PL180201B1 - Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL - Google Patents

Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL

Info

Publication number
PL180201B1
PL180201B1 PL94304064A PL30406494A PL180201B1 PL 180201 B1 PL180201 B1 PL 180201B1 PL 94304064 A PL94304064 A PL 94304064A PL 30406494 A PL30406494 A PL 30406494A PL 180201 B1 PL180201 B1 PL 180201B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
formula
substituted
alkyl
radical
groups
Prior art date
Application number
PL94304064A
Other languages
English (en)
Other versions
PL304064A1 (en
Inventor
Peter Chabrecek
Dieter Lohmann
Original Assignee
Novartis Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Novartis Ag filed Critical Novartis Ag
Publication of PL304064A1 publication Critical patent/PL304064A1/xx
Publication of PL180201B1 publication Critical patent/PL180201B1/pl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/20—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/24—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/26—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C07C271/28—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring to a carbon atom of a non-condensed six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/32—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C07C271/38—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings with the nitrogen atom of at least one of the carbamate groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00—Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • C08B37/0006—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid
    • C08B37/0009—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid alpha-D-Glucans, e.g. polydextrose, alternan, glycogen; (alpha-1,4)(alpha-1,6)-D-Glucans; (alpha-1,3)(alpha-1,4)-D-Glucans, e.g. isolichenan or nigeran; (alpha-1,4)-D-Glucans; (alpha-1,3)-D-Glucans, e.g. pseudonigeran; Derivatives thereof
    • C08B37/0012—Cyclodextrin [CD], e.g. cycle with 6 units (alpha), with 7 units (beta) and with 8 units (gamma), large-ring cyclodextrin or cycloamylose with 9 units or more; Derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
    • C08B37/00—Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
    • C08B37/006—Heteroglycans, i.e. polysaccharides having more than one sugar residue in the main chain in either alternating or less regular sequence; Gellans; Succinoglycans; Arabinogalactans; Tragacanth or gum tragacanth or traganth from Astragalus; Gum Karaya from Sterculia urens; Gum Ghatti from Anogeissus latifolia; Derivatives thereof
    • C08B37/0063—Glycosaminoglycans or mucopolysaccharides, e.g. keratan sulfate; Derivatives thereof, e.g. fucoidan
    • C08B37/0072—Hyaluronic acid, i.e. HA or hyaluronan; Derivatives thereof, e.g. crosslinked hyaluronic acid (hylan) or hyaluronates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/30—Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/16—Chemical modification with polymerisable compounds
    • C08J7/18—Chemical modification with polymerisable compounds using wave energy or particle radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses
    • G02B1/043—Contact lenses
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S522/904—Monomer or polymer contains initiating group
    • Y10S522/905—Benzophenone group
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31645—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31667—Next to addition polymer from unsaturated monomers, or aldehyde or ketone condensation product
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31971—Of carbohydrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Immobilizing And Processing Of Enzymes And Microorganisms (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

1 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w k tórym jeden z podstawników R 1, R1' i R2 oznacza grupe hydroksylowa, a pozo- stale dwa, niezaleznie jeden od drugiego, o znaczaja w o d ó r C 1 -C 4 a lk il lub fe - n y l, R 3 oznacza lin io w y rodnik C 1-C 4 alkilenow y, a R4 oznacza rozgaleziony rodnik C 3- C 1 0 alkilenow y, rodnik fenylenow y podstawiony C 1-C4 alkilem lub rodnik cykloheksyleno-C3 H 2 , niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C 1-C 4alkilow ych, przy czym y oznacza liczbe calkow ita od 1 do 4 9 Sposób w ytw arzania pochodnych izocyjan ianowych podstawionych acetofenonow o w zorze 1, w którym jeden z podstawników R1, R 1' i R 2 oznacza grupe hydroksylow a, a pozostale dwa, niezaleznie jeden od drugiego, ozna- czaja w odór, C 1 -C 4 alkil lub fenyl, R 3 oznacza lin io w y rodnik C 1 -C 4 alkilenow y, a R 4 oznacza rozgaleziony rodnik C 3- C 10 al kilenow y, rodnik fenylenow y pod- stawiony C 1 -C 4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-C3H 2 , niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C1-C 4-alkilow ych, przy czym y oznacza liczbe calkow ita od 1 do 4, zn am ien n y ty m , ze poddaje sie reakcji zw iazek o w zorze 2, w k tórym R 1, R 1 ', R2 i R 3 m aja w yzej podane znaczenia, z d uzocyjanianem o w zorze 3, w którym R 4 m a w yzej podane znaczenie, w obojetnym rozpuszczal- niku organicznym , w temperaturze do 4 5 °C 10 Sposób m odyfikacji pow ierzchni wyprasek organicznych, zawie- rajacych polim ery naturalne lub syntetyczne, które zaw ieraja m ajace aktywny H grupy H O -, H S -, H N -C1-C 6alkilow e lub -N H 2, zn a m ie n n y ty m , ze a) nanosi sie cienka warstwe fotoinicjatora o w zorze 1 na powierzchnie wypraski, b) prowadzi sie reakcje w iazania fotoinicjatora z pow ierzchnia w ypraski przez utrzym yw anie powleczonej w ypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie je j w temperaturze do 60 ° C , a nastepnie odm ywa sie nadmiar fotoinicjatora c) nanosi sie cienka warstwe m onom eru z nienasyconymi w iazaniam i ety- lenow ym i, zdolnego do fo topolim e ry za cji, w ybranego z g rupy skladajacej sie z kwasu akrylow ego, kwasu m etakrylow ego, estru 2-hydroksyetylow ego kwasu m etakrylow eg o , 2,3-dwuhydioksypropylometakrylanu, N,N-dwum etylo- akr ylam idu, akrylamidu, N,N-dw uetyloam inoetylom etakrylanu W zór 1 Wzór 2 Wzór 3 P L 1 8 0 2 0 1 P L PL PL PL PL PL PL PL PL

