PL399607A1 - Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetów magnetronów - Google Patents
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetów magnetronówInfo
- Publication number
- PL399607A1 PL399607A1 PL399607A PL39960712A PL399607A1 PL 399607 A1 PL399607 A1 PL 399607A1 PL 399607 A PL399607 A PL 399607A PL 39960712 A PL39960712 A PL 39960712A PL 399607 A1 PL399607 A1 PL 399607A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- cleaning
- chamber
- pulse
- producing
- magnetron
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 abstract 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 abstract 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gęstości do czyszczenia powierzchni targetów magnetronów w komorze próżniowej do rozpylania magnetronowego, polegający na wywołaniu w gazie szlachetnym lub mieszaninie gazów szlachetnych, podawanych do komory po uprzednim usunięciu z niej powietrza, wyładowań magnetronowych o gęstości prądu 50-900 A/m2 przy użyciu źródła prądowego generującego przebiegi prądowe bipolarne lub jednokierunkowe przebiegi prądowe o polarności ujemnej charakteryzuje się tym, że gaz szlachetny jak argon, krypton, ksenon lub ich mieszaninę o dowolnej proporcji podaje się do komory impulsowo z częstotliwością 1,25-2,4 Hz w czasie 1-190 ms, każdorazowo w ilości (0,1-1,4)x10-6 mol/dm3 komory, przy ciągłym i równoczesnym usuwaniu gazu lub mieszaniny gazów dla obniżania ciśnienia i wywoływania zaniku plazmy.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399607A PL225956B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposob wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetow magnetronow |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL399607A PL225956B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposob wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetow magnetronow |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL399607A1 true PL399607A1 (pl) | 2013-12-23 |
| PL225956B1 PL225956B1 (pl) | 2017-06-30 |
Family
ID=49767871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL399607A PL225956B1 (pl) | 2012-06-21 | 2012-06-21 | Sposob wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetow magnetronow |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL225956B1 (pl) |
-
2012
- 2012-06-21 PL PL399607A patent/PL225956B1/pl unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL225956B1 (pl) | 2017-06-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2011100322A3 (en) | Laser-driven light source | |
| SG10201806990UA (en) | Plasma processing method and plasma processing apparatus | |
| JP2014007432A5 (pl) | ||
| MX2017007356A (es) | Fuente de plasma del catodo hueco. | |
| PL2157205T3 (pl) | Proces impulsowego rozpylania magnetronowego o dużej mocy oraz źródło energii elektrycznej o dużej mocy | |
| MX2011010641A (es) | Esterilizacion de articulos empacados. | |
| IL250987B (en) | Method and device for temporal concentration of each pump to support generation of high peak power pulse bursts or other time-varying laser output waveforms | |
| HRP20201202T1 (hr) | Uređaj za ablaciju iskre i postupak za generiranje nanočestica | |
| WO2009025258A1 (ja) | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | |
| PL399607A1 (pl) | Sposób wytwarzania impulsowej plazmy o wysokiej gestosci do czyszczenia powierzchni targetów magnetronów | |
| RU2007110100A (ru) | Способ плазменной обработки поверхности изделия | |
| RU2008101310A (ru) | Способ комбинированной вакуумной ионно-плазменной обработки изделий | |
| RU2007139182A (ru) | Способ получения углеродного наноматериала, содержащего металл | |
| PH12015502279B1 (en) | Plasma perforation | |
| RU2014154467A (ru) | Водородный генератор электрической энергии | |
| RU2010123803A (ru) | Способ генерации излучения на резонансных переходах атома ртути | |
| TW201322573A (zh) | 雷射控制裝置 | |
| RU2015108566A (ru) | Способ напыления тонкопленочных покрытий на поверхность полупроводниковых гетероэпитаксиальных структур методом магнетронного распыления | |
| RU2012132557A (ru) | Способ определения элементного состава и толщины поверхностной пленки твердого тела при внешнем воздействии на поверхность | |
| RU2010120483A (ru) | Способ генерации излучения на резонансных переходах атома ртути | |
| CN114381702B (zh) | 一种新型高能离子束流产生方法 | |
| RU151645U1 (ru) | Установка модификации поверхности изделия из полипропилена | |
| PL400018A1 (pl) | Sposób wytwarzania plazmy o wysokiej gestosci przeznaczonej do nanoszenia powlok w procesach rozpylania magnetronowego | |
| CN105636329B (zh) | 一种用于小空间的等离子体产生装置 | |
| RU2019121305A (ru) | Способ газоразрядной обработки жидкости |