PL17056B1 - Sposób usuwania siarkowodoru z gazów. - Google Patents

Description

Dotychczas usuwano z gazów siarkowo¬ dór w ten sposób, Az przepuszczano je przez szlam wodorotlenku zelaza, przyczem po¬ wstajacy siarczek zelaza regenerowano w wiezy, polaczonej z aparatura plóczki, za- pomoca utleniania powietrzem; podczas tej operacji obok regenerowanego wodorotlen¬ ku zelaza otrzymywano siarke, Otrzymany w ten sposób wodorotlenek zelaza sluzyl po¬ nownie do wiazania siarkowodoru w plócz- ce, zas siarke, z powodu zawartego w niej zelaza, mozna bylo zuzytkowac tylko w sposób wymagajacy wielkich nakladów. W tym celu proponowano juz caly szereg spo¬ sobów.Wykryto, ze najkorzystniej jest zapo¬ biec calkowicie lub prawie calkowicie wy¬ dzielaniu sie tej surowej siarki. Uzyskuje sie to wedlug wynalazku przez zapewnie¬ nie w alkalicznym plynie w plóczce dosta* tecznej zawartosci siarczynów, a to celem natychmiastowego rozpuszczania w postaci tiosiarczanu wiekszej czesci siarki, powsta¬ jacej przez utlenienie siarczku zelaza. Na¬ stepnie sposób ten jest i tern korzystny, ze jednoczesnie czesc doprowadzanego siar¬ czynu przechodzi w siarczan przez utlenie¬ nie zapomoca powietrza. Niezbedne do prze¬ prowadzenia procesu ilosci siarczynów do¬ prowadza sie w ten sposób, iz badz do a- panatury, gdzie odbywa sie utlenianie, wpro¬ wadza sie wolny gazowy S02 lub spaliny z pieców do prazenia, badz tez stosuje sie roztwory siar|ezynów lulb kwasnych siar¬ czynów. Wkoncu mozna równiez dodawac bezposrednio stale sole lub ich zawiesinyv do plymi^ dhizapego do plókania, bacllz do aparatury regeneiracyjtnej, badz tez do pló- mozna równiez, zamiast do aparatury rege¬ neracyjnej f doprowadzac bezposrednio do plóczek.Do otrzymywania niezbednych do pro¬ cesu siarczynów mozna stosowac S02 do¬ wolnego pochodzenia* Do tego celu mozna np. uzyc czesc otrzymywanej w niniejszym sposobie surowej siaiiki, jak to bedzie zresz¬ ta ponizej opisane, lub tez surowa siarke, otrzymywana przy plókaaiiu. Celem polep¬ szenia warunków rozpuszczania siarki pod¬ czas procesu utrzymuje sie odjpowiednia temperature, wynoszaca np, dla wiekszych stezen soli okolo 40°, Przy zastosowaniu sposobu tego do o- czyszczaiiia gazów zawierajacych amonjak, np. gazu koksowniczego, zawartosc tiosiar¬ czanu amonowego i siarczanu amonowego w plynie do plókania wzrasta wraz ze wzrostem ilosci siarkowodoru, pochloniete¬ go w plóczce. W tym przypadku usuwa sie celowo czesc roztworu, przyczem zawarty w nim szlam zelazny po osadzeniu nawraca sie do plóczek, zas stezone roztwory tio^ siarczanu przerabia sie w dowolny, znany sposób na siarczan lub siarczan i siarke al¬ bo na inne produkty.Skoro jednoczesnie na¬ lezy calkowicie usunac amonjak, wówczas gaz po przejsciu przez plóczke siajrkowodo- rowa plócze sie w drugiej plóczce kwasnym roztworem, zawierajacym siarczyn i kwa¬ sny siarczyn amonowy,, który przez doda¬ tek S02 utrzymuje sie w stanie kwasnym i który zawiera na 1 czesc siarczynu ponad 1 czesc kwasnego siarczynu. Roztwór ten, dostatecznie wzbogacony w siarczyn amo¬ nowy, mozna po zobojetnieniu doprowadzic do pierwszej plóczki siarkowej, gdzie sluzy do otrzymywania tiosiarczanu.Nastepnie przy dalszem badaniu sposo¬ bu usuwania siarkowodoru z gazów wykry¬ to, ze sposób ten z odpowiedniemi zmiana¬ mi moze równiez sluzyc do wiazania amo- iijaku, zawartej w fazach, z zawartym tamze siarkowodorem bez koniecznosci do¬ dawania innych produktów, jak np. kwasu siarkowego.Stosowany do tego celu sposób wielo- tionjanowy (WalteriFeld i Bergfeld) okazal sie niepraktyczny z tych powodów, iz w wiekszosci przypadków stosunek ilosci a- monjaku i siarkowodoru, zawartegp w ga¬ zach, jest niekorzystny, gdyz (niezbedny ido procesu siarczyn lub kwasny siarczyn amo¬ nowy mozna otrzymac tylko z amonjaku, zawartegow gazach. Te trudnosc poteguje jeszcze fakt, ze podczas procesu [gazowania stosunek ilosci amoniaku i siarkowodoru u- lega znacznym wahaniom.Przedmiotem wynalazku jest tedy spo¬ sób, w którym po zastosowaniu wstepnego plókania w pierwszej plóczce wyplakuje sie calkowicie lub prawie calkowicie siarkowo¬ dór z czesci strumienia gazu przy pomocy amonjakalnego szlamu wodorotlenku zela¬ za. Otrzymany przytem siarczek zelaza zo¬ staje ponownie zregenerowany na wodoro¬ tlenek zelaza i siarke zapomoca traktowa¬ nia powietrzem (przyczem czesciowo po¬ wstaje równiez tiosiarczan).Zregenerowany lug stosuje sie ponownie do wyplókiwania siarkowodoru. Przez trak¬ towanie ma poczatku procesu czesci strumie¬ nia gazu usuwa isie tyle siarkowodoru, ze w drugiej fazie procesu ponownie polaczone strumienie gazu posiadaja taki stosunek ilo¬ sci amon jaku i siarkowodoru', iz przy pomo¬ cy kwasnego roztworu tiosaarczajnu, zawae- wierajaoego siarczyn lub kwasny siarczyn, mozna calkowicie usunac pozostaly amo¬ njak i siarkowodór. Ma to miejsce w tym przypadku, gdy stosunek ilosci aanonjaku do siarkowodoru wynosi 3—4 : 1, Lug wl- nien zawierac taka ilosc kwasnego siarczy¬ nu, by nie oddawal S02 gazom. Stwierdzo¬ no, ze w przypadku stosunku 1 mola siar¬ czynu na 3 mole kwasnego siarczynu lug nie wydziela uchwytnych ilosci dwutlenku siar¬ ki T 2. - PL

