LT3297B - Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components - Google Patents

Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components Download PDF

Info

Publication number
LT3297B
LT3297B LTIP287A LTIP287A LT3297B LT 3297 B LT3297 B LT 3297B LT IP287 A LTIP287 A LT IP287A LT IP287 A LTIP287 A LT IP287A LT 3297 B LT3297 B LT 3297B
Authority
LT
Lithuania
Prior art keywords
mixture
solution
polishing
sufficient
passivator
Prior art date
Application number
LTIP287A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter G Sherman
Original Assignee
Chemimetals Proc Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chemimetals Proc Inc filed Critical Chemimetals Proc Inc
Publication of LTIP287A publication Critical patent/LTIP287A/xx
Publication of LT3297B publication Critical patent/LT3297B/lt

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B31/00—Machines or devices designed for polishing or abrading surfaces on work by means of tumbling apparatus or other apparatus in which the work and/or the abrasive material is loose; Accessories therefor
    • B24B31/12—Accessories; Protective equipment or safety devices; Installations for exhaustion of dust or for sound absorption specially adapted for machines covered by group B24B31/00
    • B24B31/14—Abrading-bodies specially designed for tumbling apparatus, e.g. abrading-balls
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F3/00—Brightening metals by chemical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Disintegrating Or Milling (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Percussive Tools And Related Accessories (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Description

