는 자외선을 차단하는 물질인 차광층을 제거하여 상기 씨일재가 상판을 통해 조사되는 자외선에 의해 용이하게 경화되도록 하였다.
이와 같은 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 액정 디스플레이 패널의 평면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅲ-Ⅲ'선에 따른 단면도로서 특징적인 부분만을 간략화하여 도시한 것이다.
도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이, 본 발명의 액정 디스플레이 패널은 크게 액티브 영역(A)과 패드 영역(P)으로 정의되며, 상기 액티브 영역(A)은 복수개의 박막트랜지스터 및 화소전극이 형성되어 영상신호를 디스플레이 한다.
상기 액티브 영역(A) 주변을 따라 씨일재(57)가 형성된 씨일 영역이 정의되며, 상기 씨일 영역을 제외한 액티브 영역(A) 및 패드 영역(P)에 차광층(53)이 형성된다. 이때, 상기 씨일재(57)는 액정의 누출을 방지하기 위해 이중으로 구성할 수도 있다.
상기 차광층(53)은 액티브 영역(A) 내에서는 매트릭스 형태로 형성되어 하판에 형성된 화소전극을 제외한 영역으로 빛이 투과되는 것을 차단하고, 상기 씨일재가 형성된 씨일 영역(S)에는 차광층이 형성되지 않는다. 따라서, 씨일 영역(S)이 차광되지 않고 오픈되어 있기 때문에 자외선 경화형 씨일재를 사용할 경우, 오픈된 부위로 조사되는 자외선에 의해 씨일재(57)를 경화시킬 수 있다.
도 6은 본 발명의 액정 디스플레이 패널에 따른 상판의 단면도로서, 유리 기판 상에 차광층이 형성되는데, 상기 차광층(53)은 액티브 영역(A)에서는 매트릭스형태로 형성되고, 패드 영역(P)에서는 상기 자외선 경화형 씨일재(57)가 형성될 부위를 제외한 영역에 형성되는 것을 볼 수 있다.
이에, 하판과 상판을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.
즉, 도면에는 도시되지 않았지만, 하판(41)은 그 위에 게이트 배선 및 게이트 전극이 형성되고, 상기 게이트 전극을 포함한 전면에 게이트 절연막이 형성된다.
여기서, 상기 게이트 전극은 Al, Cr, Mo, Cu와 같은 금속을 스퍼터링(Sputtering)법으로 형성한 후, 패터닝하고, 상기 게이트 절연막은 실리콘질화막(SiNX) 또는 실리콘산화막(SiOX)을 CVD(Chemical Vapor Deposition)법으로 형성하며, 개구율 향상을 위해 유기절연막인 BCB(Benzocyclobutene)를 게이트 절연막으로 사용할 수도 있다.
이후, 상기 게이트 절연막 상에 박막트랜지스터의 채널층으로 사용될 반도체층 및 오믹콘택층을 적층한 후, 상기 게이트 배선과 교차하는 방향으로 데이터 배선을 형성하고, 박막트랜지스터의 소스/드레인 전극을 형성한다.
이때, 상기 데이터 배선 및 소스/드레인 전극은 금속으로서, 통상은 게이트 배선 및 게이트 전극과 동일금속으로 형성한다. 이후, 전면에 보호막을 형성한 후, 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 콘택홀을 통해 연결되도록 상기 게이트 배선과 데이터 배선에 의해 정의되는 화소영역에 화소 전극(49)을 형성하면 TFT기판(이하, "제 1 기판"이라 칭함)의 제작이 완료된다.
