NL143734B - Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze. - Google Patents
Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze.Info
- Publication number
- NL143734B NL143734B NL646408428A NL6408428A NL143734B NL 143734 B NL143734 B NL 143734B NL 646408428 A NL646408428 A NL 646408428A NL 6408428 A NL6408428 A NL 6408428A NL 143734 B NL143734 B NL 143734B
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- semi
- field defect
- conductor field
- defect device
- manufacturing
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
- H10D30/83—FETs having PN junction gate electrodes
- H10D30/831—Vertical FETs having PN junction gate electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/80—FETs having rectifying junction gate electrodes
- H10D30/83—FETs having PN junction gate electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
- Y10S438/965—Shaped junction formation
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR942896A FR1377330A (fr) | 1963-07-26 | 1963-07-26 | Perfectionnements aux dispositifs semiconducteurs à effet de champ à canaux multiples intégrés |
| FR6722A FR87873E (fr) | 1963-07-26 | 1965-02-23 | Perfectionnements aux dispositifs semi-conducteurs à effet de champ à canaux multiples intégrés |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL6408428A NL6408428A (fr) | 1965-01-27 |
| NL143734B true NL143734B (nl) | 1974-10-15 |
Family
ID=26162207
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL646408428A NL143734B (nl) | 1963-07-26 | 1964-07-23 | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze. |
| NL666602337A NL152119B (nl) | 1963-07-26 | 1966-02-23 | Veldeffecttransistor waarbij het stuurgebied door een p-n-overgang van het kanaal is gescheiden. |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL666602337A NL152119B (nl) | 1963-07-26 | 1966-02-23 | Veldeffecttransistor waarbij het stuurgebied door een p-n-overgang van het kanaal is gescheiden. |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US3372316A (fr) |
| CH (2) | CH414872A (fr) |
| DE (2) | DE1293900B (fr) |
| FR (2) | FR1377330A (fr) |
| GB (2) | GB1045314A (fr) |
| NL (2) | NL143734B (fr) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1377330A (fr) * | 1963-07-26 | 1964-11-06 | Perfectionnements aux dispositifs semiconducteurs à effet de champ à canaux multiples intégrés | |
| US3430113A (en) * | 1965-10-04 | 1969-02-25 | Us Air Force | Current modulated field effect transistor |
| US3443172A (en) * | 1965-11-16 | 1969-05-06 | Monsanto Co | Low capacitance field effect transistor |
| NL7303347A (fr) * | 1972-03-10 | 1973-09-12 | ||
| JPS5017771A (fr) * | 1973-06-15 | 1975-02-25 | ||
| US4635084A (en) * | 1984-06-08 | 1987-01-06 | Eaton Corporation | Split row power JFET |
| US4633281A (en) * | 1984-06-08 | 1986-12-30 | Eaton Corporation | Dual stack power JFET with buried field shaping depletion regions |
| EP0167810A1 (fr) * | 1984-06-08 | 1986-01-15 | Eaton Corporation | JFET de puissance comportant plusieurs pincements latéraux |
| US4670764A (en) * | 1984-06-08 | 1987-06-02 | Eaton Corporation | Multi-channel power JFET with buried field shaping regions |
| US4959697A (en) * | 1988-07-20 | 1990-09-25 | Vtc Incorporated | Short channel junction field effect transistor |
| JP2713205B2 (ja) * | 1995-02-21 | 1998-02-16 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2930950A (en) * | 1956-12-10 | 1960-03-29 | Teszner Stanislas | High power field-effect transistor |
| FR1210880A (fr) * | 1958-08-29 | 1960-03-11 | Perfectionnements aux transistors à effet de champ | |
| GB912114A (en) * | 1960-09-26 | 1962-12-05 | Westinghouse Electric Corp | Semiconductor devices |
| FR1317256A (fr) * | 1961-12-16 | 1963-02-08 | Teszner Stanislas | Perfectionnements aux dispositifs semi-conducteurs dits tecnetrons multibâtonnets |
| FR1329626A (fr) * | 1962-04-04 | 1963-06-14 | Europ Des Semi Conducteurs Soc | Perfectionnements aux transistors à effet de champ, de hautes performances |
| US3268374A (en) * | 1963-04-24 | 1966-08-23 | Texas Instruments Inc | Method of producing a field-effect transistor |
| FR1377330A (fr) * | 1963-07-26 | 1964-11-06 | Perfectionnements aux dispositifs semiconducteurs à effet de champ à canaux multiples intégrés |
