KR20170080582A - 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 실시 형태의 펠리클 및 투명 기판을 도시한 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 모식적인 평면도이다.
도 4의 (a)는 본 발명의 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 모식적인 측면도, (b)는 A-A 단면도, (c)는 B-B 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태의 두개의 프레임 부재를 도시한 도면이며, (a)는 두개의 프레임 부재를 접합하기 전의 상태의 측단면도, (b)는 두개의 프레임 부재를 접합한 상태의 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시 형태의 제조 방법에 사용되는 평판을 도시한 평면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 형태의 지지 프레임을 도시한 도면이며, (a)는 내외의 프레임 부재를 갖는 구성의 측단면도, (b)는 이측의 프레임 부재에만 오목 홈을 형성한 구성의 측단면도이다.
2: 펠리클막
4a: 접착층
4b: 점착층
5: 평판
10: 프레임체
11: 가로 프레임부
12: 세로 프레임부
20: 관통 구멍
30: 표측의 프레임 부재
30a: 이면
31: 오목 홈
40: 이측의 프레임 부재
40a: 표면
41: 오목 홈
51: 제1 중공부
52: 제2 중공부
53: 제3 중공부
60: 지그 구멍
M: 투명 기판
P: 펠리클
Claims (4)
- 알루미늄 합금제의 프레임체를 구비하고,
상기 프레임체의 표면에 펠리클막이 접착되고, 상기 프레임체의 이면에 투명 기판이 접착되는 펠리클용 지지 프레임이며,
상기 프레임체의 내부에는, 복수의 중공부가 상기 프레임체의 주위 방향으로 병설되어 있고,
인접하는 두개의 상기 중공부의 사이에, 상기 프레임체의 외주면으로부터 내주면에 이르는 관통 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임. - 제1항에 있어서,
상기 프레임체는, 두개의 프레임 부재를 접합하여 형성되어 있고,
상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 복수의 오목 홈이 주위 방향으로 병설되고,
상기 오목 홈에 의해 상기 중공부가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임. - 알루미늄 합금제의 두개의 프레임 부재로 이루어지는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법이며,
상기 양쪽 프레임 부재의 접합면의 적어도 한쪽에 오목 홈을 형성하는 단계와,
상기 양쪽 프레임 부재의 접합면끼리를 접합하고, 상기 오목 홈에 의해 중공부를 형성하는 단계
를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법. - 제3항에 있어서,
상기 양쪽 프레임 부재를 고상 접합하는 것을 특징으로 하는 펠리클용 지지 프레임의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2014-224521 | 2014-11-04 | ||
| JP2014224521A JP6274079B2 (ja) | 2014-11-04 | 2014-11-04 | ペリクル用支持枠および製造方法 |
| PCT/JP2015/075550 WO2016072149A1 (ja) | 2014-11-04 | 2015-09-09 | ペリクル用支持枠および製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170080582A true KR20170080582A (ko) | 2017-07-10 |
| KR102389124B1 KR102389124B1 (ko) | 2022-04-20 |
Family
ID=55908879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020177011500A Expired - Fee Related KR102389124B1 (ko) | 2014-11-04 | 2015-09-09 | 펠리클용 지지 프레임 및 제조 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10642151B2 (ko) |
| EP (1) | EP3217221B1 (ko) |
| JP (1) | JP6274079B2 (ko) |
| KR (1) | KR102389124B1 (ko) |
| CN (1) | CN107077062B (ko) |
| TW (1) | TWI658322B (ko) |
| WO (1) | WO2016072149A1 (ko) |
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- 2015-09-09 US US15/524,234 patent/US10642151B2/en active Active
- 2015-09-09 KR KR1020177011500A patent/KR102389124B1/ko not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201617731A (zh) | 2016-05-16 |
| KR102389124B1 (ko) | 2022-04-20 |
| EP3217221A4 (en) | 2018-07-18 |
| TWI658322B (zh) | 2019-05-01 |
| JP2016090784A (ja) | 2016-05-23 |
| EP3217221A1 (en) | 2017-09-13 |
| JP6274079B2 (ja) | 2018-02-07 |
| CN107077062A (zh) | 2017-08-18 |
| WO2016072149A1 (ja) | 2016-05-12 |
| EP3217221B1 (en) | 2022-04-27 |
| US10642151B2 (en) | 2020-05-05 |
| CN107077062B (zh) | 2020-12-25 |
| US20170343894A1 (en) | 2017-11-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0105 | International application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A15-nap-PA0105 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U12-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U13-oth-PC1903 Not in force date: 20250419 Payment event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE |
|
| H13 | Ip right lapsed |
Free format text: ST27 STATUS EVENT CODE: N-4-6-H10-H13-OTH-PC1903 (AS PROVIDED BY THE NATIONAL OFFICE); TERMINATION CATEGORY : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Effective date: 20250419 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
St.27 status event code: N-4-6-H10-H13-oth-PC1903 Ip right cessation event data comment text: Termination Category : DEFAULT_OF_REGISTRATION_FEE Not in force date: 20250419 |