여기서, 상기 보호막으로서는 실리콘질화막, 실리콘 산화막, BCB(Benzocyclobutene) 등을 사용할 수 있다.
한편, 상판(41a)은 그 위에 화소 전극(49)을 제외한 영역으로 빛이 투과되는 것을 방지하기 위한 차광층을 형성한 후, 색 표현을 위한 R, G, B 칼라 필터 패턴들을 형성하는데, 상기 차광층(53)은 액티브 영역(A)에서는 매트릭스 형태로 형성된다.
즉, 상판 상에 빛을 차단할 수 있는 차광용 물질층을 형성한 후, 액티브 영역(A)에 상응하는 부위는 매트릭스 형태를 갖고 씨일 영역(S)에 상응하는 부위는 오픈된 포토마스크를 이용하여 상기 차광용 물질층을 식각하면, 액티브 영역(A)에는 매트릭스 형태의 차광층(53)이 형성됨과 동시에 씨일 영역(S)을 제외한 패드 영역(P)에도 차광층(53)이 형성된다.
이어서, 상기 차광층(53)을 포함한 칼라필터 패턴 상에 화소 전극으로 전압을 인가하기 위한 투명전극을 형성하면, 칼라필터 기판(이하, "제 2 기판"이라 칭함)의 제작이 완료된다. 이때, 상기 투명전극을 형성하기 이전에 칼라필터의 균일성 확보를 위해 오버코트층(Overcoat layer)을 형성할 수도 있다.
이와 같이, 복수의 패턴들이 형성된 제 1 기판(41)과 제 2 기판(41a)을 형성한 후, 상기 각각의 기판 상에 배향막(도시하지 않음)을 형성하거나 또는 어느 한 기판상에만 선택적으로 배향막을 형성할 수 있다.
그리고 상기 제 1 기판(41)과 제 2 기판(41a) 사이에 액정층을 형성하면 본 발명에 따른 액정 디스플레이 패널의 제조공정이 완료된다. 상기 액정층은 양(+)의유전율 이방성, 음(-)의 유전율 이방성을 가지는 것이 가능하며, 카이랄 도펀트(chiral dopant)를 첨가할 수도 있다. 또한, 상기 액정층은 일반적인 액정주입 방법 또는 적하 방식을 이용하여 형성할 수도 있다.
상기 액정층을 적하방식으로 형성할 경우, 도 7에 도시한 바와 같이, 제 1 기판(41)상에 자외선 경화형 씨일재(57)를 소정의 패턴으로 형성한 후, 상기 씨일재(57)로 둘러싼 제 1 기판(41)의 표면에 액정(100)을 적하한 다음 제 1 기판(41)과 제 2 기판(41a)을 진공 중에서 합착한다. 이때, 상기 제 2 기판(41a) 상에는 셀 갭을 균일하게 유지하기 위한 스페이서(도시하지 않음)를 형성한다.
상기 차광층(53)을 제거하는 공정은 칼라필터 기판 외에도 하판측의 차광층을 제거할 수도 있다.
즉, 하판측에서 광을 차광할 수 있는 물질들 예를 들어, 게이트 금속 및 데이터 금속 등이 있는데, 상기 금속들 중 액정을 동작시키는데 필수적인 부분을 제외하고, 상기 자외선 경화형 씨일재가 형성될 영역에 존재하는 불필요한 부분의 금속을 제거하는 것이 가능하다.
상기 실시예는 하나의 모드(mode)에 한정되는 것이 아니라, TN, STN, FLC, VA, IPS, OCB, Poly-Si 등 모든 모드에 적용할 수 있다.
이상에서 상술한 바와 같이, 본 발명의 액정 디스플레이 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
대면적화를 만족시키기 위해 자외선 경화용 씨일재를 사용함에 있어서, 씨일영역이 자외선으로부터 차광되지 않도록 적어도 씨일 영역에 상응하는 칼라필터 기판상의 차광층을 제거하는 것에 의해 추가적인 공정없이도 보다 용이하게 씨일재를 경화시킬 수 있다.