Šis išradimas priskiriamas mišiniams ir tokių mišinių vartojimo būdams, paruošiant gaminius iš juodųjų metalų tolesniam padengimų užnešimui ant jų paviršiaus elektrolitinio nusodinimo būdu, kurie apima tirpalo, turinčio rūgšties ir pasyvatoriaus paruošimą, gaminio ir poliruojančios terpės panardinimą i tirpalą ir gaminio ir poliruojančios terpės maišymą, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaiko panardintus. Panaši technologija žinoma iš JAV patento Nr. 2890944 Hays vardu, keleto JAV patentų Nr. 2940838, 2981610, 3052582 ir 3061494 Herman Ben Snyder, o taip pat patento Nr. 4491500 Michaud vardu ir kt.
Pagal siūlomo techninio sprendimo patobulinimą mišiniai yra sausos granuliuotos formos. Sausos granuliuotos formos mišinys turi svorio procentais apytiksliai 40% oksalo rūgšties kristalų; 30% kristalinio fosforingo pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus kristalų masės santykis yra ribose atitinkamai nuo apytiksliai 2:1 iki apytiksliai 0,4:1; skysto amininančio agento, prisotinto amoniaku, kiekį, pakankamą ir efektyvų reguliuoti tirpalo pH, susidarančio tirpstant mišiniui vandenyje, apytiksliai iki 3,5; neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekiu, pakankamu ir efektyviu mišinio sudrėkinimui; granuliuoto absorbento kiekiu, pakankamu . likusio mišinio pagaminimui ir efektyviu skysto aminančio agento sugėrimui ir jis tarnauja kaip nešiklis.
Žinoma, kad, gaminant gaminius iš juodųjų metalų, tų gaminių padengimas elektrolitinio nusodinimo būdu atlieka dvigubą funkciją, būtent, apsaugo nuo rūdijimo arba kito gedimo ir pagerina jo išvaizdą. Dėl šių priežasčių rankiniai instrumentai, pavyzdžiui, veržliniai raktai ir t.t., padengiami galvaniniu blizgančiu paviršiumi. Paruošiant gaminius tokio paviršiaus užnešimui svarbu, kad paviršius, ant kurio turi būti užnešamas padengimas, turėtų atitinkamą glotnumo laipsnį ir kai kada svarbu, kad jis būtų poliruotas. Nors toks poliravimas atliekamas įvairiais būdais, vis tik metalo nuėmimas cheminiu būdu pasiekė kai kurių laimėjimų ir pripažinimo, be to, susijęs su būdais, aprašytais anksčiau minėtuose patentuose.
Aprašyto tipo būduose pastoviai lyginami šiurkštumo ir našumo faktoriai. Bandant pasiekti didelio našumo ir sutrumpinti įrengimų naudojimo laiką, kai kas bandė naudoti labai rūgščius tirpalus. Kiti bandė naudoti mažiau rūgščius tirpalus, kad pasiektų reikalingo švarumo paviršių. Abiem atvejais gali iškilti problemos su naudojamų tirpalų nualinimu ir nutekamųjų vandenų susidarymu. Mėginimai prailginti tirpalo naudingumą apėmė pasyvatorių panaudojimą, kad perspėtų apie darbinio tirpalo išeikvojimą.
Atsižvelgiant į praeities pastangas ir iškylančias problemas, šio išradimo tikslas gauti chemiškai poliruotus paviršius tolesniam blizgančiam galvaniniam paviršiaus padengimui per optimalų apdirbimo laiką su minimalia nutekamųjų vandenų išeiga. Šio išradimo tikslo pasiekimui prieš tai aprašytas trumpas paprastas būdas pagerinamas panaudojant organinės rūgšties tirpalą, tai leidžia gauti kontroliuojamą metalo nuėmimą reikalingu greičiu. Naudojant pasiūlytą sprendimą gamybos galimybės pagerinamos palyginti su tomis, kurios buvo pasiektos naudojant stipresnius tirpalus, be to, šio proceso nuotekos beveik priartėja prie chemiškai neutralių atliekų.
Dar vienas šio išradimo tikslas yra mišinių gavimas, kuriuos galima pagaminti ir naudoti kaip sausą granuliuotą medžiagą, po to galima sumaišyti su vandeniu, kad gautume reikalingą darbinį tirpalą, kada jo prireiks. Šio išradimo tikslo pasiekimui darbinių chemikalų, naudojamų trumpai aprašytame būde, transportavimas ir paruošimas supaprastinamas tiems vartotojams, kurie gali naudoti sausas granuliuotas medžiagas šiam tikslui.
Iš tolesnio aprašymo bus akivaizdūs kiti išradimo tikslai. Nors išradimas bus aprašomas išsamiau, bet turi būti aišku iš aprašymo, kuris yra pradžioje, kad šios srities specialistai gali patobulinti aprašytą išradimą ir gauti šio išradimo palankius rezultatus. Tuo būdu, aprašymą, kuris seks vėliau, reikia suprasti plačiu aspektu, o ne kaip apribojantį šį išradimą.
Kaip buvo nurodyta, pasiūlyti mišiniai duoda sausą granuliuotą mišinį, kurį galima sumaišyti su vandeniu ir naudoti įrengime juodųjų metalų abrazyviniam apdirbimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, gaminio poliravimui sukamame būgne. Sausas mišinys turi svorio procentais apytiksliai 40% oksalo rūgšties kristalų, apytiksliai 30% kristalinio fosforingo pasyvatoriaus; be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus kristalų masės santykis yra ribose atitinkamai nuo apytiksliai 2:1 iki apytiksliai 0,4:1; skysto amininančio agento, prisotinimui amoniaku, kiekį, pakankamą ir efektyvų, norint reguliuoti tirpalo pH apytiksliai iki 3,5, susidarančio tirpstant mišiniui vandenyje; neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekį, pakankamą ir efektyvų mišinio sudrėkinimui; ir granuliuoto absorbento kiekį, pakankamą likusio mišinio pagaminimui ir efektyvų skysto amininančio agento sugėrimui ir tarnaujantį kaip nešiklį.
