KR20170053564A - 지지체 분리 장치 및 지지체 분리 방법 - Google Patents
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Abstract
(해결 수단) 지지체 분리 장치 (100) 는, 분리 플레이트 (4) 와 손톱부 (1) 를 구비하고, 손톱부 (1) 는, 경사면 (1b) 과 조정부 (1c) 를 구비하고, 당접면 (4a) 을 서포트 플레이트 (17) 의 평면부에 당접하고, 경사면 (1b) 을 서포트 플레이트 (17) 의 외주 단부에 형성된 모따기 부위 (17a) 에 당접함으로써 서포트 플레이트 (17) 를 파지한다.
Description
도 2 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 지지체 분리 장치 (100) 의 동작의 개략을 설명하는 도면이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 지지체 분리 장치 (100) 가 구비하고 있는 손톱부 (1) 의 개략도이다.
1a ; 포착면
1b ; 경사면
1c ; 조정부
4 ; 분리 플레이트 (플레이트부)
4a ; 당접면
6 ; 걸림부
7 ; 베어링부 (걸림부)
7a ; 테이퍼면 (개구면, 걸림부)
8 ; 당접부 (걸림부)
8a ; 감합면 (걸림부)
9 ; 축부 (걸림부)
10 ; 승강부
14 ; 스테이지 (고정부)
15 ; 포러스부 (고정부)
16 ; 외주부 (고정부)
17 ; 서포트 플레이트 (지지체)
17a ; 모따기 부위 (지지체)
18 ; 접착층
19 ; 기판
20 ; 적층체
100 ; 지지체 분리 장치
Claims (10)
- 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를 첩부하여 이루어지는 적층체로부터, 상기 지지체를 분리하는 지지체 분리 장치로서,
상기 지지체의 평면부에 당접하는 당접면을 갖는 플레이트부와,
상기 플레이트부의 외주를 둘러싸도록 배치된 복수의 손톱부를 구비하고,
상기 손톱부는, 상기 당접면의 면 방향에 있어서 당해 당접면으로부터 멀어질수록, 당해 당접면의 외주로부터 내주를 향하는 경사가 커지는 경사면과,
상기 당접면의 면 방향에 있어서, 상기 경사면의 단변과 상기 당접면 사이의 거리를 조정하는 조정부를 구비하고,
상기 당접면을 상기 지지체의 평면부에 당접하고, 상기 경사면을 상기 지지체의 외주 단부에 형성된 모따기 부위에 당접함으로써 상기 지지체를 파지하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 손톱부의 각각은, 당해 지지체의 외주 단부를 포착하는 포착면을 가지고 있고, 상기 손톱부의 경사면은, 상기 플레이트부의 당접면으로부터 떨어진 당해 포착면의 단변의 적어도 일부에, 당해 단변을 따라 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 지지체의 상면에서 보았을 때의 형상은, 원 형상이고,
상기 손톱부의 포착면은, 상기 플레이트부의 당접면에 대하여 수직인 면이고, 또한 당해 지지체의 외주 단부와 동일하거나, 또는, 보다 큰 호를 그리도록 만곡되어 있는 면이고,
상기 경사면은, 상기 포착면의 단변에 있어서의 중심점을 포함하는 일부를 따라 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경사면은, 상기 플레이트부의 당접면에 대하여, 30°이상, 90°미만의 범위 내의 경사를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 손톱부는, 방향족 폴리에테르케톤을 포함하는 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 플레이트부와,
상기 플레이트부를 상하 방향으로 승강시키는 승강부와,
상기 승강부에 상기 플레이트부를 거는 걸림부와,
상기 적층체에 있어서의 기판측을 고정시키는 고정부를 구비하고,
상기 플레이트부는, 상기 걸림부에 의해 상하 방향으로 가동하도록 상기 승강부에 걸리는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 장치. - 기판과, 상기 기판을 지지하는 지지체를 첩부하여 이루어지는 적층체로부터, 상기 지지체를 분리하는 지지체 분리 방법으로서,
상기 지지체의 평면부를 당접면에 당접하고,
상기 당접면의 면 방향에 있어서 당해 당접면으로부터 멀어질수록, 당해 당접면의 외주로부터 내주를 향하는 경사가 커지는 복수의 경사면을, 상기 지지체의 외주 단부에 형성된 모따기 부위에 당접하는 것에 의해, 상기 지지체를 파지하는 파지 공정과,
상기 파지 공정 전에, 상기 당접면의 면 방향에 있어서, 상기 경사면의 단변과, 상기 당접면 사이의 거리를 상기 지지체의 두께에 따라 조정하는 조정 공정을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 파지 공정에서는, 상기 지지체의 외주 단부를 포착하는 포착면에 의해 상기 지지체를 포착하면서, 상기 당접면으로부터 보다 떨어진 당해 포착면의 단변의 적어도 일부에, 당해 단변을 따라 형성된 상기 경사면을, 상기 지지체의 외주 단부에 형성된 모따기 부위에 당접하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 8 항에 있어서,
상기 지지체의 상면에서 보았을 때의 형상은, 원 형상이고,
상기 포착면은, 상기 당접면에 대하여 수직인 면이고, 또한 당해 지지체의 외주 단부보다 큰 호를 그리도록 만곡되어 있는 면이고,
상기 경사면은, 상기 단변에 있어서의 중심점을 포함하는 일부를 따라 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법. - 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
상기 파지 공정에서는, 상기 당접면을 구비하고, 상하 방향으로 가동하도록 걸린 플레이트부를 강하시켜, 상기 지지체의 평면부에 상기 당접면을 당접하는 것을 특징으로 하는 지지체 분리 방법.
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Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6422742A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-25 | Tel Sagami Ltd | Wafer pushup tool and device for transfer of wafer |
| JPH11116046A (ja) | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Mecs Corp | ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド |
| JP2003197724A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Mitsubishi Electric Corp | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
| JP2006032506A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置 |
| JP2007165399A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Nikon Corp | 研磨装置、これを用いた半導体デバイス製造方法およびこの方法により製造される半導体デバイス |
| JP2010010207A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離装置および剥離方法 |
| JP2014060347A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3656254B2 (ja) * | 1994-02-28 | 2005-06-08 | 三菱住友シリコン株式会社 | 接着ウエーハの剥離方法及び剥離装置 |
-
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6422742A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-25 | Tel Sagami Ltd | Wafer pushup tool and device for transfer of wafer |
| JPH11116046A (ja) | 1997-10-20 | 1999-04-27 | Mecs Corp | ウェハ搬送ロボットにおけるロボットハンド |
| JP2003197724A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Mitsubishi Electric Corp | 貼付けウエハ分離装置および貼付けウエハ分離方法 |
| JP2006032506A (ja) | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Taiyo Yuden Co Ltd | 半導体ウェハの剥離方法および剥離装置 |
| JP2007165399A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Nikon Corp | 研磨装置、これを用いた半導体デバイス製造方法およびこの方法により製造される半導体デバイス |
| JP2010010207A (ja) * | 2008-06-24 | 2010-01-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 剥離装置および剥離方法 |
| JP2014060347A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Tokyo Electron Ltd | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 |
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