Claims (9)

  1. 액티브 영역 및 패드 영역으로 정의된 제 1 기판 및 제 2 기판 그리고 그 사이에 액정이 봉입된 액정 디스플레이 패널에 있어서,
    상기 액티브 영역에 형성된 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들;
    상기 액티브 영역의 주변을 따라 씨일재가 형성된 씨일 영역;
    상기 씨일 영역을 제외한 상기 액티브 영역 및 패드 영역에 형성되는 차광층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 씨일재는 자외선 경화용 씨일재인 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 액티브 영역의 차광층은 매트릭스 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널.
  4. 액티브 영역 및 패드 영역으로 정의된 제 1 기판 및 제 2 기판 그리고 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하기 위한 씨일재가 형성된 씨일 영역을 갖는 액정 디스플레이 패널의 제조에 있어서,
    상기 제 1 기판상의 액티브 영역에 복수의 박막트랜지스터 및 화소전극들을 형성하는 공정;
    상기 액티브 영역의 주변을 따라 자외선 경화형 씨일재를 형성하는 공정;
    상기 씨일재가 형성된 영역을 제외한 상기 제 2 기판상에 차광층을 형성하는 공정;
    상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 공정;
    상기 제 2 기판상에 자외선을 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 차광층을 형성하는 공정은,
    상기 제 2 기판 상에 차광용 물질층을 형성하는 공정과,
    상기 액티브 영역에 상응하는 부위는 매트릭스 형태를 갖고 상기 씨일 영역에 상응하는 부위는 오픈된 마스크를 이용하여 상기 차광용 물질층을 식각하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 차광층을 형성한 후, 상기 제 2 기판 상의 액티브 영역에 복수의 칼라필터 패턴을 형성하는 공정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  7. 제 1 기판 위에 자외선 경화형 씨일재를 소정의 패턴으로 형성하는 공정;
    상기 씨일재로 둘러싸인 제 1 기판의 표면에 액정을 적하하는 공정;
    제 2 기판 위에 상기 씨일재가 형성된 영역을 제외한 영역에 차광층을 형성하는 공정;
    상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 공정;
    상기 제 2 기판 상에 자외선을 조사하여 상기 씨일재를 경화시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 기판 위에 스페이서를 형성하는 공정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 합착하는 공정은 진공 중에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 패널 제조방법.
KR1020000062983A 2000-10-25 2000-10-25 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법 Expired - Lifetime KR100720411B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000062983A KR100720411B1 (ko) 2000-10-25 2000-10-25 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
US09/973,932 US6954242B2 (en) 2000-10-25 2001-10-11 Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same
US11/215,005 US7339647B2 (en) 2000-10-25 2005-08-31 Liquid crystal display panel and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000062983A KR100720411B1 (ko) 2000-10-25 2000-10-25 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020032091A true KR20020032091A (ko) 2002-05-03
KR100720411B1 KR100720411B1 (ko) 2007-05-22

Family

ID=19695415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000062983A Expired - Lifetime KR100720411B1 (ko) 2000-10-25 2000-10-25 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법

Country Status (2)

Country Link
US (2) US6954242B2 (ko)
KR (1) KR100720411B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120042149A (ko) * 2010-10-22 2012-05-03 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시 패널, 평판 표시 패널용 원장기판, 및 평판 표시 패널 제조 방법