Description

Przedmiotem wynalazku sąpochodne izocyjamanowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjamanowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych z tych pochodnych.
Związki typu alkilofenonu lub hydroksyalkilofenonu o strukturze według wzoru A sąznakomitymi fotoinicjatorami indukowanej promieniowaniem polimeryzacji nienasyconych, zawierających wiązania etylenowe, związków monomerycznych, oligomerycznych lub polimerycznych. W wielu przypadkach jako szczególnie dolegliwe wady obserwuje się zmianę zabarwienia (żółknienie) powstających polimerów oraz toksyczne własności tworzących się niskocząsteczkowych związków, które mogą obniżyć własności użytkowe tak otrzymanych polimerów. W celu uniknięcia tych oraz innych wad takich monomerycznych fotoimcjatorów proponuje się, w rozwiązaniu ujawnionym w EP-A-0 281 941, modyfikować fotomicjatory w pierścieniu fenylowym tak, aby produkty fotolizy były mocno związane w otrzymywanym związku pohmerycznym. Jako stosowane do tego celu powszechnie wymienia się również grupy izozcyjanianowe, jako grupy funkcyjne, które sązwiązane a pierścieneim fenylowym przez grupę rozpierającą np. liniową grupę alkilenową. Otrzymywanie takich związków stwarza jednak znaczne problemy w syntezie, ponieważ przy podstawianiu liniowych dwuizocyjanianów grupami wodorotlenowymi w otrzymywanych związkach nie można uniknąć powstawania dwuadduktów, a nawet reakcja ich powstawania przeważa.
Istnieje zaopotrzebowanie na łatwe do otrzymywania funkcjonalne fotomicjatory o składnikach struktury według wzoru A, o wysokiej czystości i odznaczające się wysokąreaktywnością oraz trwałością przy przechowywaniu, które mogłyby być zdolne do tworzenia na odpowiednich oligomerach lub polimerach makromerycznych fotoimcjatorów o wysokiej skuteczności działania, które są zdolne do modyfikowania powierzchni, zwłaszcza powierzchni tworzyw sztucznych, przez fotoindukowanąpolimeryzację szczepioną oraz które mogłyby być stosowane również do materiałów tolerowanych biologicznie, zwłaszcza w zakresie biomedycyny, jak np. do soczewek kontaktowych. Stwierdzono nieoczekiwanie, że cel ten można osiągnąć, jeśli do wprowadzenia grup izocyjamanowych zastosuje się dwuizocyjaniany, które zawierają grupy izocyjamanowe o różnej reaktywności i podstawi się grupami funkcyjnymi związanymi w pierścieniu fenylowym o wzorze A lub podstawi się grupę wodorotlenową w części struktury według wzoru A dwuizocyjanianami i w ten sposób, dzięki wysokiej regioselektywności, zahamuje się powstawanie izomerów i innych produktów ubocznych.
Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, zgodnie z wynalazkiem przedstawia wzór 1, w którym jeden z podstawników Ru i R/1R2 oznacza grupę hydroksylową a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, CrC4alkil lub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CrC4 alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C,o alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C1-C4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do3 grupC]-C4alkilowych,przy czymy oznacza liczbę całkowitą od 1 do4.
Korzystnie, we wzorze 1 R2 oznacza grupę hydroksylową a także z R! i R,' oznacza metyl.
Korzystnie, we wzorze 1 R3 oznacza rodnik etylenowy
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C,0alkilenowy.
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rodnik fenylenowy podstawiony C|-C4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN.
Korzystnie, we wzorze 1 R4 oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
180 201
Korzystnie, we wzorze 1 j eden z podstawników Rj, R/ι R2 oznacza grupę hydroksylową, a z pozostałych dwóch każdy oznacza C, -C4alkil, R3 oznacza liniowy rodnik C ,-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy lub rodnik fenylenowy podstawiony C1-C4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN, albo oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2- podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
Korzystne pochodne przedstawia wzór la, wzór Ib lub wzór Ic.
R] jako alkil jest korzystnie liniowy i zawiera od 1 do 4 atomów C. Niektórymi przykładami sąmetyl, etyl, n- lub izo-propyl, η-, izo- lub tertbutyl. Jako R] szczególnie korzystny jest metyl lub etyl.
Do R2 odnoszą się te same korzystne warunki, jak do R]. R2 jest szczególnie korzystny jako H, metyl lub etyl.
Przykładami R3 sąmetylen, etylen, 1,2- lub 1,3-propylen, 1,2-, 1,3- lub 1,4-butylen. Korzystne są metylen, etylen, 1,3-propylen i 1,4-butylen, zwłaszcza etylen.
W przypadku podstawników C]-C4alkilowych chodzi zwłaszcza o metyl i etyl.
R4 jako rozgałęziony alkilen zawiera od 3 do 10, korzystnie od 4 do 10 atomów C. Przykładami alkilenu są 1,2-propylen, 2-metylo- lub 2,2-dwumetylo-1,3-propylen, 1,2-, 1,3-1 2,3-butylen, 2-metylo- lub 2,3-dwumetylo-1,4-butylen, 1,2-, 1,3- lub 1,4-pentylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,2,3-trójmetylo-2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,3,3-czterometylo- lub 2,2,3,4-czterometylo-l,5-pentylen, 1,2-, 1,3-, 1,4- lub 1,5-heksylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,2,3-trójmetylo- lub 2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,5-trójmetylo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,2,4,5-czterometylo-l,6-heksylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5- lub 1,6-heptylen, 2-metylolub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylo- lub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,2,3-trójmetylo- lub 2,2,4-trójmetylo- lub 2,2,5-trójmetylo- lub 2,2,6-trójmetyIo- lub 2,3,4-trójmetylo- lub 2,4,5-trójmetylo- lub 2,4,6-trójmetylo-l,7-heptylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6- lub 1,7-oktylen, 2-metylo- lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 6-metylo- lub 7-metylo- lub 2,2-dwumetylo- lub 3,3-dwumetylolub 2,3-dwumetylo- lub 2,4-dwumetylo- lub 3,4-dwumetylo- lub 2,6-dwumetyIo- lub 2,7-dwumetylo-l,8-oktylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 1,7-lub 1,8-nonylen, 2-metylo-lub 3-metylo- lub 4-metylo- lub 5-metylo- lub 6-metylo- lub 7-metylo- lub 8-metylo-nonylen, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 1,7-, 1,8- lub 1,9-decylen.
Niektórymi korzystnymi rozgałęzionymi resztami alkilowymi są 2,2-dwumetylo-1,4-butylen, 2,2-dwumetylo-1,5-pentylen, 2,2,3- lub 2,2,4-trójmetylo-1,5-pentylen, 2,2-dwumetylo-1,6-heksylen, 2,2,3- lub 2,2,4- lub 2,2,5-trójmetylo-1,6-heksylen, 2,2-dwumetylo-1,7-heptylen, 2,2,3- lub 2,2,4- lub 2,2,5- lub 2,2,6-trójmetylo-l,7-heptylen, 2,2-dwumetylo- 1,8-oktylen.
Jeśli R4 oznacza podstawiony fenylen, to podstawnik znajduje się korzystnie w położeniu orto do grapy izocyjanianowej. Przykładami są l-metylo-2,4-fenylen i 1,5-dwumetylo-2,4-fenylen.
Jeśli R4 oznacza grupę cykloheksyleno-CyH2y-, to jest ona niepodstawiona lub przeważnie podstawiona C]-C4alkilami w liczbie od 1 do 3, szczególnie korzystnie metylem. W grupie -CyH2y- y oznacza liczby całkowite od 1 do 4. Korzystnie grapa -CyH2y- stanowi etylen, a szczególnie korzystnie metylen Niektórymi przykładami sącykloheks-lylo-3- lub -4-metylen, 3- lub 4- łub 5-metylo-cykloheks-l-ylo-3- lub -4-metylen, 3,4- lub 3,5-dwumetylocykloheks-l -ylo-3-, lub -4-metylen, 3,4,5- lub 3,4,4- lub 3,5,5-trójmetylo-cykloheks-l-ylo-3- lub -4-metylen.
W przypadku podstawnika R4 wchodzą w rachubę zwłaszcza takie grapy, które obniżają reaktywność grapy OCN, co osiąga się przeważnie przez sferyczne zahamowanie na co najmniej jednym sąsiednim atomie C. Dlatego korzystnie R4 sąalkilenami rozgałęzionymi w położeniu a, a zwłaszcza β w stosunku do grupy OCN, lub w co najmniej jednym położeniu a, jak to określa podstawiona cykliczna reszta węglowodorowa.
180 201
Związki o wzorze 1 można otrzymać przez podstawienie dwuizocyjamanów odpowiednimi fotoimcjatorami z wodorem kwasowym w cząsteczce. Związki te otrzymuje się z wysoką wydajnością i o wysokiej czystości, nawet jeśli w fotomicjatorze są obecne równocześnie dwie różne grupy z wodorem kwasowym, np. dwie grupy -OH. Szczególnie korzystne jest stosowanie dwuizocyjanianów z grupami izocyjanianowymi o różnej reaktywności, ponieważ można przez to powstrzymać powstawanie izomerów i dwuadduktów. Różne reaktywności można otrzymać, np. jak napisano wcześniej, przez sferyczne zahamowanie. Różne reaktywności można też osiągnąć przez zamaskowanie jednej grupy izocyjanianowej w dwuizocyjanianie, np. kwasem karboksylowym lub hydroksylaminą.
Sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym jeden z podstawników R|, R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, C1-C4alkil łub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CpCzjalkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C10alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C]-C4ałkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup CrC4alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4, zgodnie z wynalazkiem charakteryzuje się tym, że poddaje się reakcji związek o wzorze 2, w którym R„ R/, R2 i R3 mająwyżej podane znaczenia, z diizocyjanianem o wzorze 3, w którym R4 ma wyżej podane znaczenie, w obojętnym rozpuszczalniku organicznym, w temperaturze do 45°C.
Środki maskujące są znane z chemii uretanów. Mogą wchodzić w rachubę, np. fenole (krezol, ksylenol), laktamy (ε-kaprolaktam), oksymy (acetoksym, oksym benzofenonu), związki metylenowe z aktywnym H (malonian dwuetylowy, acetooctan etylu), pirazole lub benzotriazole. Środki maskujące opisał np. Z.W. Wicks, Jr. w Progress in Organie Coatings 9 (1981) s. 3-28.
Związki o wzorze 2 są znanymi fotoinicjatorami typu hydroksyalkilofenonu i są opisane w literaturze patrz np. H. F. Gruber, Próg. Polym. SCI, tom 17, strony od 953 do 1044 (1992), Pergamon Press Ltd. W przypadku izocyjanianów wchodząw rachubę związki dobrze znane z chemii poliuretanów.
Odpowiednimi obojętnymi rozpuszczalnikami są aprotonowe, zwłaszcza polarne rozpuszczaalniki, jak np. węglowodory (eter naftowy, metylocykloheksan, benzen, toluen, ksylen), chlorowcowęglowodory (chloroform, chlorek metylenu, trój chloroetan, czterochloroetan, chlorobenzen), etery (eter dwuetylowy, eter dwubutylowy, eter dwumetylowy glikolu etylenowego, eter dwumetylowy glikolu dwumetylowego, czterohydrofuran, dioksan), ketony (aceton, keton dwubutylowy, keton metyloizobutylowy), estry kwasów karboksylowych i laktony (octan etylu, butyrolakton, walerolakton), alkilowane amidy kwasów karboksylowych (N,N-dwumetyloacetamid, N-metylopirolidon), nitryle (acetonitryl), sulfony i sulfotlenki (sulfotlenek dwumetylowy, czterometyleno-sulfon). Korzystnie stosuje się rozpuszczalniki polarne
Reagenty używa się korzystnie w ilościach równomolowych. Temperatura reakcj i, w przypadku stosowania katalizatorów, może mieścić się w zakresie od 0 do 45°C, przeważnie jest to temperatura pokojowa. Odpowiednimi katalizatorami sąnp. sole metali, jak sole metali alkalicznych kwasów karboksylowych, aminy trzeciorzędowe, np. (CrC6alkilo)3N (trójetyloamina, trój-n-butyloamina), N-metylopirolidyna, N-metylomorfolina, Ν,Ν-dwumetylopiperydyna, pirydyna i 1,4-dwuaza-dwucyklooktan. Szczególnie efektywnymi okazały się sole cyny, zwłaszcza sole alkilocynowe kwasów karboksylowych, jak np. dwulauryman dwubutylocynowy i dwuoktaman cynowy.
Wydzielanie i oczyszczanie otrzymywanych związków prowadzi się znanymi sposobami, jak np. przez ekstrakcję, krystalizację, rekrystalizację lub chromatograficznymi metodami oczyszczania. Związki te otrzymuje się z wysoką wydajnością i o wysokiej czystości Wydajność w przypadku prowadzenia operacji nie optymalizowanych może wynosić ponad 85% w stosunku do wydajności teoretycznej.
Związki o wzorze 1 nadają się znakomicie na fotoimcjatory dla etylenowo nienasyconych związków rodnikowych zdolnych do polimeryzacji, zwłaszcza takich, które dodatkowo zawierają grupy z aktywnymi H, jaknp. grupy OH-, -COOH, -CONH- lubNH. W tym przypadku fotomicjatory wiążąsię w wysokim stopniu kowalencyjnie z powstającymi polimerami przez grupę