Fosforingu pasyvatoriumi gali būti kiekvienas iš neorganinių fosfatų, kurie turi savybes blokuoti juodųjų metalų jonus, ir/arba daugelis organinių fosfatų, kurie turi šias savybes. Tie, kurie, kaip buvo nustatyta, siūlomuose mišiniuose veikia geriau, yra pirofosfatai, tripolifosfatai arba fosfonatai. Tinkamiausias tetranatrio pirofosfatas.
Buferiniais agentais ir/arba agentais prisotinimui amoniaku gali būti bet kokia medžiaga, išskirianti arba sudaranti amoniaką, kuris gali turėti efektą tirpalo pH reguliavimui. Buvo nustatyta, kad rūgšties sudėtinės dalies metalo nuėmimui, ir pasyvatoriaus metalo jonų užlaikymui tirpale, neleidžiant jų antriniam nusėdimui ant gaminio galvaninio padengimo proceso metu, kombinuotas efektas priklauso nuo pH reikšmės, be to, jis neprasidės ir/arba tinkamai neveiks prie pH lygio žemiau 3,5. Tokiu atveju mišiniuose ir būduose pagal išradimą svarbu kontroliuoti šį faktorių. Pageidautina medžiaga kontrolės pasiekimui yra monoetanolaminas. Monoetanolaminas - tai skystis ir, norint jį panaudoti sausoje granuliuotoje medžiagoje pagal išradimą, būtina naudoti nešiklį skysčiui. Tai pasiekiama absorbento pagalba ir pageidautina medžiaga yra diatominė žemė, kuri yra chemiškai inertiška šiems mišiniams ir šių mišinių panaudojimo metodams.
Tam, kad esamos sudėties mišinys lengviau tirptų vandenyje, kuris Įmaišomas vartojant, pageidautina naudoti drėkinantį agentą paviršiaus aktyviosios medžiagos forma. Pageidautina paviršiaus aktyvioji medžiaga yra neputojanti, nejoninė medžiaga, be to, pageidautina, kad tokia medžiaga turėtų žemą HLB reikšmę.
Oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus santykis yra svarbus, palaikant pusiausvyrą tarp metalo nuėmimo nuo švariai apdirbamo paviršiaus greičio ir ėsdinimo, susijusiu su per daug agresyviu metalo nuėmimu, kadangi abi medžiagos turi Įtakos metalo pašalinimui. Eksperimentai su skirtingais rūgšties ir pasyvatoriaus santykiais parodė, kad paprastai padidinus pasyvatoriaus kiekį, lyginant su rūgšties kiekiu, padidinamas metalo nuėmimo greitis ir, be to, padidinama galimybė, kad metalo nuėmimas duos būdingą išorinį ledo rašto vaizdą, kurį, kaip manoma, galima gauti po ėsdinimo, be to, patyrimas parodė, kad, norint patenkinamai padengti paviršių, būtina prieš tai jį poliruoti. Nors mechanizmas, galintis duoti tokius rezultatus, ne visiškai aiškus, vis tik manoma, kad galbūt koncentracijos keitimas sąlygoja metalo nuėmimo efektyvumo pakeitimą mikroskopiniu lygiu iškilimai, įdubos arba gaminių šiurkštumu. Ten, kur metalo nuėmimas iš esmės vienodas ant abiejų paviršių, gaunamas ledo raštas. Tais atvejais, kada nuo aukštesnių taškų nuimama daugiau metalo, pasiekiamas didesnis paviršiaus lygumas ir apdirbamas gaminys pasidaro priimtinesnis. Iš dalies priklausantis nuo apdirbamo metalo lydinio rūšies, rūgšties ir agento santykis ribose nuo apytiksliai 2:1 iki 0.3:1 yra tinkamiausias pagal šį išradimą. Tinkamiausia riba yra santykis apytiksliai 1,4:1.
Mišinius pagal išradimą galima žinomo tipo šlapio abrazyvinio galinčiame išlaikyti susidarantį nuotą korozinį efektą. Tokio naudoti bet kokiam apdirbimo įrengime, dispersijos koordiįrenginio pavyzdžiai pateikti išvardintuose patentuose ir gali būti atviri ir uždari būgninio poliravimo įrenginiai, išcentrinės, vibracinės ir špindelinės mašinos. Tokiais įrenginiais galima apdirbti partijomis, nepertraukiamai arba sroviniu būdu arba abiem būdais. Naudojami tirpalai gali būti vienkartinai užpilami arba recirkuliuojami. Tokio įrenginio pasirinkimas paliekamas specialisto nuomonei. Nors, kai bus išsamiau aprašyta, geriausiame būde naudojamas įrenginys su tirpalo recirkuliacij a.
Kaip trumpai užsiminėm, gaminių iš juodųjų metalų tolimesniam paviršių galvaniniam padengimui paruošimo būdas pagal šį išradimą apima žinomas pakopas: tirpalo, susidedančio iš rūgšties ir pasyvatoriaus, paruošimą;
gaminių ir šlifuojančios terpės panardinimą į tirpalą; ir gaminių ir šlifuojančios terpės permaišymą, be to, gaminius ir šlifuojančią terpę laiko panardintus tirpale.
Reikia pažymėti, kad mišinių, paruoštų pagal išradimą, sėkmingo darbo svarbiu faktoriumi yra skirtingas tirpstamumas natrio ir amonio oksalatų ir natrio/amonio geležies (III) ir geležies (II) oksalatų, kurie susidaro, įvedus mišinį į talpą, kurioje apdirbami gaminiai iš juodųjų metalų. Pastarosios medžiagos labiau tirpsta vandenyje ir labiau tinkamos poliravimui pagal šį išradimą.
Patobulinimai pagal išradimą, panaudojant sausą granuliuotą mišinį, apima šias pakopas: tirpalo paruošimą, sumaišant vandenį su nurodytu granuliuotu sausu mišiniu santykiu apytiksliai nuo 226,80 g iki 340,20 g (nuo 8 iki 12 uncijų) mišinio vienam vandens galonui; tirpalo pH lygio reguliavimą gaminių ir šlifuojančios terpės maišymo metu ir sureguliuoto pH lygio palaikymą, pridedant šarmo ir tuo būdu sureguliuojant tirpalo pH lygį ribose apytiksliai nuo
