PL165991B1 - Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urzadzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami PL - Google Patents

Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urzadzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami PL

Info

Publication number
PL165991B1
PL165991B1 PL90285688A PL28568890A PL165991B1 PL 165991 B1 PL165991 B1 PL 165991B1 PL 90285688 A PL90285688 A PL 90285688A PL 28568890 A PL28568890 A PL 28568890A PL 165991 B1 PL165991 B1 PL 165991B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
ozone
liquid
containing gas
degassing
reaction
Prior art date
Application number
PL90285688A
Other languages
English (en)
Other versions
PL285688A1 (en
Inventor
Ortwin Leitzke
Original Assignee
Wedeco Umwelttechnologie Wasser Boden Luft Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6382986&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=PL165991(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Wedeco Umwelttechnologie Wasser Boden Luft Gmbh filed Critical Wedeco Umwelttechnologie Wasser Boden Luft Gmbh
Publication of PL285688A1 publication Critical patent/PL285688A1/xx
Publication of PL165991B1 publication Critical patent/PL165991B1/pl

Links

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
    • A61L2/02Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using physical processes
    • A61L2/08Radiation
    • A61L2/10Ultraviolet [UV] radiation
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
    • A61L2/16Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20Gaseous substances, e.g. vapours
    • A61L2/202Ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/78Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/78Details relating to ozone treatment devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S261/00Gas and liquid contact apparatus
    • Y10S261/42Ozonizers

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Fertilizers (AREA)
  • Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)

Abstract

1. Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych substancjami szkodliwymi przez utlenianie na mokro gazem zawierajacym ozon oraz naswietlanie nadfioletem, znamienny tym, ze gaz zawierajacy ozon wprowadza sie do cieczy w czesci urzadzenia nie wystawionej na dzialanie naswietlania nadfiole- tem, przy czym nie rozpuszczony gaz nosny dla ozonu oddziela sie przed naswietlaniem nadfiole- tem, a nastepnie zasadniczo wolna od pecherzyków gazu ciecz, zawierajaca ozon w postaci zaabsorbo- wanej, naswietla sie swiatlem nadfioletowym. 15. Urzadzenie do obróbki cieczy zanieczy- szczonych szkodliwymi substancjami wyposazone w zródlo gazu zawierajacego ozon, w zespól do wprowadzania gazu zawierajacego ozon do cieczy poddawanej obróbce i w zespól do naswietlania swiatlem nadfioletowym cieczy poddawanej obróbce, znamienne tym, ze jednostka naswietlajaca (40, 50, 80, 90) jest wlaczona za zespolem do wprowadzania gazu zawierajacego ozon, a miedzy nimi obyd- woma jest umieszczony zespól zbiorników reakcyjno- odgazowujacych (20, 30, 60, 70, 85). F IG . 1 PL