180 201 izocyjanianową i fotochemiczne produkty rozpadu (wyzwalacze reakcji rodnikowych lub kończące łańcuchy) i przez to skutecznie przeciwdziałają obniżeniu własności użytkowych
Związki o wzorze 1 nadająsię również znakomicie do otrzymywania ohgomerycznych lub polimerycznych fotoinicjatorów przez podstawienie funkcyjnymi oligomerami lub polimerami, które zawierają aktywne atomy H, np. grup OH- lub NH-. Te fotoimcjatory makromeryczne odznaczająsię dobrąprzyswajalnościąi wysoką skutecznością przy czym fotochemiczne produkty rozpadu, jak już podano, wiążą się kowalencyjnie z powstającym polimerem, np. jako wyzwalacze reakcji łańcuchowych lub kończąc łańcuchy, dzięki czemu gwarantowany jest długi okres użytkowania. Dalszą dodatkową korzyścią jest specyficzna struktura fotopolimeru, ponieważ łańcuchy polimeru rozrastają się na fotoinicjatorze makiOmerycznym, z czego wynikają dalsze korzystne własności użytkowe. Dobierając oligomery lub polimery można w ten sposób uzyskać żądane własności fotopohmerów.
Sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych, zawierających polimery naturalne lub syntetyczne, które zawierają mające aktywny H grupy HO-, HS-, HN-C|-C6alkilowe lub -NH2, zgodnie z wynalazkiem charakteryzuje się tym, że
a) nanosi się cienką warstwę fotoinicjatora o wzorze 1 na powierzchnię wypraski,
b) prowadzi się reakcję wiązania fotoinicjatora z powierzchnią wypraski przez utrzymywanie powleczonej wypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie jej w temperaturze do 60°C, a następnie odmywa się nadmiar foroiniciatora,
c) nanosi się cienką warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi, zdolnego do fotopolimeryzacji, wybranego z grupy składającej się z kwasu akrylowego, kwasu metakrylowego, estru 2-hydroksyetylowego kwasu metakrylowego, 2,3-dwuhydroksypropylometakrylanu, Ν,Ν-dwumetyloakrylamidu, akrylamidu, Ν,Ν-dwuetyloammoetylometakrylanu i N-winylopirolidonu, na powierzchnię substratu zaopatrzoną w rodniki fotoinicjatora i
d) polimeryzuje się warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi przez naświetlanie promieniowaniem nadfioletowym.
Ewentualnie powstałe polimery związane niekowalencyjnie można usunąć po polimeryzacji, np. przez potraktowanie odpowiednimi rozpuszczalnikami.
Sposobem według wynalazku można modyfikować powierzchnie i nadawać im specyficzne własności dla zastosowania w różnych celach. Zależnie od wyboru etylenowo nienasyconej substancji można celowo polepszyć np. własności mechaniczne, np. twardość powierzchni, odporność na zaiysowanie, zwilżalność, odporność na ścieranie i zdolność do opisywania, jak również własności fizyczne, jak np. współczynnik tarcia, rozpuszczalność dla gazów, cieczy i rozpuszczonych nieorganicznych lub organicznych substancji posiadających masy cząsteczkowe od niskich do wysokich oraz przepuszczalność światła, przy czym szczególnie silna przyczepność warstwy polimeru stanowi szczególną korzyść.
Fotoinicjatory według wynalazku względnie substraty modyfikowane fotoinicjatorami odznaczająsię wysoką chemiczną i fotochemiczną reaktywnością. Mogą być używane do budowy fotoreaktywnych materiałów, które mogą znaleźć zastosowanie jako materiały powłokowe, materiały zdolne do fotostrukturyzacji, do materiałów wiążących, a zwłaszcza jako tworzywo do zastosowań biomedycznych, np. do soczewek kontaktowych i materiałów chirurgicznych. Materiały te nadająsię zwłaszcza do otrzymywania powierzchni hydrofilnych i biokompatybilnych na soczewkach kontaktowych przez polimeryzację szczepieniową z wytwarzaniem struktury włoskowej (szczotkowej), szczególnie korzystnej dla osiągnięcia żądanych własności
Szczególne znaczenie mają zwilżalność oraz uzyskiwanie stabilnej wilgotnej warstewki na powierzchni, np. warstewki łez na powierzchni soczewki kontaktowej. Ponadto, duże znaczenie ma polepszenie zachowania się w systemie biologicznym, np. polepszona biokampatybilność, ochrona przed bioerozją zmniejszenie powstawania kłykciny płaskiej oraz biozanieczyszczeń, brak niedokrwienia lub toksycznych i uczuleniowych reakcji.
Materiały modyfikowane sposobem według wynalazku nadają się zwłaszcza do otrzymywania soczewek kontaktowych. Przy rozpatrywaniu soczewek kontaktowych szczególnie ważne jest polepszenie takich własności, jak wysoka zwilżalność (mały kąt kontaktu), wysoka wytrzymałość na rozrywanie, dobra skuteczność smarowania, wysoka odporność na ścieranie, brak lub nieznaczny stopień rozkładu enzymatycznego, brak odkładania się składników z cieczy łzowej
180 201 (białek, lipidów, soli, produktów rozpadu komórek), brak powinowactwa do kosmetyków, lotnych chemikaliów, jak np. rozpuszczalników, brudu i pyłu, brak przyczepiania się względnie zagnieżdżania mikroorganizmów.
Materiały modyfikowane sposobem według wynalazku nadają się również do otrzymywania sztucznych naczyń krwionośnych i innych tworzyw biomedycznych na protezy, dla chirurgu i diagnostyki, przy czym szczególnie korzystne jest to, że materiały te mogą zarastać endotehocytami (komórkami śródbłonkowymi).
Następujące przykłady bliżej objaśniają wynalazek.
A) Przykłady otrzymywania.
Przykład Al: Otrzymywanie związku o wzorze la.
W kolbie o pojemności 500 cm3 z chłodnicą zwrotną, termometrem, mieszadłem i przewodem doprowadzającym azot, w atmosferze azotu miesza się roztwór zawierający 11,125 g (0,05 mola) świeżo przedestylowanego dwuizocyjanianu izoforonu (IPDI) w 50 cm3 suchego chlorku metylenu z roztworem zawierającym 11,2 g (0,05 mola) 4'-(P-hydroksyetoksy)-2-hydroksyprop-2-ylo-fenonu (Darocure 2959®) w 300 cm3 suchego chlorku metylenu i po dodaniu 20 mg dwulaurynianu dwubutylocynowego jako katalizatora miesza się przez 48 h w temperaturze pokojowej. Przebieg powstawania śledzi się za pomocą chromatografii cienkowarstwowej na płytkach z żelu krzemionkowego (60 F254, Art. 5719 Merck) (układ rozwijający: toluen/acetonitryl 7:3). Powstały produkt uwalnia się od małych ilości niepodstawionego Darocure 29591 podwójnie podstawionego IPDI na drodze chromatografu kolumnowej na żelu krzemionkowym 60 (eluent toluen/acetonitryl 7:3). Po odparowaniu czystej frakcji w wyparce obrotowej otrzymuje się bezbarwny olej, który podczas chłodzenia do -16°C powoli krystalizuje; następnie przekrystalizowuje się go z suchego eteru dwuetylowego. Otrzymuje się 15,6 g białego krystalicznego produktu (70% wydajności teoretycznej), który wykazuje temperaturę topnienia 76°C
Zawartość izocyjanianu w produkcie oznacza się przez miareczkowanie dwubutyloaminą w toluenie: obliczono 2,242 miligramorównoważmka/g, znaleziono 2,25 miligramorównoważnika/g.
Metoda jest opisana w „Analytical Chemistry of Polyurethanes” (High Polymer Senes XVI/Part III, D. S. David + Η. B. Staley editors, Interscience Pubhshers, New York 1969, str. 86)
Przykład A2: Otrzymywanie związku o wzorze Ib.
Analogicznie, jak w przykładzie Al podstawia się 10,5 g (0,05 mola) 1,6-dwuizocyjaniano-2,2,4-trójmetyloheksanu (TMDI) przez 11,1 g (0,05 mola) Darocure 2959® w 400 cm3 suchego chlorku metylenu, w temperaturze pokojowej, w atmosferze azotu, w ciągu 40 h Otrzymuje się 14,5 g (67% wydajności teoretycznej) białego, krystalicznego produktu o temperaturze topnienia 41-43°C.
Miareczkowanie NCO: obliczono 2,30 miligramorównoważnika/g, znaleziono 2,36 mihgramorówno ważmka/g.
Przykład A3: Otrzymywanie związku o wzorze Ic.
W aparaturze opisanej w przykładzie Al podstawia się 1,74 g (0,01 mola) toluileno-2,4-dwuizocyjanianu (TDI) w 20 cm3 dwuchlorometanu przez 2,24 g (0,01 mola) Darocure 2959® rozpuszczonego w 60 cm3 suchego dwuchlorometanu. Mieszaninę reakcyjną, bez dodatku katalizatora, miesza się przez 48 h w temperaturze pokojowej oraz 1 h w 40°C, aż na ehromatogramie cienkowarstwowym nie można już wykazać niepodstawionego Darocure 2959 Produkt wydziela się przez strącanie z roztworu reakcyjnego w 180 cm3 suchego eteru naftowego (temperatura wrzenia 40-60°C), a następnie dwukrotnie przekstalizowuje z mieszaniny dwuchlorometan/eter naftowy 1:3.
Otrzymuje się biały krystaliczny produkt o temperaturze topnienia 124- 125°C. Wydajność 17,2 g odpowiada 87% wydajności teoretycznej. Miareczkowanie NCO' obliczono 2,50 mihgramorównoważnika/g, znaleziono 2,39 miligramorównowaznika/g
B) Reakcja powierzchniowa folii polimerycznych z reaktywnym fotomicjatorem opisanym w przykładzie Al.
Przykłady BI - B5.
Folie różnych materiałów polimerycznych, które wykazują reaktywne grupy, zwilza się powierzchniowo roztworem fotoimcjatora otrzymanego według przykładu Al w odpowiednim rozpuszczalniku (stężenie około 20% wagowych), przy czym stosuje się techniki zanurzania,
180 201 rozpylania i smarowania. Tak przygotowaną folię ogrzewa się w atmosferze suchego azotu przez 24 h w 60°C, a następnie usuwa się z niej niepodstawiony fotoimcjator przez przemywanie acetonem. Po wysuszeniu bez dostępu światła folię analizuje się metodą mikroskopu FTIR
Przykład Powłoka polimeru M Rozpuszczalnik Pasma w widmie IR (cm1)
BI Alkohol poliwinylowy ~ 70 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1695
B2 Chitozan ~ 145 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1690
B3 Kolagen ~ 80 000 DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1695
B4 Polialkohol winylowy usieciowany 1%TMDI - MEK+ 1% DMSO (Ar C=C) 1600, (C=O) 1705
B5 Kopolimer glukonamidopropylometylo-dwumtylosiloksanu usieciowany IPD1 (20% grup OH) - 40 000 MEK + 1%DMSO (Ar C=C) 1600, 1510 (C=O) 1700
MEK = metyloetyloketon
Przykład B6: Reakcja powierzchniowa soczewki kontaktowej.
Soczewki kontaktowe z usieciowanego polihydroksyetylometakrylanu (Poly-HEMA) nawilża się powierzchniowo roztworem związku Al w czterohydrofuranie (stężenie 5%) względnie w eterze dwuetylowym. Tak przygotowane soczewki przetrzymuje się w atmosferze suchego azotu przez 16 h w temperaturze pokojowej. Następnie soczewki kontaktowe przemywa się przez 8 h acetonem, a następnie suszy w wysokiej próżni
C) Powierzchniowa polimeryzacja szczepiona modyfikowanych folii polimerycznych, otrzymanych według przykładu BI-B4 i N-wmylo-2-pirolidonu.
Przykład C1-C4
Folie polimeryczne według przykładów Β1-B4 zwilża się przez zanurzenie, rozpylanie lub smarowanie świeżo destylowanym N-winylo-2-pirolidonem, usuwa z nich tlen przez kilkakrotne działanie próżni oraz wypieranie gazowym azotem i w atmosferze azotu wystawia je na działanie promieniowania nadfioletowego z wysokociśnieniowej lampy rtęciowej (Photoresist Belichter 82420, Oriel). W końcu folie przemywa się kilkakrotnie metanolem w celu usnięcia mespolimeryzowanego N-winylo-2-pirohdonu i niezwiązanego homopohmeru. Folie suszy się w próżni i analizuje za pomocą spektrografu FTIR (pasma NVP w podczerwieni)
Przykład Czas naświetlania UV Pasma w widmie FTIR (cm1)
Cl 20 minut 15101 1660J (C=C Ai), 1660(C=O)l 1440-1470 J NVP
C2 30 minut 15107 1600 J (C=C Ar), 1660 (C=O) NVP
C3 15 minut 1600 C=C Ar), 1660 (C=O) NVP
C4 40 minut 1600 (C=C Ar), 1675 (C=O)l 1440-1450 J NVP
Ar = aromatyczny, NVP = N-winylopirolidon
180 201
Przykład C5: Modyfikacja powierzchni soczewki kontaktowej.
Soczewki kontaktowe przygotowane według przykładu B6 zanurza się w wodnym roztworze akryloamidu, a następnie uwalnia od tlenu przez kilkakrotne działanie próżni i wypieranie azotem. Następnie naświetla się w atmosferze azotu dwukrotnie przez 2 minuty wysokociśnieniową lampą rtęciową (Photoresist-belichter 82420, Oniel, 2000 W). Potem soczewki kontaktowe przemywa się wodą destylowaną i suszy w wysokiej próżni. Soczewki kontaktowe wykazują następujące początkowe (Poly-HEMA) i po obróbce wartości kąta kontaktu i jego histerezy. Wartości liczbowe wskazują na dobrą powtarzalność.
Produkt Kąt wyprzedzenia Kąt cofania Histereza
Poly-HEMA 78° 33° 44°
Soczewka 1 według przykładu C5 54° 49° 5°
Soczewka 2 według przykładu C5 49° 41° 8°
Soczewka 3 według przykładu C5 53° 48° 5°
180 201
180 201
Wzór A
O
II OCN — R4—NHC - O - R3- O
Wzór 1
NH-C(O)-O-CH2CH2-O-p-C6H4-C(O)-C(CH3)2-OH
Wzór la
180 201
OCNCH2C(CH3)2CH2CH(CH3)(CH2)2NHC(O)O(^
C(O)C(CH3)2OH
Wzór Ib
NHU(O)-O-(CH2)2-O-p-C6H4-C(O)-C(CH3)2-OH
Wzór Ic
HO —R3-0
Wzór 2
OCN-R4-NCO
Wzór 3
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 70 egz.
Cena 4,00 zł.