4,5 iki 5,0 gaminių ir šlifuojančios terpės maišymo metu. Maišymas tęsiasi tol, kol ant gaminių iš juodųjų metalų paviršiaus susidaro lengva juoda plėvelė. Eksperimentai parodė, kad optimaliausia gamyba pasiekiama cirkuliacinio tipo procese ir su tirpalo recirkuliacijos srauto greičiu ribose apytiksliai nuo 0,94 dm3 iki 3,78 dm3 per valandą, esant 28,31 dm3 talpai (nuo 0,25 iki 1,0 galonų per valandą kubinei tūrio pėdai talpos), pripildytai dispersija, gaminiais ir poliruojančia terpe.
Kai kurie eksperimentai, atlikti kuriant šį išradimą, atsispindi šiuose pavyzdžiuose.
pavyzdys
Naudojant laboratorinį uždarą būgninį poliravimo įtaisą ir nedidelę partiją griebtuvų raktams, buvo paruoštas tirpalas iš vandens ir sauso Mišinys, sudarytas iš lygiomis rūgšties kristalų ir vandeniu, atitinkamai granuliuoto mišinio, masės dalimis oksalo buvo sumaišytas su fosfato
226, 80 g 3,78 dmJ (8 uncijos vienam galonui) vandens. Į tirpalą pridėjo paprasto buitinio amoniako kiekį, pakankamą pH reguliavimui iki apytiksliai 4. Gaminį iš juodųjų metalų apdorojo būgniniame poliravimo įtaise 8 valandas, po to pašalino ir nuplovė. Buvo pastebėta, kad griebtuvų paviršius buvo glotnus ir kad ant jo susidarė pilka plėvelė. Griebtuvai turėjo paviršių, tinkamą galvaniniam padengimui.
pavyzdys
Panaudojant būgninį poliravimo įtaisą iš 1 pavyzdžio ir analogišką gaminių iš juodųjų metalų kiekį, analogišku būdu buvo paruoštas tirpalas su oksalo rūgšties ir fosfato santykiu 0,30:1. Agentu, prisotinimui amoniaku, buvo panaudotas amoniakas, paprastai naudojamas buityje valymui. Buvo aptikta, kad apdirbtas gaminys turi išorinį paviršiaus vaizdą ledo raštas, rodantį netinkamą metalo nuėmimą. Nors jie ir yra priimtini galvaniniam padengimui, bet padengtas gaminys mažiau patrauklus vizualiai, kaip pirmo pavyzdžio gaminys.
pavyzdys
Sausas granuliuotas mišinys buvo paruoštas, panaudojant oksalo rūgšties kristalus ir tetranatrio pirofosfatą santykiu 2:1. Monoetanolaminas sumaišytas su diatominę žeme santykiu apytiksliai 0,33:1, kol diatominę žemė nesugėrė skysto amino. Po to rūgštis ir fosfatas buvo sumaišytas su amino nešikliu santykiu apytiksliai 1,5:1 sauso granuliuoto mišinio gavimui. Sausas granuliuotas mišinys iš rūgšties, fosfato, amino ir nešiklio buvo sumaišytas su vandeniu santykiu 340,20 g mišinio 3,78 dm3 vandens (12 uncijų kiekvienam vandens galonui) ir panaudotas pramoninio tipo Įrengime su vibruojančiu būgnu, skirtame poliruoti didelį kiekį gaminių. Gaminius apdirbo 4 valandas ir po to buvo aptikta, kad jie turi tinkamą apdailą ir juodą plėvelę suodžių pavidalu.
pavyzdys
Buvo paruoštas sausas mišinys panašios sudėties kaip 3 pavyzdyje pridedant apytiksliai 1% masės neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos. Mišinys buvo sumaišytas su vandeniu atitinkamai 283,5 g 3,78 dm3 vandens (10 uncijų kiekvienam vandens galonui) . Buvo pastebėta, kad skysto poliravimo mišinio gavimas buvo pagerintas, lyginant su mišiniu iš 3 pavyzdžio. Poliruojančią masę panaudojo būgniniame poliravimo būgne, recirkuliuoj ant srautą, rankinių instrumentų apdirbimui. Buvo pastebėta, kad patenkinamas paviršiaus apdirbimas pasiekiamas maždaug po 6 valandų.
pavyzdys
Naudojant oksalo rūgšties kristalus ir tetranatrio pirofosfatą santykiu 1,4:1, buvo paruoštas sausas granuliuotas mišinys. Monoetanolaminas buvo sumaišytas su diatominę žeme santykiu apytiksliai 0,4:1, kol diatominė žemė nesugėrė skystą aminą. Po to rūgštis ir fosfatas buvo sumaišyti su amino nešikliu santykiu apytiksliai 1,5:1 sauso granuliuoto mišinio gavimui. Po to sausas granuliuotas mišinys iš rūgšties, fosfatų, amino ir nešiklio buvo sumaišytas su vandeniu santykiu
283,5 g 3,78 dm3 vandens (10 uncijų kiekvienam vandens galonui) ir panaudotas pramoninio tipo Įrenginyje su vibruojančiu būgnu ir recirkuliuoj ančių srautu dideliam gaminių kiekio poliravimui. Gaminį apdirbo per
5 valandas, kai srauto recirkuliacijos greitis
3,02 dm3 (0,8 galono) per valandą, esant darbinės mašinos 28,31 dm3 apimčiai (1 kubinė pėda) ir buvo nustatyta, kad gaminiai turi priimtiną apdailą ir juodą plėvelę.
Nors naudotuose pavyzdžiuose atsispindi parametrai, kuriuos keitė eksperimento metu, tinkamiausia išradimo forma šiame aprašyme yra sausas granuliuotas mišinys, kuris turi komponentų kiekį pagal svorį: 35% oksalo rūgšties kristalų, 28% absorbento skystam agentui, geriausia diatominės žemės, 25% kristalinio fosforo, geriausia tetranatrio pirofosfato; 11% agento amoniako prisotinimui, tinkamiausias monoetanolaminas, 1% neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos.
Aprašyme išdėstyti tinkamiausi išradimo įgyvendinimo pavyzdžiai, naudojant specialius terminus, vienok tai panaudota kaip bendra terminologija ir neapriboja išradimo.