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urządzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonej szkodliwymi substancjami.
Wynalazek dotyczy przede wszystkim sposobu obróbki cieczy zanieczyszczonych substancjami szkodliwymi, które trudno ulegają utlenianiu. Do grupy takich substancji należą przykładowo chlorowęglowodory, spośród których wiele nie ulega rozkładowi biologicznemu, a niektóre są nawet toksyczne dla organizmów żywych.
Substancjami tymi mogą być nasycone lub nienasycone, alifatyczne albo aromatyczne węglowodory, w których niektóre atomy wodoru są zastąpione atomami chlorowców. Mogą to być niskocząsteczkowe substancje, na przykład trójchloroetylen stosowany jako rozpuszczalnik lub wysokocząsteczkowe ligniny albo kwasy humusowe. Wśród nich są związki, które reagują powoli lub nie reagują wcale z ozonem, będącym jednym z najsilniejszych środków utleniających.
Te trudno rozkładalne związki, które w tej postaci nie mogą krążyć w naturalnym obiegu ekologicznym pierwiastków i substancji na naszej ziemi, są syntetyzowane sztucznie, na drodze
165 991 chemicznej i służą jako substancje robocze środki chłodzące, rozpuszczalniki, pestycydy i herbicydy lub tworzą się jako produkty uboczne podczas różnych procesów przemysłowych, jak np. chloroligniny powstające w procesie bielenia chlorem. Przesiąkają one z hałd odpaków do wód gruntowych i rzek oraz zatruwają je. Istnieje konieczność poszukiwania dróg odtruwania tych substancji.
Jak wiadomo światło nadfioletowe jest absorbowane przez niektóre związki chemiczne między atomami w pewnych cząsteczkch substancji organicznych, a więc powoduje rozluźnianie struktury tych związków, tak że mogą one być utlenione za pomocą pewnych rodników, to znaczy rozkładane. Takimi utleniaczami dla wzbudzonych energetycznie związków mogą być rodniki OH. Rodniki OH mogą być wytwarzane przez naświetlanie nadfioletem roztworów wodnych nadtlenku wodoru (H 2O2) lub ozonu (O 2). Związki wyjściowe H 2O2 i O3 także absorbują światło nadfioletowe i odszczepiają atomy tlenu, które reagują z wodą wytwarzając rodniki OH.
Reakcje rodnikowe przebiegające w wyniku działania H2O2 oraz nadfioletu na związki organiczne są znane w dziedzinie uzdatniania wody i również zostały opisane w publikacji: B. Gabel, B. Stachel i W. Thiemann, Fachliche Berichte, HWW2 str. 37-42, 1982, „Moglichkeiten der technischen Anwendung einer Kombination von Ultraviolett-Biestrahlung und H2O2 - Begandlung zur Desinfektion von Trinkwasser und Oxidation von Inhaltsstoffen“ (Możliwości zastosowania technicznego kombinacji naświetlania nadfioletu i obróbki za pomocą H 2O2 do odkażania wody pitnej i utleniania zawartych w niej substancji).
Opisano także w następujących publikacjach: kombinowane metody naświetlania nadfioletu i działania ozonem D. B. Fletcher, Water World News, Vol. 3, No. 3 1987 „UV/ ozone process treat toxics“ oraz K. Brooks, R. Mc Ginty, chemicalweek, Mc. Graw-Hill Publication, „Groundwater Treatment know-how comes of age, a także J. D. Zeff., E. Leits, J. Barich, Ca., USA, Ozone in Water Treatment, Vol. 1, Proceedings, 9th Ozone World Congress, New York, 1989, „UVOxidation Case Studies in the Removal of Texic Organic Compounds in Ground, Waste and Leachate Waters (str. 720-731).
Według opisanej w tych publikacjach metody Ultrox (Ultrox = zarejestrowany znak towarowy firmy Ultrox International, Santa Ana, Ca, USA) stosuje się system kontaktowy nadfiolet/utleniacz dla ciągłego lub nieciągłego strumienia cieczy. Promienniki nadfioletu są zainstalowane pionowo w różnych ilościach w szeregu komór ustawionych obok siebie. Przez komory te przepływa lub stoi w nich nieruchomo woda i otacza lampy zabezpieczone kwarcowymi rurami ochronnymi. Ozon i inne utleniacze doprowadza się do komór przez dyfuzory stalowe.
Według metody APO (APO = zarejestrowany znak handlowy firmy Jonization International, Dordrecht, Niederlande) [J. A. Moser, M. Sc., Ozone i Water Treatment, Vol. 1, Proceedings, 9th Ozone World Congress, New York, 1989, str. 732-742, „The Treatment of Chlorinated Hydrocarbons at a High Concentration Level with a Photochemical Process“ produkuje się ozon za pomocą światła nadfioletowego o małej długości fali i działa nim na chlorowęglowodory znajdujące się w fazie wodnej lub gazowej.
W kombinowanej metodzie H 2O 2 - nadfioletowej problem stanowi to, że nie daje się w niej osiągnąć tak wysokiego potencjału utleniającego, jaki jest możliwy w przypadku stosowania kombinacji O3 - nadfioletowej.
W znanych obecnie kombinowanych metodach O3- nadfioletowych używa się zanurzalne promienniki nadfioletu, jak na przykład w metodzie Ultrox. Według tych metod w komorach do naświetlania stosuje się warstwy wody o dużych grubościach, przez które światło przenika trudniej niż przez cienkie warstwy wody w promiennikach przepływowych. Ponadto do komór tych wprowadza się bezpośrednio ozon z gazem nośnym, przy czym roztwór ozonu w wodzie nie jest optymalny a pęcherzyki nie rozpuszczonego fizycznie gazu również wpływają ujemnie na wykorzystanie promieni nadfioletowych.
W metodach wytwarzających ozon za pomocą promieniowania nadfioletowego, jak np. w metodzie APO, lub na drodze elektronicznego utleniania anodowego, otrzymuje się ozon tylko o małym stężeniu, co odbija się niekorzystnie na zdolności utleniania.
Celem wynalazku jest zwiększenie skuteczności kombinowanej obróbki nadfioletowoozonowej, a także opracowanie urządzenia do takiej metody.
165 991
Cel ten został według wynalazku osiągnięty w ten sposób, że gaz zawierający ozon wprowadza się do cieczy i rozpuszcza w niej w części urządzenia nie wystawionej na działanie naświetlania nadfioletem, że nie rozpuszczony gaz nośny ozonu oddziela się przed naświetlaniem nadfioletem, i że następnie zasadniczo wolną od pęcherzyków gazu ciecz, zawierającą ozon w postaci zaabsorbowanej, naświetla się światłem nadfioletowym w celu równoczesnego tworzenia rodników i utleniania rodnikami podczas przepływu przez aparat wytwarzający światło nadfioletowe.
Osiągnięto dzięki temu tyle, że naświetlaniu nadfioletem poddaje się ciecz praktycznie wolną od pęcherzyków i zawierającą rozpuszczony fizycznie ozon, wskutek czego działanie naświetlania ulega znacznej intensyfikacji.
Korzystnie gaz zawierający ozon wprowadza się do cieczy pod zwiększonym ciśnieniem.
Korzystnie pod wyższa się także ciśnienie całkowite w układzie, zwiększając w ten sposób ciśnienie cząsteczkowe ozonu w cieczy jak również rozpuszczalność ozonu, co wywiera korzystny wpływ na skuteczność oddziaływania ozonu.
Korzystnie ciecz poddaje się wielokrotnej obróbce w obiegu zamkniętym.
Korzystnie strumień cieczy krążący w obiegu zamkniętym jest większy od strumienia cieczy dopływającej i odpływającej w sposób ciągły. Osiąga się przez to możliwie jak najpełniejsze wykorzystanie ozonu i lepszą przepuszczalność promieniowania nadfioletowego wskutek działania efektu rozcieńczenia. Ponadto ma miejsce wielokrotne działanie światłem nadfioletowym w jednym i tym samym urządzeniu i przedłużenie czasu przebywania w strefie naświetlania.
Korzystnie gaz zawierający ozon wprowadza się do dopływu cieczy poddawanej obróbce lub do części tego dopływu.
W celu zwiększenia wydajności wprowadzania ozonu do roztworu zaleca się, aby oddzielony gaz nośny ozonu zawierający resztki ozonu poddawać ponownie reakcji z cieczą.
Gdy do wytwarzania ozonu stosuje się tlen techniczny a więc gazem nośnym ozonu jest tlen, to ten tlen po oddzieleniu ozonu można zawrócić poprzez instalację suszącą do źródła ozonu lub do wytwarzania ozonu.
Korzystny przykład wykonania wynalazku polega na naświetlaniu światłem nadfioletowym o różnych długościach fali, które może oddziaływać równocześnie lub po kolei na określoną objętość cieczy. Długości fali mogą być przy tym nieciągłe, np. najczęściej stosowana długość fali 254 nm i inne określone wartości, lub także mogą obejmować ciągłe pasmo długości, samo lub w dowolnych kombinacjach.
Przez różnicowanie długości fali można dopasowywać ilość doprowadzanej energii do różnych reakcji zachodzących z substancjami szkodliwymi.
Korzystnie wartość pH poddawanej obróbce cieczy można regulować, aby zwiększyć reaktywność cieczy.
Odpowiednio jest także możliwe ogrzewanie poddawanej obróbce cieczy w celu zwiększenia szybkości reakcji.