Claims (10)

  1. Zastrzeżenia patentowe
    1. Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym j eden z podstawników R), R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór CrC4alkil lub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik C1-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C10alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup Cj-C^alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4.
  2. 2. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R2 oznacza grupę hydroksylową, a każde z R! i Rf oznacza metyl.
  3. 3. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1R3 oznacza rodnik etylenowy.
  4. 4. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy.
  5. 5. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN.
  6. 6. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 R4 oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
  7. 7. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że we wzorze 1 jeden z podstawników R], R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a z pozostałych dwóch każdy oznacza C]-C4alkil, R3 oznacza liniowy rodnik C[-C4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C4-C10alkilenowy lub rodnik fenylenowy podstawiony CrC4alkilem w pozycji orto w stosunku do grupy OCN, albo oznacza rodnik cykloheksyleno-CH2-, podstawiony przez 1 do 3 grup metylowych.
  8. 8. Pochodne według zastrz. 1, znamienne tym, że przedstawia je wzór la, wzór Ib lub wzór Ic.
  9. 9. Sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów o wzorze 1, w którym jeden z podstawników R], R/ i R2 oznacza grupę hydroksylową, a pozostałe dwa, niezależnie jeden od drugiego, oznaczają wodór, CrC4alkil łub fenyl; R3 oznacza liniowy rodnik CrC4alkilenowy; a R4 oznacza rozgałęziony rodnik C3-C)0alkilenowy, rodnik fenylenowy podstawiony C]-C4alkilem lub rodnik cykloheksyleno-CyH2y, niepodstawiony lub podstawiony przez 1 do 3 grup C^-C^-alkilowych, przy czym y oznacza liczbę całkowitą od 1 do 4, znamienny tym, że poddaje się reakcji związek o wzorze 2, w którym Rb R/. R21R3 mająwyżej podane znaczenia, z diizocyjanianem o wzorze 3, w którym R4 ma wyżej podane znaczenie, w obojętnym rozpuszczalniku organicznym, w temperaturze do 45°C.
  10. 10. Sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych, zawierających polimery naturalne lub syntetyczne, które zawierają mające aktywny H grupy HO-, HS-, HN-C1-C6alkilowe lub -NH2, znamienny tym, że
    a) nanosi się cienką warstwę fotoinicjatora o wzorze 1 na powierzchnię wypraski,
    b) prowadzi się reakcję wiązania fotoinicjatora z powierzchnią wypraski przez utrzymywanie powleczonej wypraski w temperaturze pokojowej lub przez ogrzewanie jej w temperaturze do 60°C, a następnie odmywa się nadmiar fotoinicjatora.
    c) nanosi się cienką warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi, zdolnego do fotopolimeryzacji, wybranego z grupy składającej się z kwasu akrylowego, kwasu metakrylowego, estru 2-hydroksyetylowego kwasu metakrylowego, 2,3-dwuhydroksypro
    180 201 pylometakrylanu, Ν,Ν-dwumetyloakrylamidu, akrylamidu, N,N-dwuetyloaminoetylometakrylanu i N-winylopirolidonu, na powierzchnię substratu zaopatrzonąw rodniki fotomicjatora i
    d) polimeryzuje się warstwę monomeru z nienasyconymi wiązaniami etylenowymi przez naświetlanie promieniowaniem nadfioletowym.
    * * *
PL94304064A 1993-07-02 1994-06-30 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL PL180201B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH200693 1993-07-02