Claims (14)

  1. IŠRADIMO APIBRĖŽTIS
    1. Mišinys juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravimo įtaise, sumaišant jį su vandeniu, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais iki 40 % oksalo rūgšties; apytiksliai iki 30% fosforingo pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus svorių santykis yra apytiksliai nuo 1,2:1 apytiksliai iki 0,4:1; pakankamą ir efektyvų prisotinti amoniaku, tikslu susidarančio tirpinant mišinį diapazone apytiksliai nuo 3,5 iki 6,5; paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekį, pakankamą ir efektyvų mišinio sudrėkinimui; ir nešiklio medžiagos kiekį, pakankamą likusios mišinio dalies sudarymui ir efektyvų mišinio sudėtinių dalių palaikymui granuliuota, sausa, lengvai apdirbama forma.
    kiekį agento, skirto reguliuoti tirpalo pH, vandenyje,
  2. 2. Mišinys pagal 1 punktą, besiskiriantis tuo, kad agentu, prisotinančiu mišinį amoniaku, yra skystas aminas, o nešiklio medžiaga yra granuliuotas absorbentas, kuris efektyviai absorbuoja skysto amino agentą ir tarnauja kaip nešiklis.
  3. 3. Sausas granuliuotas mišinys, maišomas su vandeniu ir naudojamas juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravimo įtaise, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais apytiksliai iki 40% oksalo rūgšties kristalų; apytiksliai iki 30% fosforingo kristalinio pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties ir pasyvatoriaus kristalų svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 1,2:1 apytiksliai iki 0,4:1; agento amoniaku kiekį, pakankamą ir efektyvų gaunamo ištirpinant mišinį vandenyje, prisotinimui tirpalo pH, reguliavimui apie 3,5; paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekį, pakankamą ir efektyvų mišinio sudrėkinimui; ir granuliuoto absorbento kiekį, pakankamą likusio mišinio pagaminimui ir efektyvų skysto amino agento sugėrimui ir tarnaujantį kaip nešiklis.
  4. 4. Sausas granuliuotas mišinys, maišomas su vandeniu ir naudojamas juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravimo įtaise, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais apytiksliai iki 2% paviršiaus aktyviosios medžiagos; apytiksliai nuo 50% iki 60% mišinio oksalo rūgšties kristalų ir kristalinio fosforingo pasyvatoriaus, parinkto iš grupės, sudarytos iš pirofosfatų, tripolifosfatų ir fosfatų, be to, oksalo rūgšties kristalų ir pasyvatoriaus kristalų svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 1,2:1 iki 0,4:1; apytiksliai iki 15% skysto amino agento prisotinimui amoniaku, kuris pakankamas ir efektyvus tirpalo pH, susidarančio mišiniui tirpstant vandenyje, reguliavimui ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 5,5; granuliuoto absorbento kiekį, pakankamą likusio mišinio pagaminimui ir skysto amino agento sugėrimui ir tarnaujantį kaip nešiklis.
  5. 5. Mišinys pagal vieną iš 3 arba 4 punktų, besiskiriantis tuo, kad fosforingas kristalinis pasyvatorius yra pirofosfatas.
  6. 6. Mišinys pagal 5 punktą, besiskiriantis tuo, kad fosforingas kristalinis pasyvatorius yra tetranatrio pirofosfatas.
  7. 7. Mišinys pagal vieną iš 3 arba 4 punktų, besiskiriantis tuo, kad skystas amino agentas yra
    35 monoetanolaminas.
  8. 8. Mišinys pagal vieną iš 3 arba 4 punktų, besiskiriantis tuo, kad absorbentas yra diatominė žemė.
  9. 9. Sausas granuliuotas mišinys, maišomas su vandeniu ir naudojamas juodųjų metalų abrazyviniam poliravimui šlapiu būdu, pavyzdžiui, būgniniame arba panašiame poliravime įtaise, besiskiriantis tuo, kad turi svorio procentais apytiksliai 2% neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos su žemu HLB; apytiksliai nuo 50% iki 65% mišinio iš oksalo rūgšties kristalų ir tetranatrio pirofosfato, be to, oksalo rūgšties kristalų ir tetranatrio pirofosfato svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 2:1 iki 0,4:1; apytiksliai iki 15% monoetanolamino; diatominės žemės kiekį, pakankamą likusio mišinio pagaminimui ir monoetanolamino sugėrimui ir tarnaujanti kaip nešiklis.
  10. 10. Juodųjų metalų gaminių paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, kuris susideda iš rūgšties ir pasyvatoriaus tirpalo paruošimo, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimo i dispersiją, gaminių ir poliruojančios terpės maišymo, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaikant panardintus dispersijoje, besiskiriantis tuo, kad dispersiją paruošia granuliuotą mišinį sumaišant su vandeniu, 3,78 dm (vienam galonui) vandens apytiksliai 226,80-340,20 g (8-12 uncijų) granuliuoto mišinio, kuris susideda svorio procentais iš apytiksliai 40% oksalo rūgšties kristalų, apytiksliai 30% fosforingo kristalinio pasyvatoriaus, be to, oksalo rūgšties kristalų ir pasyvatoriaus kristalų svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 1,2:1 apytiksliai iki 0,4:1, skysto amino agento prisotinimui amoniaku kiekio, pakankamo ir efektyvaus reguliavimui tirpalo pH, susidarančio tirpstant mišiniui vandenyje, iki 3,5, paviršiaus aktyviosios medžiagos kiekio, pakankamo ir efektyvaus mišinio sudrėkinimui, granuliuoto adsorbento kiekio, pakankamo likusio mišinio pagaminimui ir
