PL107755B1 - Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa - Google Patents

Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa Download PDF

Info

Publication number
PL107755B1
PL107755B1 PL20642778A PL20642778A PL107755B1 PL 107755 B1 PL107755 B1 PL 107755B1 PL 20642778 A PL20642778 A PL 20642778A PL 20642778 A PL20642778 A PL 20642778A PL 107755 B1 PL107755 B1 PL 107755B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
amount
developer
diazoquinone
weight
layer
Prior art date
Application number
PL20642778A
Other languages
English (en)
Other versions
PL206427A1 (pl
Inventor
Herbert Czichon
Henryk Dudziak
Original Assignee
Politechnika Warszawska
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Politechnika Warszawska filed Critical Politechnika Warszawska
Priority to PL20642778A priority Critical patent/PL107755B1/pl
Publication of PL206427A1 publication Critical patent/PL206427A1/pl
Publication of PL107755B1 publication Critical patent/PL107755B1/pl

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest wywolywacz, stosowany do obróbki offsetowych plyt presensybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa t lwuazoniowa, na blachach cynkowych, aluminiowych oraz aluminio- wo-miedzianych.W przemysle poligraficznym stosowane sa blachy cynkowe, aluminiowe oraz aluminiowo-miedziowe, po¬ kryte warstwa kopiowa, zawierajaca zwiazki dwuazochinonowe oraz czesto zywice nowolakowa. Warstwy te w czasie naswietlania rozkladaja sie, tworzac produkty rozpuszczalne. Proces rozpuszczania naswietlonych ele¬ mentów nazywa sie wywolywaniem, a znane wywolywacze zawieraja wodorotlenek sodowy i czesto srodki powierzchniowo-czynne. W czasie wywolywania zostaje w miejscach naswietlonych odkryte podloze metalowe, które w przypadku stosowania blach cynkowych i aluminiowych ma wlasnosci hydroillowe.Poniewaz pozostale nienaswietlone elementy warstwy dwuazochinonowej posiadaja wlasciwosci oleofilo- we, otrzymuje sie forme drukowa z oleofilowymi dwuazochinonowymi elementami drukujacymi oraz hydrofilo- wymi metalowymi elementami niedrukujacymi.W przypadku stosowania warstw dwuazochinonowych na blachach aluminiowo-miedziowych po procesie wywolania rozpuszcza sie miedz w elementach wywolanych, odslaniajac hydrofilowa powierzchnie aluminium.Dotychczas stosowane wywolywaczer zawieraja wodorotlenek sodu oraz srodek powierzchniowo czynny.Na przyklad wedlug polskiego opisu patentowego nr 83619 wywolywacz zawiera w 1 litrze wody 9 g wodoro¬ tlenku sodowegoi 4-7 g proszku ixi. Wodorotlenek sodowy wprawdzie dobrze rozpuszcza elementy naswietlone, ale równoczesnie reaguje z powierzchnia aluminium, tworzac produkty oleofilowe, a wiec w czasie wywolywania przez zwiekszenie oleofilowosci zmniejsza sie hydrofilowosc blach aluminiowych i cynkowych. Ponadto wodoro¬ tlenek sodowy reaguje z nowolakiem, znajdujacym sie w nienaswietlonych elementach warstwy kopiowej, przy czym w zaleznosci od czasu oddzialywania i od stezenia wodorotlenku sodowego nastepuje czesciowy rozklad warstwy dwuazochinonowej, przez co znacznie zmniejsza sie wysokosc nakladu, uzyskanego z gotowej formy drukowej.Inny znany wywolywacz wedlug polskiego opisu patentowego nr 95558 zawiera równiez wodorotlenek2 107755 metalu alkalicznego, ortofosforan trójsodowy, metakrzemian sodowy lub sodowe szklo wodne oraz srodek powierzchniowo-czynny. Wywolywacz ten pozwala uzyskac znacznie wieksze naklady niz w przypadku wywo¬ lywacza, zawierajacego tylko wodorotlenek sodowy i srodek powierzchniowo-czynny oraz zapewnia wysoka zgodnosc kopiowania. Jednakze wada tego wywolywacza jest oddzialywanie wodorotlenku metalu alkalicznego na powierzchnie aluminium, zwlaszcza pizy dluzszym czasie wywolywania. Okazalo sie, ze powyzsza wade mozna usunac przez wyeliminowanie wodorotlenków metali alkalicznych lub metali ziem alkalicznych ze skladu roztworów wywolujacych.Wywolywacz wedlug wynalazku zawiera w 1 litrze wody metakrzemian sodowy w ilosci 2—15% wago¬ wych, ortofosforan dwu- iAub trójsodowy w ilosci 0,1—5% wagowych, srodek powieizchniowo-czynny w ilosci 0 S-3% wagowych, sól dwu-, trój- lub czterosodowa kwasu etylenodwuaminoczterooctowego w ilosci 0,05—5% wagowych lub szesciometafosforan sodowy w ilosci 0,05—5% wagowych oraz wodna emulsje polisiloksanu w ilosci 0,01—3% wagowych. Obecnosc metakrzemianu sodowego nadaje roztworowi wlasciwa alkalicznosc, ortofosforany sodowe zapewniaja odpowiednia trwalosc roztworów wywolujacych. Sole sodowe kwasu etyleno¬ dwuaminoczterooctowego lub szesciometafosforan sodowy sa zwiazkami kompleksujacymi jony metali, obec¬ nych w wodzie wodociagowej (szczególnie jony Fe ), których ujemny wplyw na hydrofilowosc plyt offseto¬ wych jest duzy. Obecnosc srodka powierzchniowo czynnego zapewnia wlasciwe zwilzanie powierzchni wywoly¬ wanej plyty offsetowej, zas wodna emulsja polisiloksanu, posiadajaca wlasciwosci antypienne, zapobiega powsta¬ waniu piany w czasie procesu wywolywania, co ma istotne znaczenie dla podwyzszenia trwalosci (obniza rozwi¬ niecie powierzchni styku z C02, zawartym w powietrzu).Przedmiot wynalazku ilustruje ponizszy przyklad.Przyklad. Do obróbki offsetowych plyt presensybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa na blachach aluminiowych zastosowano wywolywacz o skladzie: Na3P04 Na2Si03 Na3EDTA rokafenol N8 emulsja antypienna woda 5g 70 g Ig 0,5 g 0,5 g do 1000g Zastrzezenie patentowe Wywolywacz do obróbki offsetowych plyt presensybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa, zawierajacy fosforan dwu- i/lub trójsodowy, metakrzemian sodowy i srodek powierzchniowo czynny, zna¬ mienny tym, ze wl litrze wody zawiera metakrzemian sodowy w ilosci 2-15% wagowych, ortofosforan dwu- i/lub trójsodowy w ilosci 0,1-5% wagowych, srodek powierzchniowo-czynny w ilosci 0,05-3% wagowych, sól dwu-, trój- lub czterosodowa kwasu etylenodwuaminoczterooctowego w ilosci 0,05-5% wagowych lub szesciometafosforan sodowy w ilosci 0,05-5% wagowych oraz wodna emulsje polisiloksanu w ilosci 0,01-3% wagowych.Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl PL