-
1963
- 1963-07-26 FR FR942896A patent/FR1377330A/fr not_active Expired
-
1964
- 1964-07-23 DE DET26654A patent/DE1293900B/de not_active Withdrawn
- 1964-07-23 NL NL646408428A patent/NL143734B/xx unknown
- 1964-07-24 CH CH970464A patent/CH414872A/fr unknown
- 1964-07-24 US US385023A patent/US3372316A/en not_active Expired - Lifetime
- 1964-08-04 GB GB30972/64A patent/GB1045314A/en not_active Expired
-
1965
- 1965-02-23 FR FR6722A patent/FR87873E/fr not_active Expired
-
1966
- 1966-02-17 CH CH231666A patent/CH429953A/fr unknown
- 1966-02-21 US US528896A patent/US3407342A/en not_active Expired - Lifetime
- 1966-02-22 GB GB7612/66A patent/GB1090696A/en not_active Expired
- 1966-02-23 DE DE1514932A patent/DE1514932C3/de not_active Expired
- 1966-02-23 NL NL666602337A patent/NL152119B/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1293900B (de) | 1969-04-30 |
| DE1514932C3 (de) | 1975-01-30 |
| US3372316A (en) | 1968-03-05 |
| DE1514932A1 (de) | 1969-09-11 |
| US3407342A (en) | 1968-10-22 |
| DE1514932B2 (de) | 1974-06-12 |
| GB1045314A (en) | 1966-10-12 |
| NL152119B (nl) | 1977-01-17 |
| CH414872A (fr) | 1966-06-15 |
| FR87873E (fr) | 1966-07-08 |
| CH429953A (fr) | 1967-02-15 |
| FR1377330A (fr) | 1964-11-06 |
| NL6602337A (fr) | 1966-08-24 |
| NL6408428A (fr) | 1965-01-27 |
| GB1090696A (en) | 1967-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL162791C (nl) | Werkwijze voor het samenstellen van een halfge- leiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL152114B (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een meerlaagshalfgeleiderinrichting en met deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting. | |
| AT259014B (de) | Halbleitereinrichtung und Verfahren zu deren Herstellung | |
| NL141029B (nl) | Werkwijze voor het vormen van een halfgeleiderinrichting en inrichting of stel inrichtingen gevormd volgens deze werkwijze. | |
| NL161616C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
| NL142287B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting, alsmede halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL142281B (nl) | Samengestelde halfgeleiderinrichting en werkwijze voor het vervaardigen daarvan. | |
| NL143072B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
| NL154868B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen. | |
| NL162789C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
| NL152116B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze. | |
| NL141332B (nl) | Geintegreerde halfgeleiderinrichting en werkwijze ter vervaardiging van een dergelijke inrichting. | |
| NL143167B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van gestrekte polypropeenfoelies. | |
| NL163369C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting. | |
| NL148060B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een betaine. | |
| NL143734B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze. | |
| NL154061B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. | |
| NL153025B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting in een huis en een volgens deze werkwijze vervaardigde halfgeleiderinrichting in een huis. | |
| NL140101B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL155663B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL149638B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting bevattende ten minste een veldeffecttransistor, en halfgeleiderinrichting, vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL144777B (nl) | Werkwijze voor het gelijktijdig vervaardigen van een aantal in een halfgeleiderlichaam opgenomen halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderlichaam vervaardigd volgens deze werkwijze. | |
| NL143627B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde inrichtingen. | |
| BE750088A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting | |
| NL143428B (nl) | Inrichting voor het kristalliseren van zouten uit oplossingen. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| VJC | Lapsed due to non-payment of the due maintenance fee for the patent or patent application | ||
| NL80 | Information provided on patent owner name for an already discontinued patent |
Owner name: TESZNER |