    5 efekty-vaus skysto amino agento sugėrimui ir atliekančio nešiklio funkciją;
    tirpalo pH lygi kontroliuoja, maišant gaminį ir poliruojančią terpę;
    ir reaguoja į sureguliuotus pH lygius, pridedant šarmo;
    ir tuo reguliuoja tirpalo pH lygį, palaikant pH dydį ribose apytiksliai nuo 3,5 apytiksliai iki 7,0 visą
    15 gaminio ir poliruojančios terpės maišymo laiką.
  11. 11.Juodųjų metalų gaminių paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, kuris susideda iš rūgšties ir pasyvatoriaus tirpalo
    20 paruošimo, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimo į dispersiją, gaminių ir poliruojančios terpės maišymo, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaikant panardintus dispersijoje, besiskiriantis tuo, kad dispersiją paruošia granuliuotą mišinį sumaišant su vandeniu, 3,78 dm3 (vienam galonui) vandens atitinkamai 226,80-340,20 g (8-12 uncijų) sauso granuliuoto mišinio, kuris susideda svorio procentais apytiksliai
    30 iš 2% paviršiaus aktyviosios medžiagos, 50-65% mišinio oksalo rūgšties kristalų ir fosforingo kristalinio pasyvatoriaus, parinkto iš grupės, susidedančios iš pirofosfatų, tirolifosfatų ir fosfonatų, be to, oksalo rūgšties kristalų ir pasyvatoriaus kristalų svorių
    35 santykis yra ribose apytiksliai nuo 1,2:1 apytiksliai iki 0,4:1, apytiksliai iki 15% skysto amino agento prisotinimui amoniaku, ir granuliuoto absorbento kiekio, pakankamo likusio mišinio pagaminimui ir skysto amino agento sugėrimui ir atliekančio nešiklio funkciją;
    tirpalo pH lygį kontroliuoja gaminių ir poliruojančios terpės maišymo metu;
    reaguoja—į sureguliuotus pH lygius, pridedant šarmo;
    tuo reguliuoja dispersijos pH lygio palaikymą ribose apytiksliai nuo 3,5 iki 7,0 visą gaminių ir poliruojančios terpės maišymo laiką.
  12. 12.Juodųjų metalų gaminu paruošimo elektrolitiniam nusodinimui ant padengiamo paviršiaus būdas, kuris susideda iš rūgšties ir pasyvatoriaus tirpalo paruošimo, gaminių ir poliruojančios terpės panardinimo į dispersiją, gaminių ir poliruojančios terpės maišymo, be to, gaminius ir poliruojančią terpę palaikant panardintus dispersijoje, besiskiriantis tuo, kad dispersiją paruošia granuliuotą mišinį sumaišant su vandeniu, 3,78 dm (vienam galonui) vandens apytiksliai 170,10-340,20 g (6—12 uncijų) sauso granuliuoto mišinio, kuris susideda svorio procentais apytiksliai iš 2% neputojančios nejoninės paviršiaus aktyviosios medžiagos su žemu HLB, nuo 50% iki 65% oksalo rūgšties kristalų ir tetranatrio-pirofosfato mišinio, be to, oksalo rūgšties kristalų ir tetranatrio pirofosfato svorių santykis yra ribose apytiksliai nuo 2:1 apytiksliai iki 0,4:1, apytiksliai 15% monoetanolamino kiekio, pakankamo ir efektyvaus reguliavimui tirpalo pH, susidarančio mišiniui tirpstant vandenyje, apytiksliai iki 4,5-5,0, ir diatominės žemės kiekio, pakankamo likusio mišinio pagaminimui ir monoetanolamino sugėrimui ir tarnaujančio kaip nešiklis;
    5 dispersijos pH lygi kontroliuoja, maišant gaminius ir poliruojančią terpę;
    reaguoja į sureguliuotus pH lygius, pridedant šarmo;
    10 tuo reguliuoja tirpalo pH lygio palaikymą ribose apytiksliai nuo 4,5 iki 5,0 visą gaminių ir poliruojančios terpės maišymo laiką.
  13. 13. Būdas pagal 10, 11 arba 12 punktus, besiski15 riantis tuo, kad gaminius ir poliruojančią terpę maišo tol, kol ant juodųjų metalų paviršiaus susidaro neryškiai juoda plėvelė.
  14. 14. Būdas pagal 10, 11 arba 12 punktus, besiski20 riantis tuo, kad tirpalą recirkuliuo j a per gaminių ir poliruojančios terpės talpą ir kad tirpalo recirkuliacij a vykdoma, kai srauto greitis yra ribose apytiksliai 0,94-3,78 dm3 (0,25-1,0 galonų) per valandą, esant 28,31 dm (kubinės pėdos) talpai, užpildytai
    25 dispersija, gaminiais ir poliravimo terpe.
LTIP287A 1986-11-24 1993-01-20 Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components LT3297B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/934,469 US4724042A (en) 1986-11-24 1986-11-24 Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
LTIP287A LTIP287A (en) 1994-10-25
LT3297B true LT3297B (en) 1995-06-26