Claims (2)

  1. Zastrzezenie patentowe 1. Wywolywacz do obróbki offsetowych plyt presensybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa, zawierajacy fosforan dwu- i/lub trójsodowy, metakrzemian sodowy i srodek powierzchniowo czynny, zna¬ mienny tym, ze wl litrze wody zawiera metakrzemian sodowy w ilosci
  2. 2. -15% wagowych, ortofosforan dwu- i/lub trójsodowy w ilosci 0,1-5% wagowych, srodek powierzchniowo-czynny w ilosci 0,05-3% wagowych, sól dwu-, trój- lub czterosodowa kwasu etylenodwuaminoczterooctowego w ilosci 0,05-5% wagowych lub szesciometafosforan sodowy w ilosci 0,05-5% wagowych oraz wodna emulsje polisiloksanu w ilosci 0,01-3% wagowych. Prac. Poligraf. UP PRL naklad 120+18 Cena 45 zl PL
PL20642778A 1978-04-27 1978-04-27 Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa PL107755B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20642778A PL107755B1 (pl) 1978-04-27 1978-04-27 Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL20642778A PL107755B1 (pl) 1978-04-27 1978-04-27 Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL206427A1 PL206427A1 (pl) 1979-02-26
PL107755B1 true PL107755B1 (pl) 1980-03-31

Family

ID=19988958

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL20642778A PL107755B1 (pl) 1978-04-27 1978-04-27 Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL107755B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL206427A1 (pl) 1979-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1188144A (en) Development of a light sensitive material containing diazo resin using an alkaline developer including water-softening agent
US4259434A (en) Method for developing positive acting light-sensitive planographic printing plate
US4945030A (en) Method for developing lithographic plates comprising a developer comprising ethylene oxide/propylene oxide block copolymers
JPH0322621B2 (pl)
JPH0431105B2 (pl)
JPH0470756A (ja) 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液
CA1189376A (en) Developer for positive photolithographic articles including sodium silicate and sodium chloride
JPH0141974B2 (pl)
US3625908A (en) Composition for cleaning photographic equipment
JPH0414783B2 (pl)
JPH0258618B2 (pl)
PL107755B1 (pl) Wywolywacz do obrobki offsetowych plyt presynsybilizowanych warstwa kopiowa dwuazochinonowa
US2739883A (en) Process of etching aluminum
JPS63134292A (ja) オフセツト印刷板用プレート、シートまたはウエブー形支持体材料および支持体材料の製法
JPS5859444A (ja) 露光されたポジチブ作用を有する感光複写層用水性アルカリ性現像液
JPS6339895B2 (pl)
JPH0428296B2 (pl)
JPS57192300A (en) Electrolytic etching method of aluminum sheet for printing plate
US5278030A (en) Developer solution comprising ethyl hexyl sulphate, a surfactant, an alkaline material and having a pH of not less than 12
PL95558B1 (pl) Wywolywacz do obrobki offsetowych warstw kopi ochinonowych
JPH0371135A (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
US3089770A (en) Process for making planographic printing forms using a light sensitive gelatin reception layer
JPS62131263A (ja) 感光性平版印刷版の現像液組成物及び現像方法
JPS60130741A (ja) 感光性平版印刷版用現像剤
JPS5967375A (ja) カレンダ−処理液用防食剤