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL304064A1 PL304064A1 (en) 1995-01-09
PL180201B1 true PL180201B1 (pl) 2001-01-31

Family

ID=4223706

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL94304064A PL180201B1 (pl) 1993-07-02 1994-06-30 Pochodne izocyjanianowe podstawionych acetofenonów, sposób wytwarzania pochodnych izocyjanianowych podstawionych acetofenonów i sposób modyfikacji powierzchni wyprasek organicznych PL PL PL PL PL PL PL PL

Country Status (22)

Country Link
US (4) US5527925A (pl)
EP (1) EP0632329B1 (pl)
JP (1) JP4053612B2 (pl)
KR (1) KR950003265A (pl)
CN (1) CN1102825A (pl)
AT (1) ATE160888T1 (pl)
AU (1) AU683256B2 (pl)
CA (1) CA2127200A1 (pl)
CZ (1) CZ161094A3 (pl)
DE (1) DE59404708D1 (pl)
DK (1) DK0632329T3 (pl)
ES (1) ES2109647T3 (pl)
FI (1) FI943129A7 (pl)
GR (1) GR3025768T3 (pl)
HU (1) HU219502B (pl)
IL (1) IL110171A (pl)
MX (1) MX9404973A (pl)
NO (1) NO302026B1 (pl)
NZ (1) NZ260892A (pl)
PL (1) PL180201B1 (pl)
TW (1) TW328535B (pl)
ZA (1) ZA944758B (pl)