Family

ID=25465618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
LTIP287A LT3297B (en) 1986-11-24 1993-01-20 Dry granular composition for, and method of, polishing ferrous components

Country Status (16)

Country Link
US (1) US4724042A (lt)
EP (1) EP0334877B1 (lt)
JP (1) JPH02500757A (lt)
AT (1) ATE86311T1 (lt)
BR (1) BR8707893A (lt)
DE (1) DE3784517T2 (lt)
DK (1) DK390588D0 (lt)
FI (1) FI83544C (lt)
IL (1) IL84562A (lt)
LT (1) LT3297B (lt)
LV (1) LV10316B (lt)
MX (1) MX165427B (lt)
NO (1) NO176722C (lt)
NZ (1) NZ222626A (lt)
RU (1) RU2062305C1 (lt)
WO (1) WO1988003963A1 (lt)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8701407A (nl) * 1987-06-17 1989-01-16 Vunderink Ate Een oppervlakte techniek die het massaal slijpen en polijsten van metalen artikelen in rotofinish apparatuur sneller doet verlopen.
DE3800834A1 (de) * 1988-01-14 1989-07-27 Henkel Kgaa Verfahren und mittel zum gleichzeitigen gleitschleifen, reinigen und passivieren metallischer werkstuecke
US4906327A (en) * 1989-05-04 1990-03-06 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
USRE34272E (en) * 1989-05-04 1993-06-08 Rem Chemicals, Inc. Method and composition for refinement of metal surfaces
US20040134873A1 (en) * 1996-07-25 2004-07-15 Li Yao Abrasive-free chemical mechanical polishing composition and polishing process containing same
US20040140288A1 (en) * 1996-07-25 2004-07-22 Bakul Patel Wet etch of titanium-tungsten film
AU3661997A (en) * 1996-07-25 1998-02-20 Ekc Technology, Inc. Chemical mechanical polishing composition and process
US6261154B1 (en) 1998-08-25 2001-07-17 Mceneny Jeffrey William Method and apparatus for media finishing
US6426295B1 (en) * 1999-02-16 2002-07-30 Micron Technology, Inc. Reduction of surface roughness during chemical mechanical planarization(CMP)
US6409936B1 (en) 1999-02-16 2002-06-25 Micron Technology, Inc. Composition and method of formation and use therefor in chemical-mechanical polishing
US6638326B2 (en) 2001-09-25 2003-10-28 Ekc Technology, Inc. Compositions for chemical mechanical planarization of tantalum and tantalum nitride
US6895855B2 (en) 2001-10-01 2005-05-24 The Timken Company Hydraulic motors and pumps with engineered surfaces
US6866792B2 (en) * 2001-12-12 2005-03-15 Ekc Technology, Inc. Compositions for chemical mechanical planarization of copper
EP2401607B1 (en) * 2009-02-25 2015-11-25 Illumina, Inc. Separation of pyrophosphate release and pyrophosphate detection
US10179388B2 (en) * 2009-05-12 2019-01-15 Rem Technologies, Inc. High throughput finishing of metal components
CN103540947B (zh) * 2013-10-30 2015-10-21 涿州安泰星电子器件有限公司 一种电镀基材除油剂及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2890944A (en) 1956-05-25 1959-06-16 North American Aviation Inc Continuous chemical milling process
US2940838A (en) 1957-08-19 1960-06-14 Boeing Co Chemical milling
US2981610A (en) 1957-05-14 1961-04-25 Boeing Co Chemical milling process and composition
US4491500A (en) 1984-02-17 1985-01-01 Rem Chemicals, Inc. Method for refinement of metal surfaces