Korzystnie po wprowadzeniu gazu zawierającego tlen i przed kombinowanym oddziaływaniem ozonu i nadfioletu usuwa się z cieczy kłaczkowatą zawiesinę przez filtrację lub przez sedymentację. Dzięki temu substancje reagujące tylko z ozonem, np. barwniki azowe, koloidy i zawiesiny niszczy się lub oddziela przed kombinowanym równoczesnym oddziaływaniem ozonu i nadfioletu, dzięki czemu wzrasta przezroczystość cieczy a tym samym jej przenikalność dla światła nadfioletowego oraz skuteczność jego działania.
Urządzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami według wynalazku charakteryzuje się tym, że jednostka naświetlająca jest włączona za zespołem do wprowadzania gazu zawierającego ozon, a między nimi obydwoma jest umieszczony zespół zbiorników reakcyjno-odgazowujących.
Zbiornik reakcyjny i odgazowujący, w którym zachodzi zarówno reakcja ozonu z substancjami szkodliwymi jak i wydzielanie oraz oddzielanie nie rozpuszczonych składników gazu zawierającego ozon jest wykonany korzystnie w ten sposób, że zespół zbiorników reakcyjnoodgazowujących obejmuje zbiorniki reakcyjno-odgazowujące, wykonane jako zbiorniki podwójne z dwoma umieszczonymi jeden w drugim zbiornikami spośród których zbiornik zewnętrzny jest
165 991 zamknięty aż do miejsca połączenia w części górnej zbiornika z rurociągiem wylotowym dla oddzielonego gazu nośnego ozonu a zbiornik wewnętrzny jest otwarty od góry i tworzy przelew, przy czym rurociąg dopływowy poddawanej obróbce cieczy prowadzi aż do części dolnej zbiornika wewnętrznego a rurociągi odpływowe odchodzą od części dolnej zbiornika zewnętrznego.
Ciecz wraz z wprowadzonym do niej gazem zawierającym ozon przesyła się tak, że mieszanina najpierw wpływa do zbiornika wewnętrznego, z którego może się ulatniać nie rozpuszczony fizycznie gaz, który odprowadza się rurociągiem odpływowym. Ciecz wprowadzana do dolnej części zbiornika wewnętrznego płynie w nim do góry, przelewa się do zbiornika zewnętrznego i odpływa z uspokojonej strefy w dolnej części zbiornika zewnętrznego.
Korzystnie rurociągi odpływowe są przewidziane zarówno dla cieczy przeznaczonej do odprowadzania ze zbiornika jak i dla cieczy przeznaczonej do krążenia w obiegu zamkniętym, którą rurociągiem zwrotnym doprowadza się do dopływu. Ten obieg zamknięty, który umożliwia wielokrotne poddawanie obróbce jednej i tej samej objętości cieczy, stanowi ważną cechę wykonania postaci wynalazku.
Korzystnie urządzenie według wynalazku ma kilka umieszczonych jeden za drugim zbiorników reakcyjno-odgazowujących, w celu intensyfikacji oddziaływania.
Korzystny w przykładzie wykonania zespół do naświetlania poddawanej obróbce cieczy obejmuje jednostkę naświetlającą włączoną między obydwoma zbiornikami reakcyjnoodgazowującymi.
Jednostka naświetlająca może być jednak umieszczona także na rurociągu odpływowym ostatniego zbiornika reakcyjno-odgazowującego i/lub na rurociągu zwrotnym prowadzącym od rurociągów odpływowych zbiorników reakcyjno-odgazowujących do dopływu.
W celu zwiększenia wydajności rozpuszczania ozonu w cieczy korzystnie rurociąg łączący prowadzi od rurociągu wylotowego dla oddzielonego gazu nośnikowego ozonu zawierającego ozon z pierwszego zbiornika reakcyjno-odgazowującego do części dolnej następnego zbiornika reakcyj no-odgazowywującego.
Gaz oddzielony w pierwszym zbiorniku reakcyjno-odgazowującym może jeszcze zawierać ozon, który można wykorzystać w drugim zbiorniku reakcyjno-odgazowującym.
Ozon można wprowadzać do cieczy za pomocą umieszczonego na dopływie cieczy zespołu wprowadzającego i/lub za pomocą umieszczonego na rurociągu zwrotnym zespołu wprowadzającego.
W celu intensyfikacji oddziaływania nadfioletu zaleca się takie wykonanie konstrukcyjne jednostek naświetlania nadfioletem aby następowało poprzeczne prześwietlanie cienkiej warstwy przepływającej cieczy.
Jako wytwornicę ozonu stosuje się wytwornice pracujące przy wykorzystaniu cichych wyładowań elektrycznych, ze względu na ich duże wydajności.
Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przykładzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 do 3 przedstawiają schematy trzech urządzeń do obróbki cieczy zanieczyszczonych substancjami szkodliwymi.
Urządzenie 100 pokazane jest na fig. 1 i obejmuje zasadniczo wytwornicę 10 ozonu, pierwszy zbiornik reakcyjno-odgazowujący 20, drugi zbiornik reakcyjno-odgazowujący 30, jednostkę naświetlającą 40 nadfioletowo i drugą jednostkę naświetlającą 50 nadfioletem. Surową wodę, stanowiącą ciecz poddawaną obróbce, wprowadza się do urządzenia przez dopływ 1 i podnosi pompą 2 jej ciśnienie do kilku barów.
W tym przykładzie wykonania ozon otrzymuje się z tlenu. Gazowy tlen pobiera się ze zbiornika ciśnieniowego 3 i przesyła go przez reduktor ciśnienia 4 a następnie przez wytwornicę 10 ozonu, w której wytwarza się ozon o stężeniu około 100 g/m3 tlenu. Gaz odlotowy składający się z O 3 i O 2 doprowadza się rurociągiem 5 do iniektora 6, który jest umieszczony na dopływie 1 cieczy. Gaz zawierający ozon, który znajduje się pod nieco zwiększonym ciśnieniem, zostaje w iniektorze 6 zassany przez ciecz będącą pod zwiększonym ciśnieniem.
Gaz zawierający tlen dopływa przez rurociąg odgałęźny 7 także do iniektora 8, który jest umieszczony na rurociągu zwrotnym 9, łączącym się w miejscu 11 z dopływem 1, za iniektorem 6.
165 991 7
Ciecz zmieszana w iniektorach 6 i 8 z gazem zawierającym tlen płynie rurociągiem dopływowym 12 do zbiornika reakcyjno-odgazowującego 20.
Zbiornik reakcyjno-odgazowujący 20 składa się w niniejszym przykładzie wykonania z cylindrycznego zbiornika zewnętrznego 13 i umieszczonego w nim koncentrycznie zbiornika wewnętrznego 14. Zbiornik wewnętrzny 14 jest połączony szczelnie swoją dolną krawędzią w miejscu 15 z dnem zbiornika zewnętrznego 13. Zbiornik wewnętrzny 13 jest otwarty od strony górnej krawędzi, która tworzy przelew. Rurociąg dopływowy 12 prowadzi do części dolnej 17 zbiornika wewnętrznego 14, zawierającego wypełnienie zaznaczone kreskowaniem krzyżowym 18. Ciecz płynie więc w kierunku strzałki 19 wewnątrz zbiornika 14 do góry zmieniając wielokrotnie turbulentnie kierunki przepływu, tak że wprowadzony do cieczy ozon ma możliwość reagowania, a gaz zmieszany tylko z cieczą, ale nie rozpuszczony w niej fizycznie, ma okazję do wydzielania się z cieczy i dopływania do przestrzeni 21, powyżej zbiornika wewnętrznego. Ciecz spływa następnie przez górną krawędź 16 w kierunku strzałki 22 na dół do zbiornika zewnętrznego. W części dolnej 23 zbiornika zewnętrznego znajduje się strefa uspokojenia, w które reakcja ozonowania i odgazowywania są już w znacznej części zakończone. W części dolnej 23 znajdują się na zbiorniku zewnętrznym 13 rurociągi odpływowe 24, przez które ciecz płynie do jednostki naświetlającej 40 nadfioletem, oraz 25, przez które ciecz płynie do rurociągu 26, na którym jest zainstalowana pompa 27, nadająca ponownie ciśnienie. Z pompy 27 płynie ciecz przez jednostkę naświetlającą 50 nadfioletem i przez rurociąg zwrotny 9 do iniektora 8. Ciecz, która przepływa przez jednostkę naświetlającą 40 nadfioletem, dostaje się przez rurociąg dopływowy 28 do części dolnej 29 drugiego zbiornika reakcyjno-odgazowującego 30, który w niniejszym przykładzie wykonania jest taki sam jak zbiornik reakcyjno-odgazowujący 20. Ciecz wznosi się do góry w zbiorniku wewnętrznym zbiornika reakcyjno-odgazowującego 30, przy czym w tym czasie zachodzi reakcja z pozostałą ilością ozonu rozpuszczonego w cieczy. Po przelaniu się przez górną krawędź zbiornika wewnętrznego 14, ostatecznie obrobiona ciecz spływa do odprowadzenia 31. Inna część cieczy przelewającej się w kierunku strzałki 22 odpływa rurociągiem 35 do rurociągu i trafia ponownie do iniektora 8.
Oddzielony podczas odgazowania cieczy w zbiorniku reakcyjno-odgazowującym 20 gaz nośny ozonu zawierający resztki ozonu zbiera się w części górnej 21 zamkniętego zbiornika zewnętrznego 13 i jest stamtąd odciągany przez rurociąg wylotowy 32. Gaz ten może być odprowadzany ruruciągiem 33 do atmosfery lub kierowany rurociągiem 34 do części dolnej 29 drugiego zbiornika reakcyjno-odgazowującego 30, gdzie unosi się on w cieczy w zbiorniku wewnętrznym 14, tak że resztki ozonu mają ponownie okazję do wejścia w reakcję.
Zbierający się w części górnej 36 gaz nośny, który w niniejszym przykładzie wykonania składa się z tlenu, może być przez rurociąg 37 i suszarkę 38 gazu zawrócony do wytwornicy 10 ozonu. W charakterze gazów nośnikowych zamiast tlenu mogą służyć także inne gazy, jak powietrze, azot lub argon.
W przykładzie wykonania urządzenia 200 i 300 (fig. 2 i 3) odpowiadające sobie funkcjonalnie składniki mają te same oznaczenia.