Families Citing this family (202)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5760100B1 (en) 1994-09-06 2000-11-14 Ciba Vision Corp Extended wear ophthalmic lens
JP3647093B2 (ja) * 1994-11-17 2005-05-11 株式会社メニコン 親水性化酸素透過性コンタクトレンズ及びその製造法
TW353086B (en) * 1994-12-30 1999-02-21 Novartis Ag Method for multistep coating of a surface
TW434456B (en) * 1994-12-30 2001-05-16 Novartis Ag A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate
DE59504366D1 (de) * 1994-12-30 1999-01-07 Novartis Ag Polymere auf der grundlage von blockcopolymeren
DK0807269T3 (da) * 1995-02-03 2000-04-25 Novartis Ag Tværbindelige polymerer indeholdende fotoinitiatorer
US5789462A (en) * 1995-09-13 1998-08-04 Seikagaku Kogyo Kabushiki Kaisha (Seikagaku Corporation) Photocured crosslinked-hyaluronic acid contact lens
GB9522683D0 (en) 1995-11-06 1996-01-10 Coates Brothers Plc Photoinitiator
US6579596B1 (en) * 1997-04-15 2003-06-17 Fuji Xerox Co., Ltd. Composite material and process for production thereof
DE19727554A1 (de) * 1997-06-28 1999-01-07 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur Hydrophilierung der Oberfläche polymerer Substrate mit einem Makroinitiator als Primer
JP4616473B2 (ja) * 1997-09-16 2011-01-19 ノバルティス アーゲー 架橋結合可能なポリ尿素ポリマー類
AU9627298A (en) * 1997-09-23 1999-04-12 Novartis Ag Method for hydrogel surface treatment and article formed therefrom
US5981617A (en) * 1998-01-20 1999-11-09 Kim; Hee Jung Irradiation of gas permeable contact lenses by far infrared light
US6007833A (en) * 1998-03-19 1999-12-28 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers bearing initiator groups
US6410044B1 (en) * 1998-03-19 2002-06-25 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers
US7547445B2 (en) * 1998-03-19 2009-06-16 Surmodics, Inc. Crosslinkable macromers
TW473488B (en) * 1998-04-30 2002-01-21 Novartis Ag Composite materials, biomedical articles formed thereof and process for their manufacture
US6509323B1 (en) 1998-07-01 2003-01-21 California Institute Of Technology Linear cyclodextrin copolymers
US7091192B1 (en) * 1998-07-01 2006-08-15 California Institute Of Technology Linear cyclodextrin copolymers
EP1002807A1 (en) 1998-11-20 2000-05-24 Novartis AG Functionalized resin derived from polyallylamine
SE9900935D0 (sv) * 1999-03-16 1999-03-16 Pharmacia & Upjohn Bv Macromolecular compounds
JP2002544205A (ja) * 1999-05-10 2002-12-24 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 新規な光開始剤及びその応用
EP1189643A1 (en) * 1999-06-30 2002-03-27 Novartis AG Ophthalmic molding
US6376568B1 (en) * 1999-07-29 2002-04-23 Ciba Specialty Chemicals Corporation Surface-active photoinitiators
GB2352718A (en) 1999-08-04 2001-02-07 Coates Brothers Plc Photoinitiators
ATE270590T1 (de) * 1999-09-22 2004-07-15 Surmodics Inc Initiationsgruppentragendes wasserlösliches beschichtungsmittel und beschichtungsverfahren
JP2001163932A (ja) * 1999-10-27 2001-06-19 Novartis Ag 材料表面を改質する方法
EP1095711B1 (en) * 1999-10-27 2004-01-28 Novartis AG Process for coating a material surface
EP1095966B1 (en) * 1999-10-27 2006-01-11 Novartis AG Process for the modification of a material surface
JP2001158813A (ja) 1999-10-27 2001-06-12 Novartis Ag 材料表面を被覆する方法
JP2001163933A (ja) * 1999-10-27 2001-06-19 Novartis Ag 材料表面を改質する方法
KR100595404B1 (ko) * 2000-04-06 2006-07-03 삼성토탈 주식회사 방충필름용 수지 조성물 및 방충필름
US6613703B1 (en) 2000-04-27 2003-09-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Thermoplastic nonwoven web chemically reacted with a cyclodextrin compound
CA2415871A1 (en) * 2000-08-24 2002-02-28 Novartis Ag Process for surface modifying substrates and modified substrates resulting therefrom
US6448301B1 (en) 2000-09-08 2002-09-10 3M Innovative Properties Company Crosslinkable polymeric compositions and use thereof
CN1469785A (zh) * 2000-10-16 2004-01-21 ��˹��ŵ�� 涂敷材料表面的方法
JP2002182166A (ja) * 2000-12-11 2002-06-26 Toray Ind Inc プラスチック成形品およびそれからなるコンタクトレンズ
US6774178B2 (en) 2001-01-05 2004-08-10 Novartis Ag Tinted, high Dk ophthalmic molding and a method for making same
DE10132506A1 (de) * 2001-07-05 2003-01-23 Wacker Polymer Systems Gmbh Lösungsmittelfrei herstellbare Beschichtungsmittel für verschmutzungsresistente Beschichtungen
US6596786B2 (en) 2001-08-17 2003-07-22 Alcatel Radiation-curable coating composition including oligomeric photoinitiator and/or oligomeric adhesion promoter
TW200407367A (en) * 2001-11-13 2004-05-16 Novartis Ag Method for modifying the surface of biomedical articles
US7348055B2 (en) * 2001-12-21 2008-03-25 Surmodics, Inc. Reagent and method for providing coatings on surfaces
TWI255224B (en) * 2002-01-09 2006-05-21 Novartis Ag Polymeric articles having a lubricious coating and method for making the same
AU2003233984A1 (en) * 2002-04-26 2003-11-10 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Incorporable photoinitiator
KR20140070676A (ko) 2002-09-06 2014-06-10 인설트 테라페틱스, 인코퍼레이티드 공유결합된 치료제 전달을 위한 사이클로덱스트린-기초 중합체
DE10316890A1 (de) * 2003-04-12 2004-11-04 Basf Coatings Ag Mit aktinischer Strahlung aktivierbare Initiatoren enthaltende Mischungen sowie Zwei- und Mehrkomponentensysteme, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US7247387B1 (en) 2003-07-24 2007-07-24 Sepax Technologies Inc. Material and process for controlled thin polymeric coatings on plastic surface
DE602004028020D1 (de) * 2003-08-07 2010-08-19 Eyesense Ag Ophthalmischer sensor
US20050056954A1 (en) * 2003-09-12 2005-03-17 Devlin Brian Gerrard Method for making contact lenses
CA2563358A1 (en) * 2004-04-21 2005-11-17 Ashland Licensing And Intellectual Property Llc Radiation-curable michael addition resins having built-in photoinitiators
US20060004165A1 (en) 2004-06-30 2006-01-05 Phelan John C Silicone hydrogels with lathability at room temperature
US20070037897A1 (en) 2005-08-12 2007-02-15 Guigui Wang Method for making contact lenses
US20070077498A1 (en) * 2005-09-30 2007-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical recording composition, optical recording medium and production method thereof, optical recording method and optical recording apparatus
AR064286A1 (es) 2006-12-13 2009-03-25 Quiceno Gomez Alexandra Lorena Produccion de dispositivos oftalmicos basados en la polimerizacion por crecimiento escalonado fotoinducida
US20080176958A1 (en) 2007-01-24 2008-07-24 Insert Therapeutics, Inc. Cyclodextrin-based polymers for therapeutics delivery
MX2009010109A (es) 2007-03-22 2009-10-12 Novartis Ag Prepolimeros que contienen silicona con cadenas polimericas hidrofilicas.
EP2129513B1 (en) 2007-03-22 2016-08-03 Novartis AG Prepolymers with dangling polysiloxane-containing polymer chains
US8044111B2 (en) 2007-11-30 2011-10-25 Novartis Ag Actinically-crosslinkable silicone-containing block copolymers
CN101903807B (zh) 2007-12-20 2013-01-09 诺瓦提斯公司 隐形眼镜的制造方法
US8283384B2 (en) 2008-01-24 2012-10-09 University Of Utah Research Foundation Adhesive complex coacervates and methods of making and using thereof
BRPI0822229A2 (pt) 2008-01-24 2015-06-23 Univ Utah Res Foudation Coacervados de complexos adesivo e métodos de fabricação e uso dos mesmos
EP2522692B1 (en) 2008-05-30 2014-06-18 3M Innovative Properties Company Ligand monomers and copolymers made therewith
US8586338B2 (en) 2008-05-30 2013-11-19 3M Innovative Properties Company Ligand functionalized substrates
CA2731159A1 (en) 2008-07-21 2010-01-28 Novartis Ag Silicone hydrogel contact lenses with convertible comfort agents
CA2730506A1 (en) 2008-07-21 2010-01-28 Novartis Ag Silicone-containing polymeric materials with hydrolyzable groups
JP5748224B2 (ja) * 2008-11-13 2015-07-15 ノバルティス アーゲー 化学結合した湿潤剤を有するシリコーンハイドロゲル材料
AR074110A1 (es) * 2008-11-13 2010-12-22 Novartis Ag Copolimeros de polisiloxano con cadenas de polimero hidrofilicas terminales
TWI506333B (zh) 2008-12-05 2015-11-01 Novartis Ag 用以傳遞疏水性舒適劑之眼用裝置及其製造方法
BRPI0923037A2 (pt) * 2008-12-18 2015-12-15 Novartis Ag método para produzir lentes de contato de hidrogel de silicone
JP5575881B2 (ja) * 2009-05-22 2014-08-20 ノバルティス アーゲー 化学線架橋性シロキサン含有コポリマー
EP2432821B1 (en) 2009-05-22 2017-08-30 Novartis AG Actinically-crosslinkable siloxane-containing copolymers
MY158359A (en) * 2009-09-15 2016-09-30 Novartis Ag Prepolymers suitable for making ultra-violet absorbing contact lenses
BR112012012210B8 (pt) * 2009-11-23 2021-05-25 Cerulean Pharma Inc conjugado de (cdp)-taxano de polímero contendo ciclodextrina, composição, composição farmacêutica, forma de dosagem, kit e uso de um conjugado de cdp-taxano
US8507571B2 (en) * 2009-12-02 2013-08-13 Xerox Corporation Macro-photoinitiator via enzymatic polymerization
TWI483996B (zh) * 2009-12-08 2015-05-11 Novartis Ag 具有共價貼合塗層之聚矽氧水凝膠鏡片
US8377672B2 (en) 2010-02-18 2013-02-19 3M Innovative Properties Company Ligand functionalized polymers
JP5471598B2 (ja) * 2010-03-02 2014-04-16 ソニー株式会社 非水電解質電池
EP2889625B1 (en) 2010-03-03 2016-09-14 3M Innovative Properties Company Ligand guanidinyl functionalized polymers
CA2799818A1 (en) 2010-05-24 2011-12-01 University Of Utah Research Foundation Reinforced adhesive complex coacervates and methods of making and using thereof
KR102159909B1 (ko) 2010-07-30 2020-09-25 알콘 인코포레이티드 수분이 풍부한 표면을 갖는 실리콘 히드로겔 렌즈
US8273560B2 (en) * 2010-07-30 2012-09-25 Ecology Coatings, Inc. Coated substrates and methods of preparing the same
TWI522395B (zh) 2010-07-30 2016-02-21 諾華公司 兩親性聚矽氧烷預聚物及其用途
EP2625216B1 (en) 2010-10-06 2019-06-05 Novartis AG Polymerisable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups
WO2012047964A1 (en) 2010-10-06 2012-04-12 Novartis Ag Chain-extended polysiloxane crosslinkers with dangling hydrophilic polymer chains
NZ606787A (en) 2010-10-06 2014-11-28 Novartis Ag Water-processable silicone-containing prepolymers and uses thereof
EP2637847B1 (en) 2010-11-10 2014-07-23 Novartis AG Method for making contact lenses
EP2637708A2 (en) 2010-11-12 2013-09-18 University of Utah Research Foundation Simple adhesive coacervates and methods of making and using thereof
EP2648896B1 (en) 2010-12-06 2014-09-17 Novartis AG Method for making silicone hydrogel contact lenses
EP2652532B1 (en) 2010-12-13 2016-06-08 Novartis AG Ophthalmic lenses modified with functional groups and methods of making thereof
WO2012170603A1 (en) 2011-06-09 2012-12-13 Novartis Ag Silicone hydrogel lenses with nano-textured surfaces
CN103917899B (zh) 2011-10-12 2018-04-03 诺华股份有限公司 通过涂布制备uv吸收性眼用透镜的方法
US20150119353A1 (en) 2012-02-22 2015-04-30 Kci Licensing, Inc. Antimicrobial compositions, the preparation and use thereof
US20130273145A1 (en) 2012-03-06 2013-10-17 Kci Licensing, Inc. Compositions, the preparation and use thereof
CN104822772B (zh) 2012-03-22 2019-06-07 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 亲水大分子单体和包含所述单体的水凝胶
IN2014MN01864A (pl) 2012-03-22 2015-07-03 Momentive Performance Mat Inc
KR20140143194A (ko) 2012-03-22 2014-12-15 모멘티브 퍼포먼스 머티리얼즈 인크. 유기-개질 실리콘 폴리머 및 이를 함유하는 하이드로겔
CN107011498B (zh) 2012-05-30 2020-05-12 Igm集团公司 辐射可固化的化合物
US9296907B2 (en) 2012-05-30 2016-03-29 Basf Se Radiation-curable compounds
WO2014055493A1 (en) 2012-10-02 2014-04-10 Cerulean Pharma Inc. Methods and systems for polymer precipitation and generation of particles
WO2014063097A1 (en) 2012-10-19 2014-04-24 Danisco Us Inc. Stabilization of biomimetic membranes
EP2931733B1 (en) 2012-12-14 2016-10-05 Novartis AG Tris(trimethyl siloxy)silane vinylic monomers and uses thereof
US9103965B2 (en) 2012-12-14 2015-08-11 Novartis Ag Amphiphilic siloxane-containing vinylic monomers and uses thereof
WO2014093764A1 (en) 2012-12-14 2014-06-19 Novartis Ag Amphiphilic siloxane-containing (meth)acrylamides and uses thereof
CA2889894C (en) 2012-12-14 2017-09-12 Novartis Ag Actinically-crosslinkable amphiphilic prepolymers
US10338408B2 (en) 2012-12-17 2019-07-02 Novartis Ag Method for making improved UV-absorbing ophthalmic lenses
WO2014123665A1 (en) 2013-02-06 2014-08-14 Kci Licensing, Inc. Polymers, preparation and use thereof
US20230200976A1 (en) 2013-02-14 2023-06-29 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lens
US9486311B2 (en) 2013-02-14 2016-11-08 Shifamed Holdings, Llc Hydrophilic AIOL with bonding
CN105392448B (zh) 2013-03-21 2017-10-20 施菲姆德控股有限责任公司 调节性人工晶状体
US10195018B2 (en) 2013-03-21 2019-02-05 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lens
CN103275249B (zh) * 2013-05-24 2015-04-22 郑州大学 含单乙烯基醚或单丙烯基醚基团的自由基光引发剂及其制备方法
HUE040618T2 (hu) 2013-10-31 2019-03-28 Novartis Ag Eljárás szemészeti lencsék elõállítására
MY183117A (en) 2013-12-13 2021-02-15 Alcon Inc Method for making contact lenses
CN105829081B (zh) 2013-12-17 2017-12-19 诺华股份有限公司 具有交联的亲水性涂层的硅水凝胶镜片
CA2940207C (en) 2014-04-25 2019-09-10 Novartis Ag Hydrophilized carbosiloxane vinylic monomers
JP6355821B2 (ja) 2014-04-25 2018-07-11 ノバルティス アーゲー カルボシロキサンビニル系モノマー
AU2015289798B2 (en) 2014-07-14 2019-09-12 University Of Utah Research Foundation In situ solidifying complex coacervates and methods of making and using thereof
JP6267832B2 (ja) 2014-08-26 2018-01-24 シファメド・ホールディングス・エルエルシー 調節式眼内レンズ
US11002884B2 (en) 2014-08-26 2021-05-11 Alcon Inc. Method for applying stable coating on silicone hydrogel contact lenses
EP3197940B1 (en) 2014-09-26 2023-02-15 Alcon Inc. Polymerizable polysiloxanes with hydrophilic substituents
EP3268804B1 (en) 2015-03-11 2020-11-04 University of Florida Research Foundation, Inc. Mesh size control of lubrication in gemini hydrogels
US9851472B2 (en) 2015-03-27 2017-12-26 Momentive Performance Materials Inc. Silicone-based hydrophilic copolymer and hydrogel compositions comprising the same
ES2835890T3 (es) 2015-04-07 2021-06-23 ACTEGA Schmid Rhyner AG Fotoiniciadores funcionalizados
MY179854A (en) 2015-05-07 2020-11-18 Alcon Inc Method for producing contact lenses with durable lubricious coatings thereon
JP6680870B2 (ja) 2015-09-04 2020-04-15 アルコン インク． その上に耐久性潤滑性コーティングを有するソフトシリコーン医療デバイス
EP3376999B1 (en) 2015-11-18 2021-08-04 Shifamed Holdings, LLC Multi-piece accommodating intraocular lens
US11141263B2 (en) 2015-11-18 2021-10-12 Shifamed Holdings, Llc Multi-piece accommodating intraocular lens
JP6580788B2 (ja) 2015-12-02 2019-09-25 ノバルティス アーゲー 水溶性ｕｖ吸収化合物およびその使用
MY184638A (en) 2015-12-15 2021-04-13 Alcon Inc Method for applying stable coating on silicone hydrogel contact lenses
CA3004158C (en) 2015-12-15 2020-06-30 Novartis Ag Amphiphilic branched polydiorganosiloxane macromers
EP3390497B1 (en) 2015-12-15 2021-01-20 Alcon Inc. Polymerizable polysiloxanes with hydrophilic substituents
US10081142B2 (en) 2015-12-15 2018-09-25 Novartis Ag Method for producing contact lenses with a lubricious surface
MY185317A (en) 2015-12-15 2021-05-03 Novartis Ag Hydrophilized polydiorganosiloxane vinylic crosslinkers and uses thereof
US11054743B2 (en) 2015-12-15 2021-07-06 Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co., Ltd. Fluorene polyfunctional photoinitiator and preparation and use thereof, and photosensitive resin composition containing fluorene photoinitiator and use thereof
US10377933B2 (en) 2016-01-14 2019-08-13 Momentive Performance Materials Inc. Antifog coating composition and method of making thereof
WO2017145023A1 (en) 2016-02-22 2017-08-31 Novartis Ag Soft silicone medical devices
JP6546352B2 (ja) 2016-02-22 2019-07-17 ノバルティス アーゲー Ｕｖ吸収ビニルモノマーおよびその使用
US10268053B2 (en) 2016-02-22 2019-04-23 Novartis Ag UV/visible-absorbing vinylic monomers and uses thereof
US11021558B2 (en) 2016-08-05 2021-06-01 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Polymer compositions containing grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
JP6833171B2 (ja) 2016-09-13 2021-02-24 常州強力先端電子材料有限公司Ｃｈａｎｇｚｈｏｕ Ｔｒｏｎｌｙ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． フルオレン類光開始剤、その製造方法、それを有する光硬化性組成物、及び光硬化分野におけるフルオレン類光開始剤の使用
US10676575B2 (en) * 2016-10-06 2020-06-09 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Tri-block prepolymers and their use in silicone hydrogels
CA3033596C (en) 2016-10-11 2021-02-09 Novartis Ag Polymerizable polydimethylsiloxane-polyoxyalkylene block copolymers
CA3033595C (en) 2016-10-11 2021-06-29 Novartis Ag Chain-extended polydimethylsiloxane vinylic crosslinkers and uses thereof
CA3035490C (en) 2016-10-26 2021-09-14 Novartis Ag Amphiphilic branched polydiorganosiloxane macromers
EP3542193A1 (en) 2016-11-18 2019-09-25 Novartis AG Method for making ophthalmic lenses
JP6954679B2 (ja) 2016-12-23 2021-10-27 シファメド・ホールディングス・エルエルシー マルチピース調節式眼内レンズ、及び同を作成し、使用するための方法
WO2018149370A1 (zh) 2017-02-17 2018-08-23 常州强力先端电子材料有限公司 芴氨基酮类光引发剂、其制备方法及含芴氨基酮类光引发剂的uv光固化组合物
CN110996848B (zh) 2017-05-30 2023-08-04 施菲姆德控股有限责任公司 调节性人工晶状体的表面处理以及相关方法和装置
WO2018227014A1 (en) 2017-06-07 2018-12-13 Shifamed Holdings, Llc Adjustable optical power intraocular lenses
US10875967B2 (en) 2017-06-07 2020-12-29 Alcon Inc. Silicone hydrogel contact lenses
JP6831020B2 (ja) 2017-06-07 2021-02-17 アルコン インク． シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズ
US10843422B2 (en) 2017-06-07 2020-11-24 Alcon, Inc. Method for producing silicone hydrogel contact lenses
CN107325288B (zh) * 2017-06-23 2021-02-12 武汉长盈鑫科技有限公司 一种提高表面固化效果的有机硅改性光引发剂及其制备方法
EP3447475B1 (en) 2017-08-24 2020-06-17 Alcon Inc. Method and apparatus for determining a coefficient of friction at a test site on a surface of a contact lens
MY201826A (en) 2017-12-13 2024-03-19 Alcon Inc Method for producing mps-compatible water gradient contact lenses
JP7410876B2 (ja) 2018-01-26 2024-01-10 フルイデックス メディカル テクノロジー，リミティッド ライアビリティ カンパニー 血管閉塞のためにその場凝固複合コアセルベートを使用する装置及び方法
US10961341B2 (en) 2018-01-30 2021-03-30 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices derived from grafted polymeric networks and processes for their preparation and use
US11034789B2 (en) 2018-01-30 2021-06-15 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic devices containing localized grafted networks and processes for their preparation and use
WO2019162881A1 (en) 2018-02-26 2019-08-29 Novartis Ag Silicone hydrogel contact lenses
TWI772616B (zh) * 2018-03-01 2022-08-01 日商日本化藥股份有限公司 新穎化合物、含有該化合物之光聚合起始劑及含有該光聚合起始劑的感光性樹脂組成物
SG11202007012TA (en) 2018-03-28 2020-10-29 Alcon Inc Method for making silicone hydrogel contact lenses
WO2019234591A1 (en) 2018-06-04 2019-12-12 Alcon Inc. Method for producing silicone hydrogel contact lenses
US11061169B2 (en) 2018-11-15 2021-07-13 Alcon Inc. Contact lens with phosphorylcholine-modified polyvinylalcohols therein
HUE062555T2 (hu) 2018-12-03 2023-11-28 Alcon Inc Eljárás bevonatos szilikonhidrogél-kontaktlencsék elõállítására
WO2020115570A1 (en) 2018-12-03 2020-06-11 Alcon Inc. Method for making coated silicone hydrogel contact lenses
EP3953744B1 (en) 2019-04-10 2025-08-13 Alcon Inc. Method for producing coated contact lenses
US11602910B2 (en) 2019-05-28 2023-03-14 Alcon Inc. Pad transfer printing method for making colored contact lenses
US12521232B2 (en) 2019-07-11 2026-01-13 Shifamed Holdings, Llc Accommodating intraocular lenses and associated methods
US11891526B2 (en) 2019-09-12 2024-02-06 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ink composition for cosmetic contact lenses
US12072556B2 (en) 2019-11-04 2024-08-27 Alcon Inc. Contact lenses with surfaces having different softness
ES2993009T3 (en) 2019-12-16 2024-12-20 Alcon Inc Wettable silicone hydrogel contact lenses
US20210284778A1 (en) 2020-03-11 2021-09-16 Alcon Inc. Photochromic polydiorganosiloxane vinylic crosslinkers
WO2021186380A1 (en) 2020-03-19 2021-09-23 Alcon Inc. Method for producing embedded or hybrid hydrogel contact lenses
TWI788804B (zh) 2020-03-19 2023-01-01 瑞士商愛爾康公司 用於嵌入式接觸鏡片之高折射率矽氧烷插入物材料
AU2021236973B2 (en) 2020-03-19 2024-05-09 Alcon Inc. Insert materials with high oxygen permeability and high refractive index
WO2021186383A1 (en) 2020-03-19 2021-09-23 Alcon Inc. Embedded silicone hydrogel contact lenses
US12247001B2 (en) 2020-05-14 2025-03-11 3M Innovative Properties Company Compounds comprising perfluorinated group, photoinitiator group, and amide linking group
US12358247B2 (en) 2020-07-28 2025-07-15 Alcon Inc. Contact lenses with softer lens surfaces
JP7690041B2 (ja) 2021-02-09 2025-06-09 アルコン インク． 親水化ポリジオルガノシロキサンビニル架橋剤
EP4314118B1 (en) 2021-03-23 2025-04-30 Alcon Inc. Polysiloxane vinylic crosslinkers with high refractive index
US12194698B2 (en) 2021-03-24 2025-01-14 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
EP4313568B1 (en) 2021-04-01 2025-04-30 Alcon Inc. Embedded hydrogel contact lenses
EP4313569B1 (en) 2021-04-01 2026-03-04 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
US11833771B2 (en) 2021-04-01 2023-12-05 Alcon Inc. Method for making photochromic contact lenses
MX2023015075A (es) 2021-06-14 2024-01-18 Alcon Inc Lentes de contacto multifocales difractivas de hidrogel de silicona.
CN117716262A (zh) 2021-09-01 2024-03-15 爱尔康公司 用于生产可润湿硅酮水凝胶接触镜片的方法
US12638613B2 (en) 2021-09-29 2026-05-26 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Ophthalmic lenses and their manufacture by in-mold modification
US12679854B2 (en) 2021-09-29 2026-07-14 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Anthraquinone-functionalized polymerization initiators and their use in the manufacture of ophthalmic lenses
US11912800B2 (en) 2021-09-29 2024-02-27 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Amide-functionalized polymerization initiators and their use in the manufacture of ophthalmic lenses
US12358188B2 (en) 2022-04-26 2025-07-15 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
WO2023209570A1 (en) 2022-04-26 2023-11-02 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
WO2023218324A1 (en) 2022-05-09 2023-11-16 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
EP4529621A1 (en) 2022-05-23 2025-04-02 Alcon Inc. Uv/hevl-filtering contact lenses
KR20240172202A (ko) 2022-05-25 2024-12-09 알콘 인코포레이티드 내장형 히드로겔 콘택트 렌즈의 제조 방법
JP2025525733A (ja) 2022-08-17 2025-08-07 アルコン インク． ハイドロゲルコーティングをその上に有するコンタクトレンズ
TW202500366A (zh) 2023-03-22 2025-01-01 瑞士商愛爾康公司 用於製造嵌入式水凝膠接觸鏡片之方法
WO2024241239A1 (en) 2023-05-25 2024-11-28 Alcon Inc. Coated silicone hydrogel contact lenses and method for making the same
TW202513285A (zh) 2023-06-01 2025-04-01 瑞士商愛爾康公司 用於製造嵌入式水凝膠接觸鏡片之方法
WO2026083258A1 (en) 2024-10-15 2026-04-23 Alcon Inc. Composite contact lenses with ultrathin objects
WO2026105013A1 (en) 2024-11-14 2026-05-21 Alcon Inc. Contact lenses with color filtering zone
WO2026139850A1 (en) 2024-12-23 2026-07-02 Alcon Inc. Pigment encapsulation layer for contact lenses
US20260219423A1 (en) 2025-01-29 2026-07-30 Alcon Inc. Controlled release of dry eye relief agent from contact lens