Claims (9)

1. Z astrze zenia patentowi. 1. Sposób ujsuwania siarkowodoru z gazów zajpomoca przemywania ich szlamem wodorotlenku zelaza przy zachodzacej w obiegu koliowym cieczy przemywajacej re¬ generacji wytworzonego siarczku zelaza po¬ wietrzem w alkalicznych roztworach, zna¬ mienny tern, ze wydzieleniu siarki z alka¬ licznego plynu w plóczce zapobiega sie cal¬ kowicie lub w stopniu bardzo znacznym przez dodawanie do plynu do plókania ta¬ kich ilosci kwasu siarkawego lub jego soli, aby lug pozostawal jeszcze stale alkalicz¬ nym,
2. 2. , Odmiana sposobu wedlug zastrz, 1, znamienna tern, ze wydzielaniu siarki za¬ pobiega sie przez dodawanie S02f przy- czem ilosc dodawanego S02 jest tak dobra¬ na, by pozostawaly w roztworach alkalicz¬ nych jeszcze ilosci surowej siarki, wystar¬ czajace do otrzymywania S02 lub jego so¬ li, które w znany sposób wydziela sie z roz¬ tworu i spala na S02.
3. 3. , Sposób wedlug zastrz. 1 i 2, zna¬ mienny tern, ze z plynu do plókania usuwa sie w sposób ciagly lub okresowo skladniki roztworu, a po wyklarowaniu tiosiarczanu takowy rozklada na siarczan i siarke.
4. 4. , Sposób wedlug zastrz. 1 — 3, zna¬ mienny tern, ze otrzymywany FeS utlenia sie zawierajacemi jeszcze tlen spalinami z pieców do prazenia.
5. 5. , Sposób wedlug zastrz. 1 — 4, zna¬ mienny tern, ze gaz po przejsciu przez plóczke siarkowa traktuje sie kwasnym roztworem siarczynu i dwusiarczynu amo¬ nowego, w celu usuniecia amonjaku, a o- trzymywany przytem roztwór siarczynowy dodaje sie do plynu do plókania.
6. 6. , Odmiana sposobu wedlug zastrz. 1 — 5 przy jednoczesnem usuwaniu amo- tijaku z gazów, znamienna tern, ze najpierw" zostaje wydzielona pewna czesc gazu, z któ¬ rej usuwa sie siarkowodór zapomuoca amo- njakalnego szlamu wodorotlenku zelaza, poczem uwolniona od siarkowodoru czesc gazu laczy sie z pozostala czescia gazu i z polaczonych strumieni usuwa sie reszte siarkowodoru oraz calkowita ilosc amonjaku w znany sposób zapomoca lugu, zawieraja¬ cego tiosiarczan amonowy i wielotionjan obok siarczynu i kwasnego siarczynu, przy- czem stosunek czesci molowych amonjaku na 1 czesc molowa siarkowodoru w gazie ustala sie na 3 — 4.
7. 7. Sposób wedlug zastrz. 6, znamien¬ ny tern, ze siarke, otrzymywana w pierw¬ szej fazie spala sie na dwutlenek siarki, któ¬ ry sie nastepnie zuzywa do otrzymywania niezbednych w drugiej fazie lugów siarczy- nowo-dwusiarczynowych lub do zamiany gotowych lugów na od|powiednia mieszani¬ ne tiosiarczanu i wielotionjanu.
8. 8. Sposób wedlug zastrz, 6, znamien¬ ny tern, ze lugi, pochodzace z pierwszej i drugiej fazy, przerabia sie, po przeprowa¬ dzeniu ich w mieszanine tiosiarczanu i wie- lotionjanu, na siarczan amonowy, przyczem jako produkt uboczny otrzymuje sie czysta siarke.
9. 9. Sposób wedlug zastrz. 6 — 7, zna¬ mienny tern, ze powstajace w drugiej fazie lugi, zawierajace tiosiarczan i siarczyn a- monowy, wprowadza sie do pierwszej plócz- ki, w której sianczyn amonowy przetwarza sie na tiosiarczan oraz siarczan amonowy bez wydzielania siarki. Gesells chart fur K oh len technik m. b. H. Zastepca: M. Skrzypkowski, rzecznik patentowy, Druk L. Boguslawskiego l Skl Warszawa* PL