Do urządzenia 200 (fig. 2) wprowadza się wodę surową dopływem 1, podnosi jej ciśnienie pompą 2 do ciśnienia panującego w układzie i rozdziela jej strumień za pompą 2 na dwie części. Oddzielony strumień odgałęźny w rurociągu 39 sprzęża się pompą sprężającą 41 do wyższego ciśnienia i rurociągiem 42 doprowadza go do zbiornika reakcyjno-odgazowującego 60, którego konstrukcja i sposób działania zasadniczo odpowiada konstrukcji i sposobowi działania zbiornika reakcyjno-odgazowującego 20. Ciecz z części dolnej zbiornika zewnętrznego 13 w zbiorniku reakcyjno-odgazowującym 60 doprowadza się rurociągiem 43 ponownie do głównego strumienia cieczy i miesza z nim w rurociągu 44, będącym rurociągiem dopływowym do drugiego zbiornika reakcyjno-odgazowującego 70, którego konstrukcja i sposób działania także odpowiada konstrukcji i sposobowi działania zbiornika reakcyjno-odgazowującego 20. Ciecz po reakcji z ozonem dociera z części dolnej 23 zbiornika zewnętrznego 13 do odprowadzenia 31, przy czym na rurociągu dopływowym 45 do odprowadzenia 31 jest umieszczona jednostka naświetlająca 80 nadfioletem, w której ciecz poddaje się końcowemu naświetlaniu nadfioletem.
Z części dolnej 23 drugi rurociąg 47 prowadzi poprzez pompę 48 i rurociąg 50 do drugiej jednostki naświetlającej 90 nadfioletem, z której ciecz zawraca się do strumienia głównego w
165 991 rurociągu 44. Ciecz z rozpuszczonym w niej ozonem przepompowywuje się wielokrotnie w obiegu zamkniętym poprzez rurociągi 47 i 44 i przy tym wielokrotnie poddaje się naświetlaniu nadfioletem w jednostce naświetlającej 90.
Gaz nośny ozonu zbierający się w częściach górnych 49 i 51 zbiorników odprowadza się rurociągiem 62, 64 i 53 do atmosfery po przejściu go przez aparat 54 do przekształcania resztek ozonu.
Do urządzenia 300 (fig. 3) wprowadza się ciecz poddawaną obróbce, będącą ściekiem, przez rurociąg 1 i podnosi jej ciśnienie pompą 2. Przepływa ona przez zbiornik reakcyjny 85 a potem przez jednostkę naświetalającą 40 nadfioletem. Następnie podnosi się ponownie ciśnienie cieczy drugą pompą 52 i przesyła ją do iniektora 56, gdzie miesza się ją z gazem zawierającym ozon, doprowadzanym rurociągiem 57. Ciecz zmieszana z ozonem płynie do zbiornika odgazowującego 60, gdzie oddziela się nie rozpuszczoną w cieczy część gazu zawierającą resztki ozonu, którą odciąga się przez rurociąg 53. Ciecz zawierającą rozpuszczony ozon doprowadza się rurociągiem 56 do punktu 58, gdzie miesza się ją z doprowadzaną wodą surową. Reakcja ozonowania rozpoczyna się w zbiorniku reakcyjnym 85, który stosuje się wówczas, gdy wymagany jest duży udział reakcji jonowej w obróbce danej wody surowej.
W pewnych przypadkach można jednak także zrezygnować ze zbiornika reakcyjnego 85 i z punktu 58 kierować ciecz rurociągiem 64, zaznaczonym linią kreska-kropka, do punktu 65 za zbiornikiem reakcyjnym 85, a stamtąd bezpośrednio do jednostki naświetlającej 40 nadfioletem. Po domieszaniu ozonu w iniektorze 56 poddaje się ciecz odgazowywaniu w zbiorniku 60 a odgazowaną ciecz, zawierającą ozon tylko w postaci rozpuszczonej, kieruje przez rurociągi 56 i 64 ponownie do jednostki naświetlającej 40 nadfioletem. Ciecz zaopatrzona w ozon przepływa więc wielokrotnie przez jednostkę naświetlającą 40 nadfioletem w postaci odgazowywanej, co zwiększa skuteczność naświetlania.
Ozon otrzymuje się z tlenu, który magazynuje się w zbiorniku ciśnieniowym 3 i kieruje przez filtr do wytwornicy 10 ozonu. Produkt wytwornicy 10 stanowi mieszaninę tlenu O 2 jako gazu nośnego i kilku procentów O 3. Mieszaninę tę doprowadza się rurociągiem 57 do iniektora 56.
Nierozpuszczony gaz zawierający resztki ozonu odprowadzany ze zbiornika odgazowującego 60 przez rurociąg 53 poddaje się obróbce w aparacie 54 do przekształcania resztek ozonu, w którym ozon przekształca się w O 2 a zregenerowany w ten sposób gaz składający się z tlenu zawraca przez filtr 66, oznaczoną jako całość przez 38 suszarkę gazu i rurociąg 55 do miejsca 67 przed filtrem 51 i ponownie poddaje ozonizacji w wytwornicy 10 ozonu.
W urządzeniu można utrzymywać stałą ilość znajdującej się w nim cieczy za pomocą regulatora 59 poziomu, który współpracuje z czujnikiem 62 poziomu w zbiorniku odgazowującym 60 i poprzez rurociąg sterujący 63 steruje zaworem 61, który w przypadku podnoszenia się poziomu cieczy w zbiorniku 60 upuszcza odpowiednią jej ilość.
Jednostki naświetlające 40, 50, 80, 90 mają taką konstrukcję, że ciecz przepływa przez nie stosunkowo cienką warstwą i osłabienie światła nadfioletowego przenikającego poprzecznie tę warstwę jest małe.
W urządzeniach tych osiąga się prawidłowe wyniki obróbki wynikające ze specjalnego kombinowanego działania ozonu i naświetlania nadfioletem dzięki temu, że
- gaz o dużym stężeniu wprowadza się do cieczy pod ciśnieniem za pomocą pomp podwyższających ciśnienie wody i iniektorów,
- rozpuszczalność gazu zwiększa się nie tylko przez zwiększenie ciśnienia cząsteczkowego ozonu (duże stężenie ozonu i duże ciśnienie wody w układzie), lecz także przez zwiększenie objętości wody dla wprowadzania ozonu w stosunku do ilości dopływającej wody surowej w wyniku wielokrotnego krążenia wody w obiegu zamkniętym i przez umieszczenie szykan w zbiornikach odgazowującym i reakcyjnym,
- przez obydwa wymienione poprzednio punkty doprowadza się do jednostek naświetlania nadfioletem wod, zawierającą rozpuszczony już w niej fizycznie ozon,
- przez zwielokrotnienie obiegu zamkniętego wody poddawanej naświetlaniu w stosunku do stężonego mniejszego strumienia wody suurowej osiąga się rozcieńczenie i polepszenie przepuszczalności światła nadfioletowego,
165 991
- wskutek zastosowania przepływowych aparatów naświetlających nadfioletem z dodatnią geometrią naświetlania i cienką warstwą przepływającej cieczy lub wody osiąga się dobre działanie światła nadfioletowego na substancje zawarte w cieczy i na rozpuszczony ozon,
- przez zastosowanie obiegu zamkniętego dla cieczy możliwe jest wielokrotne dozowanie światła nadfioletowego w jednym aparacie i przedłużenie czasu przebywania w strefie naświetlania,
- przez wprowadzanie ozonu przed zbiornikiem odgazowującym i rozpoczynanie reakcji ozonu z substancjami zdolnymi tylko do takiej reakcji, np. z barwnikami i zawiesinami na drodze do miejsca stosowania kombinowanego równoczesnego działania ozonu i nadfioletu wzrasta przezroczystość cieczy a tym samym i przepuszczalność światła nadfioletowego oraz kombinowane działanie ozonu i nadfioletu.
Ogólnie biorąc przez zastosowanie kombinowanego działania ozonu i nadfioletu utlenia się w tak znacznym stopniu substancje trudnorozkładalne, które częściowo są nawet toksyczne, że nie tylko osiąga się żądane wartości graniczne lecz substancje te mogą być dalej rozkładane na drodze biologicznej, lub nawet ulegają mineralizacji, gdy zastosuje się odpowiednio duże dawki.
Sposób według wynalazku ilustruje poniższy przykład.
Przykła d: Firma WEDECO przebadała w swoim laboratorium w Herford do końca sierpnia 1993 r. ponad 70 rodzajów ścieków z około 360 oficjalnych wysypisk śmieci komunalnych z terenu „starych landów RFN w urządzeniach pilotowych lub dużych w całym kraju na zdolność rozpadu CSB i AOX za pomocą ozonu i naświetlania światłem nadfioletowym. Przy czym CSB oznacza chemiczne zapotrzebowanie na tlen, zaś AOX - dające się adsorbować węglowodory. Zilustrowano to w tabeli 1 i 2. Okazało się przy tym, że:
1. Ze wzrostem podawania środków utleniających ozonu i światła nadfioletowego C może obniżyć się zawartość CSB poniżej 100 mg/l a zawartość AOX poniżej 100 μ^. Jest to jedynie problem finansowania.
2. Krzywa obniżania się AOX przebiega przy takim samym wkładzie środków utleniających ozonu i światła ultrafioletowego i takich samych warunkach badań w sposób bardziej stromy niż krzywa dla CSB. Założeniem jest stabilny zakres wartości pH>7.
3. Obecność związków amonowych w wodzie infiltracyjnej podwyższa znacznie niezbędną ilość ozonu do zmniejszenia ilości CSB i AOX.
Występuje to zawsze w nie poddawanej obróbce biologicznej wodzie infiltracyjnej i niezależnie od biologii bez ich wystarczającej nitryfikacji - patrz wyniki z wysypiska Hunxe (tabela 2).
4. Jeśli po biologicznej nitryfikacji i dentryfikacji stężenie jonów amonowych jest mniejsze od 10 mg/l i poddana wstępnej obróbce woda ma pojemność buforową wyższą od wystarczającej, to ilość ozonu potrzebna do osiągnięcia stężenia wejściowego CSB = 1500 mg/l, aby osiągnąć wartość CSB<200mg/l, wynosi maksymalnie trzykrotność wartości wejściowej CSB. Dla mniejszych stężeń wejściowych CSB potrzebne są do utleniania także mniejsze ilości ozonu (patrz tabela 3). Punkt przecięcia linii pionowej przechodzącej przez wartość wejściową CSB z linią poziomą odpowiadającą godzinowemu przepływowi wody surowej daje odpowiednią ilość ozonu w procesie utleniania.