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4200762A (en) * 1976-10-29 1980-04-29 Thiokol Corporation Actinic radiation curable polymers
US4224454A (en) * 1978-10-13 1980-09-23 Lord Corporation Photoinitiation systems for free radical polymerization reactions
US4303484A (en) * 1979-08-22 1981-12-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photocurable organopolysiloxane compositions
CA1187645A (en) * 1981-01-12 1985-05-21 Kyoichi Tanaka Contact lens and process for preparing the same
JPS58102809A (ja) * 1981-12-11 1983-06-18 フオ−ド・モ−タ−・カンパニ− 液圧弁
DE3586531T2 (de) * 1984-12-12 1993-03-25 Daikin Ind Ltd Kontaktlinsenmaterial.
US4666953A (en) * 1985-03-28 1987-05-19 Loctite Corporation Silicone polyphotoinitiators
US4668240A (en) * 1985-05-03 1987-05-26 Schering Corporation Pigment colored contact lenses and method for making same
JP2546237B2 (ja) * 1986-08-25 1996-10-23 富士ゼロックス株式会社 トナ−の製造方法
JPS6357038A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 株式会社東芝 超音波画像表示装置
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
JPH01109086A (ja) * 1987-10-22 1989-04-26 Oomikku:Kk レンチ
JPH01230603A (ja) * 1988-03-10 1989-09-14 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性組成物
US4983702A (en) * 1988-09-28 1991-01-08 Ciba-Geigy Corporation Crosslinked siloxane-urethane polymer contact lens
DE3844445A1 (de) * 1988-12-31 1990-07-19 Basf Ag Uv-vernetzbare massen auf basis von (meth)-acrylesterpolymerisaten
US5039769A (en) * 1989-10-11 1991-08-13 Ciba-Geigy Coproation Wettable, flexible, oxygen permeable, substantially non-swellable contact lens containing polyoxyalkylene backbone units, and use thereof
US5210111A (en) * 1991-08-22 1993-05-11 Ciba-Geigy Corporation Crosslinked hydrogels derived from hydrophilic polymer backbones
DE59305382D1 (de) * 1992-08-05 1997-03-20 Ciba Geigy Ag Kontaktlinsen aus lipophilisierten Cyclodextrinen

