KR970077111A - 투영 노광 장치 - Google Patents

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마사이찌 무라까미
히로시 시라스
도모히데 하마다
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고노 시게오
니콘 코포레이션
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

오프·악세스 방식의 기판 얼라인먼트계를 구비하는 투영 노광 장치에 있어서, 얼라인먼트 시간을 단축해서 스루풋(throughput)를 증대하고, 또한 기판 스테이지의 스토로크를 길게하는 일 없이 큰 사이즈의 감광 기판을 노광하는 일이 가능토록한 투영 노광 장치를 제공코자 하는 것으로, 그 구성은 기판 스테이지31 위의 다른 위치에 기준 마크를 갖는 기준 부재 FPa, FPb를 복수개 배치하고, 또 그들 복수의 기준 마크를 관찰할 수 있는 오프·악세스 방식의 기판 얼라인먼트계60a, 60b를 복수 설치하여 이뤄진다.

Description

투영 노광 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 투영 노광 장치의 개략 설명도이다.

Claims (5)

  1. 감광 기판을 재치(載置)하여 2차원 방향으로 이동 가능한 기판 스테이지와; 마스크 패턴을 상기 감광기판 위에 투영하는 투영 광학계와; 상기 투영 광학계의 광측으로부터 떨어진 위치에 제1검출 영역을 가지고, 상기 감광 기판 위의 얼라인먼트 마크를 검출하는 제1기판 얼라인먼트계와; 상기 투영 광학계의 광측으로부터 떨어진 상기 제1검출 영역과 다른 위치에 제2검출 영역을 가지고, 상기 감광 기판 위의 얼라인먼트 마크를 검출하는 제2기판 얼라인먼트계와; 상기 제1기판 얼라인먼트계에서 검출할 수 있는 기준 마크를 가지고, 상기 기판 스테이지 위에 설치되는, 상기 제1기판 얼라인먼트계용의 제1기준 부재와; 상기 제2기판 얼라인먼트계에서 검출할 수 있는 기준 마크를 가지고, 상기 기판 스테이지 위에서 상기 제1기준 부재와는 다른 위치에 설치되는, 상기 제2기판 얼라인먼트계용 제2기준 부재;를 구비한 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판 스테이지에서의 상기 제1기준 부재 및 상기 제2기준 부재의 간격은, 상기 제1검출 영역 및 상기 제2검출 영역의 간격에 맞추어 결정되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판 스테이지 위에서의 제1기준 부재 및 제2기준 부재의 간격은, 상기 제1검출 영역 및 상기 제2검출 영역의 간격보다 짧은 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  4. 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 제1검출 영역 및 제2검출 영역은, 각각 상기 투영 광학계의 투영 시야의 외측으로 설정되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기준 부재는, 상기 기판 스테이지에 대해 승강 가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970015201A 1996-05-10 1997-04-23 투영 노광 장치 Withdrawn KR970077111A (ko)

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