5. W procesie typu WEDECO naświetlanie nadfioletem prowadzi się po etapie ozonowania dla uzyskania rodników za pomocą resztkowego stężenia ozonu i dla zminimalizowania ilości występujących jeszcze w wodzie trudniej się utleniających cząsteczek. Takie foto-utlenianie daje jeszcze raz poprawę zdolności rozpadu AOX o co najmniej 10%.
6. Jeśli osiągnie się tym sposobem spadek wartości wyjściowej CSB z 75 mg/l to wartość biologicznego zapotrzebowania na tlen B SB5 wynosi około 20 mg/l i dalsza obróbka biologiczna po mokrym chemicznym utlenianiu nie jest już konieczna - patrz wyniki dotyczące wysypiska Peine (tabela 2).
Uzyskane w laboratorium wyniki zostały potwierdzone w próbkach polowych w urządzeniach na 15 różnych wysypiskach.
W międzyczasie do końca września 1993 r. przebiegały badania na urządzeniach do mokrego utleniania CSB i AOX za pomocą ozonu i metody kombinowanej ozon/nadfiolet na następujących wysypiskach:
- Bastwald, od 04/89 do 04/92, 1,5 kg/h 03,
165 991
- Bastwald, od 04/92, 6 kg/h 03,
- Hunxe, 6 kg/03 od lipca 1993, 12 kg/h 03,
- Wesendorf, 6 kg/h 03, od lipca 1993, 12 kg/h 03,
- Peine, 8 kg/h 03,
- Eggenfelden, 6 kg/h 03,
- Alt Duvenstedt, 6 kg/h 03,
- Ecklack, 12 kg/h 03
- Braunschweig, 3X12 kg/h 03 = 36 kg/h 03,
- Deggendorf, 2X8 kg/h 03 = 16 kg/h 03,
- Singhofen, 10 kg/h 03,
- Sachsenhagen, 6 kg/h 03.
Urządzenia rozstawione zostały w sposób kontenerowy i odznaczają się wysokim stopniem bezpieczeństwa i automatyzacji.
Także w trzecim etapie przy użyciu dużych urządzeń osiąga się wymagane wartości wyjściowe CSB i AOX - patrz tabela 2.
Tabela 1
Zmniejszenie ilości CSB i AOX za pomocą ozonu i nadfioletu
Nr laboratorium CSB (mg/l) AOX (ug/l) Wskaźnik przerobu _ Amo3/ACSB wej. wyj. wej. wyj.
1 2 3 4 5 6
90-B018 444 25 258 20 5,0
90-B049* 469 79 3500 970 5,1
90-B050* 859 353 560 520 4,3
90-B057* 1876 893 1690 510 1,5
90-B058 582 27 643 31 1,9
90-B106* 732 247 378 160 2,5
90-A211 556 217 575 349 2,2
90-A267* 1934 884 1900 430 1,6
90-A278* 1592 817 998 425 3,0
90-A317 580 42 3450 130 2,0
90-A325 392 15 1100 20 2,0
90-A338 895 70 1480 24 4,5
90-A354* 189 15 - 2,7
90-B002* 2995 585 1500 440 2,5
90-B003* 2410 388 630 50 2,5
90-B006 695 15 240 130 2,0
90-B007 678 15 260 80 2,2
90-B008 50 15 36 20 -
90-B009 1012 38 77 20 2,3
90-B010 742 15 1688 237 2,2
90-B011* 2692 550 6550 783 2,0
90-B016 691 66 550 118 2,0
90-B017 427 18 706 50 2,9
90-B022 535 15 3385 225 -
90-B027 349 19 - - 2,5
90-B034 877 26 36 20 2,9
90-B044* 1326 815 1459 758 2,2
91-B009* 773 23 984 121 4,7
91-B010 821 20 998 134 3,8
91-B012 542 15 633 206 3,3
91-B914* 1775 36 2929 247 1,8
91-B027* 1816 15 2322 189 1,6
91-B028* 1296 32 1551 201 -
91-B029 1100 50 2489 100 -
91-B034 648 15 1155 44 2,1
91-B039* 1480 15 755 110 3,1
91-B052 1022 74 1438 179 2,7
91-B053* 1620 80 1132 24 2,3
91-B068* 1088 15 2212 154 1,4
91-B073 408 15 557 53 2,6
165 991
1 2 3 4 5 6
91-B076I 556 15 755 23
91-B076II 2316 60 2698 118 2,0
91-B078 1442 48 1825 42 2,2
91-B098 1342 15 1812 185 3,5
91-B103 810 70 1346 120 2,8
92-B002 838 205 2067 391 3,6
92-B060* 1467 50 2185 155 1,5
92-B061*(1) 1320 134 905 54 1,8
92-B061*(2) 725 15 818 57 2,4
92-B066 1702 82 1793 16 4,5
92-B067* 879 63 558 332 3,1
92-B069 380 30 1880 75 8
93-B015 1570 260 1676 256 2,5
93-B030 480 39 511 <20 3,7
93-B031 1210 170 971 35 2,9
93-B032* 1230 70 -1100 206 2,2
93-B035* 1120 80 -800 <50 2,0
- bez wstępnej obróbki biologicznej
Tabela 2
Wyniki obróbki wód infiltracyjnych z wysypisk śmieci za pomocą metody kombinowanej
Urządzenie Data Ilość ozonu m03 g/h Woda surowa m3/h CSB wej. g/m3 CSB F mOt ACSB AOX wej. Ag/1 AOX NH. NH. BSB5 BSB5 TOC TOC
wyj. g/m3 . ACSB g/h
wyj. Ag/l wej. mg/l wyj. mg/l wej. wyj. wej. mg/fl wyj. mg/1
Bastwald 21.05.92 3375 3,00 432 83 1047 3,2 1388 139
03 06.92 2000 3,00 474 173 903 2,2 676 61
26.01.93 4175 6,00 482 187 1770 2,3 665 85 179 108
Wesendorf 25.06.92 5010 2,80 1029 208 2299 2,2 1285 311
07.09 93 11750 4,5 1320 175 5153 2,3 945 238
08.09.93 11700 4,6 950 121 3813 3,1 975 197
Hunxe 08.07.92 4570 2,50 735 205 1325 3,6 537 95 700 526
08.07 92 4600 3,50 795 245 1925 2,4 549 95 672 543
Peine 05.05.92 1200 2,50 335 85 625 1,9 425 72 <10 20
08.06.93 4080 5,00 649 108 2705 1,5 765 58 2,30 1,10 170 70
24.06 93 3848 4,20 546 98 1890 2,0 852 95 2,50 2,50 200 91
Eggenfelden 16.07.92 1750 2,90 388 112 800 2,2 527 72
09.09.92 3395 3,00 414 122 876 3,9 843 105 2,60 2,10
23 12.92 3550 3,00 650 184 1398 2,5
Deggendorf 18.03 93 3508 3,00 537 67 1410 2,5 810 151 0,70 0,58 174 149
19.03.93 15750 10,50 561 45 5418 2,9 639 184 0,93 0,39 122 105
07.04.93 8100 5,00 723 181 2710 3,0 550 130 0,60 0,40
Braunschweig 25.03.93 2048 2,50 570 97 1183 1,7 835 102 0,20 0,80 22 35
14.04.93 3600 2,50 746 58 1720 2,1 687 24 3,36 0,20 26 30 249 14
27.04.93 3144 2,50 692 86 1515 2,1 1319 40 3,90 <1 14 17 216 58
08.07.93 5780 2,60 1056 114 2449 2,4 1405 77 <1 1,3 512 75
Tabela 3
Tabela wartości prawidłowych ilości 03 (g/h), przy jedynie niewielkim wpływie wartości jonów amonowych i węglanowych
Woda CSB wejście (mg/l)
(m3/h) 200 300 400 500 600 700 800 900 1000 1100 1200 1300 1400 1500
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15
1 160 340 540 760 1000 1260 1610 1920 2250 2600 2970 3360 3770 4200
1,5 240 510 810 1140 1500 1890 2415 2880 3375 3900 4455 5040 5655 6300
2 320 680 1080 1520 2000 2520 3220 3840 4500 5200 5940 6720 7540 8400
2,5 400 850 1350 1900 2500 3150 4025 4800 5625 6500 7425 8400 9425 10500
3 480 1020 1620 2280 3000 3780 4830 5760 6750 7800 8910 10080 11310 12600
3,5 560 1190 1890 2660 3500 4410 5635 6720 7875 9100 10395 11760 13196 14700
165 991
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15
4 640 1360 2160 3040 4000 5040 6440 7680 9000 10400 11880 13440 15080 16800
4,5 720 1530 2430 3420 4500 5670 7245 8640 10125 11700 13365 15120 16965 18900
5 800 1700 2700 3800 5000 6300 8050 9600 11250 13000 14850 16800 18850 21000
5,5 880 1870 2970 4180 5500 6930 8855 10560 12375 14300 16335 18-480 20735 23100
6 960 2040 3240 4560 6000 7560 9660 11520 13500 15600 17820 20160 22620 25200
6,5 1040 2210 3510 4940 6500 8190 10465 12480 14625 16900 19305 21840 24505 27300
7 1120 2380 3780 5320 7000 8820 11270 13440 15750 18200 20790 23520 26390 29400
7,5 1200 2550 4050 5700 7500 9450 12075 14400 16875 19500 22275 25200 28275 31500
8 1280 2720 4320 6080 8000 10080 12880 15360 18000 20800 23760 26880 30160 33600
8,5 1360 2890 4590 6460 8500 10710 13685 16320 19125 22100 25245 28560 32045 35700
9 1440 3060 4860 6840 9000 11340 14490 17280 20250 23400 26730 30240 33930 37800
9,5 1520 3230 5130 7220 9500 11970 15295 18240 21375 21700 28215 31920 35815 39900
10 1600 3400 5400 7600 10000 12600 16100 19200 22500 26000 29700 33600 37700 42000
Niniejszy wynalazek niesie z sobą następujące korzyści technologiczne w stosunku do podobnych sposobów:
- możliwość usuwania substancji toksycznych bez konieczności wielokrotnego stosowania wymuszonych operacji,
- dobry współczynnik rozpuszczalności ozonu przez zastosowanie kilku stopni rozpuszczania,
- dostarczanie do naświetlania nadfioletem cieczy wolnej od pęcherzyków gazu i nasyconej ozonem,
- wprowadzanie dużej dawki nadfioletu podczas wielokrotnego krążenia cieczy przez aparat naświetlający w obiegu zamkniętym,
- zwiększenie przepuszczalności promieniowania nadfioletowego przez ciecz dopływającą dzięki rozcieńczeniu i ewentualnej reakcji ozonu z barwnikami,
- możliwość stosowania kombinacji instalacyjnych: w celu zwiększenia wartości pH, w celu podwyższenia temperatury oraz, flokulacji za pomocą ozonu,
- możliwość wprowadzania wariacji widma światła nadfioletowego przez stosowanie różnych źródeł promieniowania dzięki czemu optimum promieniowania można dostosowywać do optimum absorpcji substancji organicznych.
Przez połączenie sposobu według wynalazku ze stopniem biologicznym można, jak to już udowodniono doświadczalnie, w stosunku do obowiązujących w momencie dyskusji przepisów administracyjnych dla przesączających się przecieków wodnych zejść dziesięciokrotnie poniżej wartości granicznej wynoszącej 500pg na litr AOX na m3 wód odpływowych, tak że tworzy się nowe normy technologiczne.
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 90 egz. Cena 1,00 zł.