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7253866B2 (en) * 2001-10-27 2007-08-07 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method of fabricating liquid crystal display device
TWI282475B (en) * 2002-07-26 2007-06-11 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device
US7050131B2 (en) * 2002-10-17 2006-05-23 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device having black seal pattern and external resin pattern, and method of fabricating the same
KR100565639B1 (ko) * 2003-12-02 2006-03-29 엘지전자 주식회사 유기 ｅｌ 소자
JP4342428B2 (ja) * 2004-07-15 2009-10-14 シャープ株式会社 液晶表示パネルおよびその製造方法
US20070125477A1 (en) * 2004-09-15 2007-06-07 Mitsuaki Morimoto Method of manufacturing liquid crystal display panel
TWI279630B (en) * 2004-12-17 2007-04-21 Au Optronics Corp Liquid crystal display
WO2007060901A1 (en) * 2005-11-24 2007-05-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing liquid crystal display device
KR101159089B1 (ko) * 2006-02-04 2012-06-22 삼성전자주식회사 컬러 필터용 블랙 매트릭스의 제조방법
US20070273821A1 (en) * 2006-05-24 2007-11-29 Toppoly Optoelectronics Corp. Displaying System Having a Sealing Structure
TWI348584B (en) * 2006-10-19 2011-09-11 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel
JP5258277B2 (ja) * 2006-12-26 2013-08-07 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
KR100857689B1 (ko) * 2007-05-23 2008-09-08 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광표시장치
TWI368798B (en) * 2007-06-12 2012-07-21 Au Optronics Corp Display panel with photo-curable sealant and manufacture method thereof
CN101359108A (zh) * 2007-07-31 2009-02-04 北京京东方光电科技有限公司 薄膜晶体管液晶显示器面板结构
EP2078979A1 (en) * 2007-12-25 2009-07-15 TPO Displays Corp. Pixel design having reduced parasitic capacitance for an active matrix display
US20120229736A1 (en) * 2009-11-20 2012-09-13 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal panel and liquid crystal display device
TWI397754B (zh) 2010-07-29 2013-06-01 Au Optronics Corp 液晶顯示面板
CN101916007A (zh) * 2010-08-16 2010-12-15 友达光电股份有限公司 液晶显示面板
CN104503133B (zh) * 2010-08-16 2018-01-23 友达光电股份有限公司 液晶显示面板
CN102629033B (zh) * 2012-04-17 2014-04-09 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示模组及液晶显示装置
JP2013228425A (ja) * 2012-04-24 2013-11-07 Seiko Epson Corp 液晶装置及び電子機器
JP2014026199A (ja) 2012-07-30 2014-02-06 Japan Display Inc 液晶表示装置
JP6116882B2 (ja) * 2012-12-10 2017-04-19 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置及びその製造方法
CN103151305B (zh) * 2013-02-28 2015-06-03 京东方科技集团股份有限公司 一种薄膜晶体管阵列基板、制备方法以及显示装置
CN103426903A (zh) 2013-08-02 2013-12-04 京东方科技集团股份有限公司 一种电致发光显示屏及其制备方法、显示装置
US20170012233A1 (en) * 2014-01-29 2017-01-12 Pioneer Oled Lighting Devices Corporation Light emitting apparatus
KR101554124B1 (ko) * 2014-10-10 2015-09-21 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102203769B1 (ko) * 2014-12-29 2021-01-15 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR102338476B1 (ko) * 2015-06-01 2021-12-14 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN105098092B (zh) 2015-06-17 2017-11-17 京东方科技集团股份有限公司 封装方法、显示面板及显示装置
CN108108045A (zh) * 2016-11-24 2018-06-01 合肥鑫晟光电科技有限公司 触控基板、触控屏及其制造方法、显示设备
CN107369783A (zh) * 2017-08-17 2017-11-21 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种oled显示面板的制作方法
CN109061955A (zh) * 2018-09-13 2018-12-21 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板及其制造方法
CN109240003A (zh) * 2018-09-30 2019-01-18 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制造方法
JP2020160322A (ja) * 2019-03-27 2020-10-01 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4691995A (en) 1985-07-15 1987-09-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal filling device
JPS6432233A (en) * 1987-07-28 1989-02-02 Sharp Kk Liquid crystal display device
TW218040B (ko) * 1990-09-07 1993-12-21 Sharp Kk
JPH06235925A (ja) 1993-02-10 1994-08-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH08101395A (ja) 1994-09-30 1996-04-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH08129190A (ja) * 1994-10-31 1996-05-21 Toshiba Corp 液晶表示素子
EP0757277B1 (en) * 1995-02-17 2004-12-08 Citizen Watch Co. Ltd. Liquid crystal display element
JP2991407B2 (ja) * 1995-02-24 1999-12-20 日本電気株式会社 液晶表示素子及びその製造方法
JPH0961829A (ja) 1995-08-21 1997-03-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH1010516A (ja) * 1996-06-20 1998-01-16 Nec Corp カラー液晶表示装置
JPH10177178A (ja) 1996-12-17 1998-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JPH10333159A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置
JPH10333157A (ja) 1997-06-03 1998-12-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
JPH1142864A (ja) 1997-07-25 1999-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 受容層転写シート用熱転写シート
JP3799829B2 (ja) * 1997-09-11 2006-07-19 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置およびその製造方法並びに投射型表示装置
JPH11133438A (ja) 1997-10-24 1999-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示素子とその製造法
TWI224221B (en) * 1998-01-30 2004-11-21 Seiko Epson Corp Electro-optic apparatus, electronic apparatus using the same, and its manufacturing method
JPH11248930A (ja) 1998-03-06 1999-09-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフィルター基板、そのカラーフィルター基板の製造方法及びそのカラーフィルター基板を用いた液晶表示素子
JPH11326922A (ja) 1998-05-14 1999-11-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示パネルの製造方法
JP2000019540A (ja) * 1998-07-01 2000-01-21 Sanyo Electric Co Ltd 液晶表示装置
JP5474896B2 (ja) * 2011-09-09 2014-04-16 トムソン ライセンシング Ｃｒｃパリティコードを利用したビデオエラー検出技術