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666000A (en) * 1950-10-11 1954-01-12 Standard Oil Dev Co Process for cleaning automobile radiators
US2832706A (en) * 1953-05-12 1958-04-29 Victor Chemical Works Metal cleaning and phosphating composition and method of cleaning and phosphating
US3094489A (en) * 1959-08-31 1963-06-18 Monsanto Chemicals Method and composition for brightening aluminum
US3052582A (en) * 1959-10-05 1962-09-04 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
US3061494A (en) * 1959-10-05 1962-10-30 Boeing Co Process of chemical milling and acid aqueous bath used therefor
SE400581B (sv) * 1974-12-13 1978-04-03 Nordnero Ab Bad for kemisk polering av koppar och dess legeringar
AT366422B (de) * 1980-06-30 1982-04-13 Wiener Brueckenbau Phosphorsaures medium und verfahren zum dampfstrahl-phosphatieren von stahlkonstruktionen mittels dieses mediums
US4532066A (en) * 1984-03-05 1985-07-30 Sterling Drug Inc. Stable mildly acidic aqueous polishing cleanser and preparation thereof
US4705594A (en) * 1986-11-20 1987-11-10 Rem Chemicals, Inc. Composition and method for metal surface refinement

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2890944A (en) 1956-05-25 1959-06-16 North American Aviation Inc Continuous chemical milling process
US2981610A (en) 1957-05-14 1961-04-25 Boeing Co Chemical milling process and composition
US2940838A (en) 1957-08-19 1960-06-14 Boeing Co Chemical milling
US4491500A (en) 1984-02-17 1985-01-01 Rem Chemicals, Inc. Method for refinement of metal surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
DK390588A (da) 1988-07-13
ATE86311T1 (de) 1993-03-15
FI884658L (fi) 1988-10-11
WO1988003963A1 (en) 1988-06-02
NZ222626A (en) 1990-07-26
NO176722C (no) 1995-05-16
FI83544B (fi) 1991-04-15
FI83544C (fi) 1991-07-25
EP0334877A4 (en) 1989-12-28
LV10316A (lv) 1994-10-20
RU2062305C1 (ru) 1996-06-20
DE3784517D1 (de) 1993-04-08
IL84562A0 (en) 1988-04-29
LV10316B (en) 1995-06-20
NO176722B (no) 1995-02-06
MX165427B (es) 1992-11-11
FI884658A0 (fi) 1988-10-11
BR8707893A (pt) 1989-10-03
DK390588D0 (da) 1988-07-13
JPH02500757A (ja) 1990-03-15
LTIP287A (en) 1994-10-25
IL84562A (en) 1991-05-12
EP0334877A1 (en) 1989-10-04
NO883242D0 (no) 1988-07-21
DE3784517T2 (de) 1993-10-07
US4724042A (en) 1988-02-09
NO883242L (no) 1988-07-21
EP0334877B1 (en) 1993-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1218584A (en) Method for refinement of metal surfaces
CA2022492C (en) Burnishing method and composition
RU2062305C1 (ru) Состав и способ виброхимической обработки поверхности изделий из черных металлов
JPS63130787A (ja) 金属表面清浄化組成物および清浄化方法
JPH01219171A (ja) 金属加工部材の研削、洗浄および不動態化の方法および配合物
EP0357408B1 (en) Metal cleaning process
US2653860A (en) Etching aluminum using saccharic acid as a modifier
LT3298B (en) Liquid dispersion composition for, and method of, polishing ferrous components
JPH0454749B2 (lt)
US2820003A (en) Compositions for smoothening metal surfaces and processes for using the same
US4412932A (en) Method of cleaning fibreglass
RU2146697C1 (ru) Смазочно-охлаждающая композиция для обработки металлов галтовкой
JPS60146671A (ja) 工作物を溶解する性質のある化学薬品を併用するバレル研磨方法
CA1060426A (en) Sodium tetraborate carrier coating for rod
JP2003522818A (ja) 発泡を防止して表面から中間長カルボン酸金属塩を除去するクリ−ニング方法
PL160816B1 (pl) Środek wspomagający do obróbki luźnymi kształtkami ściernymi wyrobów ze stali
PL160221B1 (pl) Srodek wspomagajacy do obróbki luznymi ksztaltkami sciernymi wyrobów ze stali PL PL PL
KR19980065607A (ko) 반도체장치 제조용 알미늄 쉴드의 타타늄화합물 세정액
JPS6280095A (ja) 平版印刷版材用支持体の処理方法
JPH05320959A (ja) 電解鉄の防錆方法
JPH0442135B2 (lt)

Legal Events

Date Code Title Description
MM9A Lapsed patents

Effective date: 19970120