Claims (26)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych substancjami szkodliwymi przez utlenianie na mokro gazem zawierającym ozon oraz naświetlanie nadfioletem, znamienny tym, że gaz zawierający ozon wprowadza się do cieczy w części urządzenia nie wystawionej na działanie naświetlania nadfioletem, przy czym nie rozpuszczony gaz nośny dla ozonu oddziela się przed naświetlaniem nadfioletem, a następnie zasadniczo wolną od pęcherzyków gazu ciecz, zawierającą ozon w postaci zaabsorbowanej, naświetla się światłem nadfioletowym.
  2. 2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że gaz zawierający ozon wprowadza się do cieczy pod zwiększonym ciśnieniem.
  3. 3. Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że podczas wprowadzania gazu zawierającego ozon i podczas oddzielania nierozpuszczonego gazu nośnego ozonu utrzymuje się ciecz pod zwiększonym ciśnieniem.
  4. 4. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że ciecz poddaje się wielokrotnej obróbce w obiegu zamkniętym.
  5. 5. Sposób według zastrz. 4, znamienny tym, że strumień cieczy krążący w obiegu zamkniętym jest większy od strumienia cieczy dopływającej i odpływającej w sposób ciągły.
  6. 6. Sposób według zastrz. 1 albo 5, znamienny tym, że gaz zawierający ozon wprowadza się do dopływu cieczy poddawanej obróbce lub do części tego dopływu.
  7. 7. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że oddzielony gaz nośny ozonu zawierający resztki ozonu poddaje się ponownie reakcji z cieczą w celu wprowadzenia do reakcji resztek ozonu.
  8. 8. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że do wytwarzania ozonu stosuje się tlen techniczny, a tlen odlotowy zawierający resztki ozonu suszy po oddzieleniu od cieczy i używa ponownie do wytwarzania ozonu.
  9. 9. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że naświetlanie nadfioletem prowadzi się za pomocą światła nadfioletowego o różnych długościach fali.
  10. 10. Sposób według zastrz. 9, znamienny tym, że naświetlanie określonej objętości cieczy światłem o różnych długościach fali prowadzi się równocześnie.
  11. 11. Sposób według zastrz. 10, znamienny tym, że naświetlanie określonej objętości cieczy światłem o różnych długościach fali prowadzi się po kolei.
  12. 12. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że wartość pH poddawanej obróbce cieczy reguluje się, aby zwiększyć jej reaktywność.
  13. 13. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że poddawaną obróbce ciecz ogrzewa się, aby zwiększyć szybkość reakcji.
  14. 14. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że po wprowadzeniu gazu zawierającego tlen i przed kombinowanym oddziaływaniem ozonu i nadfioletu usuwa się z cieczy kłaczkowatą zawiesinę przez filtrację lub przez sedymentację.
  15. 15. Urządzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami wyposażone w źródło gazu zawierającego ozon, w zespół do wprowadzania gazu zawierającego ozon do cieczy poddawanej obróbce i w zespół do naświetlania światłem nadfioletowym cieczy poddawanej obróbce, znamienne tym, że jednostka naświetlająca (40, 50, 80,90) jest włączona za zespołem do wprowadzania gazu zawierającego ozon, a między nimi obydwoma jest umieszczony zespół zbiorników reakcyjno-odgazowujących (20, 30, 60, 70, 85).
  16. 16. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że zespół zbiorników reakcyjnoodgazowujących obejmuje, zbiorniki reakcyjno-odgazowujące (20, 30, 60, 70), wykonane jako zbiorniki podwójne z dwoma umieszczonymi jeden w drugim zbiornikami (13, 14), spośród których zbiornik zewnętrzny (13) jest zamknięty aż do miejsca połączenia w części górnej (21,36, 49, 51) zbiornika z rurociągiem wylotowym (32, 34, 62, 64, 53) dla oddzielonego gazu nośnego ozonu a zbiornik wewnętrzny (14) jest otwarty od góry i tworzy przelew (16), przy czym rurociąg
    165 991 dopływowy (12, 42, 44) poddawanej obróbce cieczy prowadzi aż do części dolnej (17) zbiornika wewnętrznego (14) a rurociągi odpływowe (24, 25, 35, 43, 45, 47) odchodzą od części dolnej (23) zbiornika zewnętrznego (13).
  17. 17. Urządzenie według zastrz. 15 albo 16, znamienne tym, że rurociągi odpływowe (24,31 lub 25, 35, 47) z części dolnej (23) zbiornika zewnętrznego (13) są przewidziane zarówno dla cieczy przeznaczonej do odprowadzania ze zbiornika jak i dla cieczy przeznaczonej do krążenia w obiegu zamkniętym, którą rurociągiem zwrotnym (26, 47) zawraca się do dopływu.
  18. 18. Urządzenie według zastrz. 15 albo 16, znamienne tym, że za pierwszym zbiornikiem reakcyjno-odgazowującym (20, 60) jest włączony co najmnej jeden dalszy zbiornik reakcyjnoodgazowujący (30, 70), którego rurociąg dopływowy (28,44) jest połączony z rurociągiem odpływowym (24, 43) pierwszego zbiornika reakcyjno-odgazowującego (20, 60).
  19. 19. Urządzenie według zastrz. 18, znamienne tym, że zespół do naświetlania poddawanej obróbce cieczy obejmuje jednostkę naświetlającą (40) włączoną między obydwoma zbiornikami reakcyjno-odgazowującymi (20, 30).
  20. 20. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że zespół do naświetlania poddawanej obróbce cieczy obejmuje jednostkę naświetlającą (80) umieszczoną na rurociągu odpływowym (45) z ostatniego zbiornika reakcyjno-odgazowującego (70).
  21. 21. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że zespół do naświetlania poddawanej obróbce cieczy obejmuje jednostkę naświetlającą (90) umieszczoną na rurociągu zwrotnym (9,59) prowadzącym od rurociągów odpływowych (25, 35, 47) do dopływu.
  22. 22. Urządzenie według zastrz. 16, znamienne tym, że rurociąg łączący (55) prowadzi do rurociągu wylotowego (32) dla oddzielonego gazu nośnikowego ozonu zawierającego ozon z pierwszego zbiornika reakcyjno-odgazowującego (20) do części dolnej (29) następnego zbiornika reakcyjno-odgazowującego (30).
  23. 23. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że zespół do wprowadzania gazu zawierającego ozon do poddawanej obróbce cieczy obejmuje zespół wprowadzający umieszczony na dopływie (1) cieczy.
  24. 24. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że zespół do wprowadzania gazu zawierającego ozon do poddawanej obróbce cieczy obejmuje zespół wprowadzający umieszczony na rurociągu zwrotnym (9) prowadzącym od rurociągów odpływowych (25, 35) zbiorników reakcyjnoodgazowujących (20, 30) do dopływu (1).
  25. 25. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że jednostki naświetlające (40, 50, 80, 90) prześwietlają poprzecznie cienką warstwę cieczy.
  26. 26. Urządzenie według zastrz. 15, znamienne tym, że do wytwarzania ozonu ma wytwornicę (10) ozonu do cichego wyładowania elektrycznie w gazie zawierającym tlen.
PL90285688A 1989-06-19 1990-06-19 Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urzadzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami PL PL165991B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3919885A DE3919885C2 (de) 1989-06-19 1989-06-19 Verfahren und Anlage zur Behandlung von mit schwer abbaubaren Schadstoffen belasteten wässrigen Flüssigkeiten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL285688A1 PL285688A1 (en) 1991-02-25
PL165991B1 true PL165991B1 (pl) 1995-03-31