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120042149A (ko) * 2010-10-22 2012-05-03 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시 패널, 평판 표시 패널용 원장기판, 및 평판 표시 패널 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20060028608A1 (en) 2006-02-09
KR100720411B1 (ko) 2007-05-22
US6954242B2 (en) 2005-10-11
US7339647B2 (en) 2008-03-04
US20020047963A1 (en) 2002-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100720411B1 (ko) 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
KR100617025B1 (ko) 액정 디스플레이 패널 및 그 제조방법
KR100685949B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
US7075612B2 (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing the same
US7253866B2 (en) Method of fabricating liquid crystal display device
KR20030054141A (ko) 액정표시장치용 얼라인 키
KR100652046B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100437831B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
US7929103B2 (en) Display and method of manufacturing display
KR20040060341A (ko) 횡전계 방식의 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20030079429A (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
KR100566611B1 (ko) 액정표시장치용 액정패널 및 그 제조 방법
KR101192773B1 (ko) 액정표시소자의 제조방법
KR20020052254A (ko) 액정 표시장치 제조방법
KR20040011671A (ko) 액정표시소자
JP2000019540A (ja) 液晶表示装置
KR100685912B1 (ko) 액정 패널의 제조방법
KR100954328B1 (ko) 액정표시장치 및 제조 방법
KR100859470B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조방법
KR20080046935A (ko) 칼러 필터 기판과 이의 제조 방법
KR100494699B1 (ko) 액정표시장치의 칼라필터 제조방법
KR100866975B1 (ko) 액정표시장치와, 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법
KR100685950B1 (ko) 액정표시소자의 제조방법
KR100769175B1 (ko) 액정표시소자의 제조방법
KR20020021933A (ko) 액정 패널

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20001025

PG1501 Laying open of application
A201 Request for examination
AMND Amendment
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20040127

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20001025

Comment text: Patent Application

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20051118

Patent event code: PE09021S01D

AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20060417

Patent event code: PE09021S01D

AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
PE0801 Dismissal of amendment

Patent event code: PE08012E01D

Comment text: Decision on Dismissal of Amendment

Patent event date: 20060922

Patent event code: PE08011R01I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20060718

Patent event code: PE08011R01I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20060117

Patent event code: PE08011R01I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20040127

E601 Decision to refuse application
PE0601 Decision on rejection of patent

Patent event date: 20070117

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PE06012S01D

Patent event date: 20060417

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

Patent event date: 20051118

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event code: PE06011S01I

AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
PJ0201 Trial against decision of rejection

Patent event date: 20070215

Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal

Patent event code: PJ02012R01D

Patent event date: 20070117

Comment text: Decision to Refuse Application

Patent event code: PJ02011S01I

Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal

Decision date: 20070402

Appeal identifier: 2007101001829

Request date: 20070215

PB0901 Examination by re-examination before a trial

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20070215

Patent event code: PB09011R02I

Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal

Patent event date: 20070215

Patent event code: PB09011R01I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20060718

Patent event code: PB09011R02I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20060117

Patent event code: PB09011R02I

Comment text: Amendment to Specification, etc.

Patent event date: 20040127

Patent event code: PB09011R02I

B701 Decision to grant
PB0701 Decision of registration after re-examination before a trial

Patent event date: 20070402

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event code: PB07012S01D

Patent event date: 20070326

Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial

Patent event code: PB07011S01I

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20070515

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20070516

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
G170 Re-publication after modification of scope of protection [patent]
PG1701 Publication of correction
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20100318

Start annual number: 4

End annual number: 4

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20110329

Start annual number: 5

End annual number: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120330

Year of fee payment: 6

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20120330

Start annual number: 6

End annual number: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130329

Year of fee payment: 7

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20130329

Start annual number: 7

End annual number: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150429

Year of fee payment: 9

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20150429

Start annual number: 9

End annual number: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160428

Year of fee payment: 10

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20160428

Start annual number: 10

End annual number: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170413

Year of fee payment: 11

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20170413

Start annual number: 11

End annual number: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180416

Year of fee payment: 12

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20180416

Start annual number: 12

End annual number: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190417

Year of fee payment: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20190417

Start annual number: 13

End annual number: 13

PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20200422

Start annual number: 14

End annual number: 14

PC1801 Expiration of term

Termination date: 20210425

Termination category: Expiration of duration