Also Published As

Publication number Publication date
DK0632329T3 (da) 1998-05-04
DE59404708D1 (de) 1998-01-15
FI943129A0 (fi) 1994-06-29
US5612391A (en) 1997-03-18
US5612389A (en) 1997-03-18
US5527925A (en) 1996-06-18
NZ260892A (en) 1996-02-27
PL304064A1 (en) 1995-01-09
IL110171A (en) 1999-04-11
HK1003846A1 (en) 1998-11-06
MX9404973A (es) 1995-01-31
ES2109647T3 (es) 1998-01-16
NO942495D0 (no) 1994-07-01
ATE160888T1 (de) 1997-12-15
NO302026B1 (no) 1998-01-12
JPH0789925A (ja) 1995-04-04
TW328535B (en) 1998-03-21
US5621018A (en) 1997-04-15
FI943129A7 (fi) 1995-01-03
KR950003265A (ko) 1995-02-16
GR3025768T3 (en) 1998-03-31
EP0632329B1 (de) 1997-12-03
NO942495L (no) 1995-01-03
HU219502B (hu) 2001-04-28
AU6603994A (en) 1995-02-23
CZ161094A3 (en) 1995-01-18
CN1102825A (zh) 1995-05-24
AU683256B2 (en) 1997-11-06
HUT69305A (en) 1995-09-28
CA2127200A1 (en) 1995-01-03
HU9402005D0 (en) 1994-09-28
ZA944758B (en) 1995-01-03
JP4053612B2 (ja) 2008-02-27
EP0632329A1 (de) 1995-01-04
IL110171A0 (en) 1994-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4053612B2 (ja) 機能化された光開始剤、そのマクロマー及びその用途
US6204306B1 (en) Functionalized photoinitiators, derivatives and macromers therefrom and their use
JP4188413B2 (ja) 表面を反応性化する方法
US9371308B2 (en) Polymeric photoinitiators
AU701751B2 (en) NCO-terminated vinyl telomers
CA1200647A (en) Actinic radiation cured polyurethane acrylic copolymer
JPH10512239A5 (pl)
CN111514380B (zh) 一种输尿管支架及其制备方法
JP6464803B2 (ja) 活性エネルギー線重合性接着剤組成物、及びそれを用いてなる積層体
CN105693950A (zh) 一种自引发光聚合型有机硅纳米凝胶、其制备方法及用途
CN109957083A (zh) 一种不饱和多元醇及由其制备的可光固化聚氨酯和它们的制造方法
US4125671A (en) Acrylated dithiocarbamyl esters
KR100432211B1 (ko) 내열성이우수한광경화형불소변성우레탄아크릴레이트올리고머의제조방법
İnan et al. Synthesis and characterization of phosphorus‐containing methacrylate‐based difunctional crosslinkers and their use in UV‐curable resin systems
HK1003846B (en) Functionalised photoinitiator, macromeres and their use