Family

ID=6382986

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL90285688A PL165991B1 (pl) 1989-06-19 1990-06-19 Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urzadzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami PL

Country Status (18)

Country Link
US (1) US5302298A (pl)
EP (1) EP0478583B2 (pl)
JP (1) JPH0722753B2 (pl)
AT (1) ATE92438T1 (pl)
CA (1) CA2058972C (pl)
CZ (1) CZ283017B6 (pl)
DD (1) DD295142A5 (pl)
DE (2) DE3919885C2 (pl)
DK (1) DK0478583T3 (pl)
ES (1) ES2058918T5 (pl)
FI (1) FI104320B1 (pl)
HU (1) HU212078B (pl)
NO (1) NO180190C (pl)
PL (1) PL165991B1 (pl)
PT (1) PT94401B (pl)
RU (1) RU2041171C1 (pl)
WO (1) WO1990015778A1 (pl)
ZA (1) ZA904746B (pl)

Families Citing this family (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4104094A1 (de) * 1991-02-11 1992-08-13 Rudolf Gesslauer Verfahren und vorrichtung zur reinigung von abwasser
JPH04297266A (ja) * 1991-03-27 1992-10-21 Agency Of Ind Science & Technol 医療器具殺菌洗浄装置
DE4110687C2 (de) * 1991-04-03 1995-05-04 Martin Dipl Ing Fricke Vorrichtung in Modulbauweise zum Behandeln schadstoffbelasteter wäßriger Flüssigkeiten
DE4120340A1 (de) * 1991-06-20 1992-12-24 Stausberg Klara Maria Verfahren zur behandlung des aus der klaerstufe einer klaeranlage ablaufenden wassers
JP2872829B2 (ja) * 1991-07-31 1999-03-24 オルガノ株式会社 超純水の製造のための曝気装置及び方法
EP0642358A1 (en) * 1991-10-09 1995-03-15 J. MORTENSEN &amp; CO., LTD. Fluid treatment
FR2688209B1 (fr) * 1992-03-09 1994-05-06 Dewavrin Fils Cie Sa A Procede de desodorisation puissante de fluides charges de matieres organiques, moyens pour la mise en óoeuvre du procede et installation qui en est pourvue.
DE4238324A1 (de) * 1992-11-13 1994-05-19 Abb Research Ltd Verfahren und Einrichtung zur Entgiftung von schadstoffhaltigen Gasen
US5376265A (en) * 1994-02-01 1994-12-27 Szabo; Louis Ozone/water contactor
DE4434753A1 (de) * 1994-09-29 1996-04-04 Wedeco Umwelttechnologie Wasser Boden Luft Gmbh Verfahren und Anlage zum biologischen Abbau von Schadstoffen in wäßrigen Flüssigkeiten
DE4440969A1 (de) * 1994-11-17 1996-05-30 Messer Griesheim Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung von Abwasser mit Ozon
US6361697B1 (en) 1995-01-10 2002-03-26 William S. Coury Decontamination reactor system and method of using same
US6117334A (en) * 1995-01-10 2000-09-12 Coury; William S. Decontamination reactor system and method of using same
US5637231A (en) * 1995-06-07 1997-06-10 Huron Valley Technology, Inc. Method and apparatus for using ozone in a pressure vessel to treat stream of pollutants
US6090294A (en) * 1995-06-23 2000-07-18 Ajt & Associates, Inc. Apparatus for the purification of water and method therefor
US5785864A (en) * 1995-06-23 1998-07-28 Ajt & Associates, Inc. Apparatus for the purification of water and method therefor
US5711887A (en) * 1995-07-31 1998-01-27 Global Water Industries, Inc. Water purification system
US6001247A (en) * 1996-05-01 1999-12-14 Schulz; Christopher R. Removable, in-line diffuser apparatus for ozone disinfection of water
US5942125A (en) * 1996-05-14 1999-08-24 Germiphene Corporation Dental unit water purifier
US6267895B1 (en) 1996-05-14 2001-07-31 Germiphene Corporation Catalytic dental water apparatus
US5709799A (en) * 1996-06-03 1998-01-20 Vortex Corporation Super ozonating water purifier
DE19645548C2 (de) * 1996-11-05 2000-01-13 Stadtwerke Duisburg Ag Verfahren zur Ozonisierung von Wasser
US5814292A (en) * 1996-12-19 1998-09-29 Energy Research Group Comprehensive energy producing methods for aqueous phase oxidation
DE19702884C2 (de) * 1997-01-28 2000-07-13 Enviro Chemie Abwassertechnik Vorrichtung zum Reinigen von Abwasser mit Ozon
US5733456A (en) * 1997-03-31 1998-03-31 Okey; Robert W. Environmental control for biological nutrient removal in water/wastewater treatment
JPH10295784A (ja) * 1997-05-02 1998-11-10 Masamichi Kikuchi 殺菌装置及び殺菌方法
US6068778A (en) * 1997-07-18 2000-05-30 Tm Industrial Supply, Inc. Water purification system
RU2116264C1 (ru) * 1997-11-21 1998-07-27 Козлов Анатолий Иванович Способ очистки стоков
US5931990A (en) * 1997-12-03 1999-08-03 Coronator Tank for removing unabsorbed gas from a mixture of unabsorbed gas and liquid
USD420720S (en) * 1998-07-27 2000-02-15 AJT & Associates Apparatus for the purification of water
USD424660S (en) * 1998-07-27 2000-05-09 Ajt & Associates, Inc. Apparatus for the purification of water
US5968352A (en) * 1998-10-09 1999-10-19 Novazone Gas contact tank
WO2000071227A1 (en) 1999-05-21 2000-11-30 Life Spring Limited Partnership User-activated ultra-violet water treatment unit
RU2158726C1 (ru) * 1999-09-17 2000-11-10 Бурцев Виктор Александрович Способ очистки спирта-сырца и устройство для его осуществления
US6569307B2 (en) * 2000-10-20 2003-05-27 The Boc Group, Inc. Object plating method and system
US6669902B1 (en) * 2000-11-08 2003-12-30 L'air Liquide - Societe Anonyme A'directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Ozonated foam medium and production system and method for sanitizing a food processing environment
US6737020B1 (en) * 2000-11-28 2004-05-18 Remotelight, Inc. Microorganism neutralization device and method
US6890414B2 (en) 2001-09-04 2005-05-10 The Boc Group, Inc. Purification system and method
DE10144510A1 (de) * 2001-09-10 2003-04-03 Wedeco Ag Ozon/UV-Kombination zum Abbau von endokrinen Substanzen
KR20030046621A (ko) * 2001-12-16 2003-06-18 한국전자통신연구원 계층화 구조의 프로토콜 스택을 사용하는 스마트 카드와휴대 단말기의 통신 환경 설정 방법
US6783676B2 (en) * 2002-02-28 2004-08-31 Aquafiber Technologies Corporation Pre- and post-treatment system and method for aquatic plant filtration using ozone
US20040060877A1 (en) * 2002-09-18 2004-04-01 Kasten Stephen P. Apparatus for preventing backflow into an ozone generator
US7385204B2 (en) * 2003-10-29 2008-06-10 Calgon Carbon Corporation Fluid treatment device
RU2258046C1 (ru) * 2004-03-22 2005-08-10 Вологодский государственный технический университет Станция очистки городских и промышленных сточных вод
EP1612190A1 (en) * 2004-06-28 2006-01-04 Recticel Method of purifying polluted water
US7837951B2 (en) * 2005-01-05 2010-11-23 Gsg Holdings, Inc. Modular ozone generator with an air diffuser
ES2296511B1 (es) * 2006-03-22 2009-03-16 Jesus Manuel Taboada Presedo Instalacion para la esterilizacion de la salmuera procedente de la conservacion de productos agricolas, conservas de pescados y cueros.
US8048316B2 (en) * 2006-03-28 2011-11-01 Zuvo Water, Llc Method and apparatus for reducing microorganisms in water
US8066940B2 (en) * 2006-06-30 2011-11-29 Zuvo Water, Llc Apparatus and method for removing arsenic and inorganic compositions from water
US7794608B2 (en) * 2006-06-30 2010-09-14 Zuvo Water, Llc Apparatus and method for treating water with ozone
US8066941B2 (en) * 2006-06-30 2011-11-29 Zuvo Water, Llc Apparatus and method for purifying water in a storage tank
US20080008632A1 (en) * 2006-07-07 2008-01-10 Rolf Engelhard Pressurized uv/o3 water purification system
US7818822B2 (en) * 2006-07-13 2010-10-26 Zuvo Water, Llc Toilet tank water purifier
US20080142452A1 (en) * 2006-08-01 2008-06-19 Vortex Corporation Apparatus and method for preventing biological regrowth in water
DE102007046003A1 (de) 2007-09-26 2008-07-31 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Oxidation siliziumorganischer Verbindungen
RU2366612C1 (ru) * 2008-05-15 2009-09-10 Виталий Константинович Кочергин Способ структурирования природной питьевой воды и стабилизации ее активными формами кислорода и устройство для его осуществления
US9272936B2 (en) 2009-04-01 2016-03-01 Earth Renewal Group, Llc Waste treatment process
US7951988B2 (en) * 2009-04-01 2011-05-31 Earth Renewal Group, Llc Aqueous phase oxidation process
US8168847B2 (en) * 2009-04-01 2012-05-01 Earth Renewal Group, Llc Aqueous phase oxidation process
US8115047B2 (en) * 2009-04-01 2012-02-14 Earth Renewal Group, Llc Aqueous phase oxidation process
US7915474B2 (en) * 2009-04-01 2011-03-29 Earth Renewal Group, Llc Aqueous phase oxidation process
US8481800B2 (en) * 2009-04-01 2013-07-09 Earth Renewal Group, Llc Aqueous phase oxidation process
JP5802558B2 (ja) * 2009-10-05 2015-10-28 株式会社キッツ 養液栽培システム
DE102010010710A1 (de) * 2010-03-08 2011-09-08 Heliosaquaplus Technology Ag Verfahren und Vorrichtung zum Aufbereiten von Flüssigkeit und zum Zuführen derselben zu einer Entnahmestelle
DE102011110105A1 (de) 2011-08-12 2013-02-14 Airbus Operations Gmbh Wasserversorgungssystem mit bidirektionaler UV-Desinfektionsvorrichtung
GB201210456D0 (en) * 2012-06-13 2012-07-25 Vws Uk Ltd Method and system for providing purified water
CN104671616B (zh) * 2015-03-11 2016-09-21 天津市联合环保工程设计有限公司 一种城镇及工业园区的污水深度处理系统
RU2606988C2 (ru) * 2015-03-30 2017-01-10 Евгений Анатольевич Погадаев Способ очистки сточных вод
US11046602B2 (en) 2015-09-17 2021-06-29 Charles E. C. Harris Fluid purification apparatus and method
RU2636076C2 (ru) * 2015-12-02 2017-11-20 Негосударственная Академия Наук И Инноваций Способ фотохимической очистки воды и устройство для его осуществления
EP4679084A3 (en) 2017-03-21 2026-03-25 Hayward Industries, Inc. Systems and methods for sanitizing pool and spa water
CN106977017A (zh) * 2017-05-04 2017-07-25 青海盐湖机电装备技术有限公司 电解镁厂含有氯代烃类等污染物质的处理方法及处理设备
US11472727B2 (en) * 2017-06-09 2022-10-18 Hayward Industries, Inc. Combination ultraviolet ray and ozone water sanitizing unit
JP2019126758A (ja) * 2018-01-23 2019-08-01 パナソニック株式会社 液体処理装置
JP2021179055A (ja) * 2020-05-15 2021-11-18 小松マテーレ株式会社 繊維製品の処理システム、処理方法及び処理装置
CN112591957B (zh) * 2020-11-24 2022-09-02 湖南高德联创环境管理有限公司 一种喷药装置残留药物分解处理系统

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3855124A (en) * 1971-11-22 1974-12-17 Gen Electric Process and apparatus for the purification of an aqueous waste stream from a silicone-polymer producing plant
DE2551622A1 (de) * 1973-02-17 1977-06-02 Reiner Dipl Ing Wiest Geraet zum sterilisieren von fluessigkeiten
GB1543225A (en) * 1975-04-28 1979-03-28 Houston Research Inc Oxidation of organic refractories in an aqueous medium
US4045316A (en) * 1975-05-27 1977-08-30 Shintech Incorporated Photochemical process for decontaminating gaseous or vaporous streams
US4028246A (en) * 1975-11-20 1977-06-07 Lund Norman S Liquid purification system
CA1048733A (en) * 1977-02-02 1979-02-20 Ontario Research Foundation Ozone/ultraviolet water purifier
CH619911A5 (pl) * 1977-03-22 1980-10-31 Schlatter Ag
DE2756400A1 (de) * 1977-12-17 1979-06-21 Stausberg Verfahren zum keimfreimachen von fluessigkeiten, insbesondere schwimmbadwasser, mittels uv-strahlung und einleiten von ozon sowie einrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US4179616A (en) * 1978-02-21 1979-12-18 Thetford Corporation Apparatus for sanitizing liquids with ultra-violet radiation and ozone
CA1081913A (en) * 1978-02-21 1980-07-22 Allan J. Coviello Apparatus for sanitizing liquids
US4230571A (en) * 1979-01-22 1980-10-28 Dadd Robert C Ozone/ultraviolet water purification
US4273660A (en) * 1979-02-21 1981-06-16 Beitzel Stuart W Purification of water through the use of ozone and ultraviolet light
JPS55149688A (en) * 1979-05-08 1980-11-21 Mitsubishi Electric Corp Disposal plant for waste water
JPS5644002A (en) * 1979-09-18 1981-04-23 Power Reactor & Nuclear Fuel Dev Corp Gas aggregating and capturing apparatus
US4352740A (en) * 1980-02-08 1982-10-05 Linde Aktiengesellschaft Water ozonation method
US4512900A (en) * 1983-12-13 1985-04-23 International Business Machines Corporation Method for treating waste compositions
US4548716A (en) * 1984-07-25 1985-10-22 Lucas Boeve Method of producing ultrapure, pyrogen-free water
DE3578635D1 (de) * 1984-10-31 1990-08-16 Kraftwerk Union Ag Verfahren zur chemischen dekontamination von grosskomponenten und systemen aus metallischen werkstoffen von kernreaktoren.
US4595498A (en) * 1984-12-27 1986-06-17 Thomson Components-Mostek Corporation Water-polishing loop
JPS6291289A (ja) * 1985-10-17 1987-04-25 Mitsubishi Electric Corp 飲料水精製装置
JPS62176595A (ja) * 1986-01-28 1987-08-03 Ebara Infilco Co Ltd 用廃水中の有機物の除去方法
JPH0749118B2 (ja) * 1986-04-04 1995-05-31 日本電気環境エンジニアリング株式会社 紫外線酸化分解装置
JPS6324433A (ja) * 1986-07-17 1988-02-01 Fujitsu Ltd 装置アドレス検出方式
CH674003A5 (pl) * 1987-03-11 1990-04-30 Bbc Brown Boveri & Cie
US4913827A (en) * 1987-08-06 1990-04-03 Pci Inc. Process for purifying and de-pyrogenating water
DE3836850A1 (de) * 1988-10-28 1990-05-03 Guenther O Prof Dr Schenck Verfahren und vorrichtung zur reinigung von waessern von darin enthaltenen oxidierbaren kohlenstoffverbindungen
JPH0647105B2 (ja) * 1989-12-19 1994-06-22 株式会社荏原総合研究所 純水又は超純水の精製方法及び装置
US5180499A (en) * 1990-10-17 1993-01-19 Envirozone Technologies, Inc. Process for removal of solid, chemical and bacterial waste from water
JP5644002B2 (ja) 2010-04-28 2014-12-24 新電元メカトロニクス株式会社 ソレノイド
JP6324433B2 (ja) 2016-04-26 2018-05-16 ヤフー株式会社 配信装置、配信方法および配信プログラム

Also Published As

Publication number Publication date
DD295142A5 (de) 1991-10-24
EP0478583B2 (de) 1997-07-09
CS9003039A2 (en) 1991-11-12
ZA904746B (en) 1991-04-24
HUT66839A (en) 1995-01-30
NO914334D0 (no) 1991-11-05
NO914334L (no) 1991-11-05
ATE92438T1 (de) 1993-08-15
ES2058918T3 (es) 1994-11-01
PT94401B (pt) 1997-02-28
RU2041171C1 (ru) 1995-08-09
NO180190B (no) 1996-11-25
DE3919885A1 (de) 1990-12-20
CA2058972C (en) 1998-04-28
EP0478583B1 (de) 1993-08-04
PL285688A1 (en) 1991-02-25
WO1990015778A1 (de) 1990-12-27
FI104320B (fi) 1999-12-31
DE3919885C2 (de) 1994-06-30
DE59002218D1 (de) 1993-09-09
CZ283017B6 (cs) 1997-12-17
FI104320B1 (fi) 1999-12-31
EP0478583A1 (de) 1992-04-08
NO180190C (no) 1997-03-05
JPH0722753B2 (ja) 1995-03-15
ES2058918T5 (es) 1997-10-16
US5302298A (en) 1994-04-12
FI915905A0 (fi) 1991-12-16
JPH04506029A (ja) 1992-10-22
CA2058972A1 (en) 1990-12-20
HU905207D0 (en) 1992-04-28
DK0478583T3 (da) 1993-10-18
PT94401A (pt) 1991-02-08
HU212078B (en) 1996-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL165991B1 (pl) Sposób obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami i urzadzenie do obróbki cieczy zanieczyszczonych szkodliwymi substancjami PL
Banat et al. Photodegradation of methylene blue dye by the UV/H2O2 and UV/acetone oxidation processes
Catalkaya et al. Color, TOC and AOX removals from pulp mill effluent by advanced oxidation processes: A comparative study
US4874509A (en) Oxidation saturation device
Shokri et al. Degradation of Ortho-Toluidine in petrochemical wastewater by ozonation, UV/O3, O3/H2O2 and UV/O3/H2O2 processes
DE69426485T2 (de) Verfahren und System zur Behandlung von verunreinigtem Wasser
US5124051A (en) Process for treatment of contaminated waste water or groundwater
Ayare et al. Sonophotocatalytic oxidation based treatment of phthalocyanine pigment containing industrial wastewater intensified using oxidising agents
Prado et al. Comparison of different advanced oxidation processes involving ozone to eliminate atrazine
Gregor Oxidative decolorization of textile waste water with advanced oxidation processes
Sprehe et al. Photochemical oxidation of iodized X-ray contrast media (XRC) in hospital wastewater
WO2009127870A2 (en) Wastewater treatment apparatus and method
Beltrán et al. Impact of chemical oxidation on biological treatment of a primary municipal wastewater. 1. Effects on COD and biodegradability
Ince et al. Combinative dyebath treatment with activated carbon and UV/H2O2: a case study on Everzol Black-GSP®
Skoczko et al. Photo-Fenton method usage to organic compounds degradation
Paillard et al. Application of oxidation by a combined ozone/ultraviolet radiation system to the treatment of natural water
KR20010044325A (ko) 자외선과 오존을 이용한 고도산화처리에 의한 수처리장치
KR20110090747A (ko) 생활용수와 염수의 재활용 장치 및 방법
Perkowski et al. Decomposition of anthraquinone dye in the aqueous solution during advanced oxidation processes
Albakrey et al. Ozonation and ozone/UV process for industrial wastewater treatment: comparison between two types of wastewater
DE4438052A1 (de) Verfahren, Vorrichtung und Strahlungsquelle zur oxidativen Photopurifikation
Yousif et al. Packed bed reactor for efficient dye removal using ozone and hydrogen peroxide
JPH02115096A (ja) 気体および水溶液中に含有される揮発性有機ハロゲン化化合物の分解
KR20240160270A (ko) 오존전처리 및 uv 산화를 이용한 하폐수 색도 및 유기물 제거 방법 및 하폐수 색도 및 유기물 제거 장치
Aslaniavali Phenol Sulfonic Acid Oxidation in aqueous solution by UV, UV/H2O2 and Photo-Fenton Processes

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20060619