PL402753A1 - Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO - Google Patents

Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO

Info

Publication number
PL402753A1
PL402753A1 PL402753A PL40275313A PL402753A1 PL 402753 A1 PL402753 A1 PL 402753A1 PL 402753 A PL402753 A PL 402753A PL 40275313 A PL40275313 A PL 40275313A PL 402753 A1 PL402753 A1 PL 402753A1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
layer
nanopillars
hydrothermal method
substrate
zno
Prior art date
Application number
PL402753A
Other languages
English (en)
Other versions
PL226486B1 (pl
Inventor
Bartłomiej Witkowski
Łukasz Wachnicki
Marek Godlewski
Sylwia Gierałtowska
Original Assignee
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk filed Critical Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Priority to PL402753A priority Critical patent/PL226486B1/pl
Publication of PL402753A1 publication Critical patent/PL402753A1/pl
Publication of PL226486B1 publication Critical patent/PL226486B1/pl

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO na podłożu, zawierającym warstwę zarodkującą wzrost. W sposobie tym, warstwą zarodkującą wzrost jest warstwa ZnO, którą osadza się na podłożu w co najmniej jednym cyklu metodą osadzania warstw atomowych (ALD). Następnie podłoże z taką warstwą umieszcza w mieszaninie reakcyjnej o pH od 6,5 do 12, zawierającej co najmniej jeden prekursor tlenu, i co najmniej jeden prekursor cynku, temperaturę mieszaniny podnosi się powyżej 25°C, i przez co najmniej 1 sekundę prowadzi się wzrost nanosłupków ZnO.
PL402753A 2013-02-13 2013-02-13 Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO PL226486B1 (pl)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL402753A PL226486B1 (pl) 2013-02-13 2013-02-13 Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PL402753A PL226486B1 (pl) 2013-02-13 2013-02-13 Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL402753A1 true PL402753A1 (pl) 2014-08-18
PL226486B1 PL226486B1 (pl) 2017-07-31

Family

ID=51302479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL402753A PL226486B1 (pl) 2013-02-13 2013-02-13 Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO

Country Status (1)

Country Link
PL (1) PL226486B1 (pl)

Also Published As

Publication number Publication date
PL226486B1 (pl) 2017-07-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FR2966474B1 (fr) Procede de fabrication d'un materiau nanocristallin
WO2012094537A3 (en) Multi-nary group ib and via based semiconductor
WO2013177269A3 (en) Zirconium-containing precursors for vapor deposition
RU2016116523A (ru) Комбинированные составы бифентрина, включающие высокоплавкие средства защиты растений, для применения с жидкими удобрениями
WO2015091781A3 (en) Method of producing transition metal dichalcogenide layer
IN2014CN03353A (pl)
GB2563520A (en) Method providing for a storage element
SG10201806569PA (en) Pecvd microcrystalline silicon germanium (sige)
MX389406B (es) Pelicula delgada hibrida organica-inorganica y metodo para su preparacion.
GB201100974D0 (en) Metamorphic substrate system and method of manufacture of same
JP2015079946A5 (pl)
SG10201809273VA (en) Light wave separation lattices and methods of forming light wave separation lattices
TW201612956A (en) Method of depositing a layer, method of manufacturing a transistor, layer stack for an electronic device, and an electronic device
WO2014008453A3 (en) Controlled epitaxial boron nitride growth for graphene based transistors
SA515360699B1 (ar) طريقة لترسيب سيليكون متعدد البللورات
FR2968831B1 (fr) Procedes de formation de materiaux massifs de nitrure iii sur des couches matricielles de croissance de nitrure de metal et structures formees par ces procedes
PL402753A1 (pl) Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO
EP3042978A4 (en) Method for depositing oxide layer, and layered substrate for epitaxial growth and process for producing same
GB2541613A (en) Chemical vapor deposition-modified polycrystalline diamond
TW201614716A (en) Atomic layer epitaxy for semiconductor gate stack layer for advanced channel devices
PL400284A1 (pl) Hydrotermalny sposób wytwarzania nanoslupków ZnO na podlozu
PL402754A1 (pl) Hydrotermalny sposób wytwarzania zorientowanych nanosłupków ZnO
PL402755A1 (pl) Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO na podłożu
PL398029A1 (pl) Hydrotermalny sposób wytwarzania nanosłupków ZnO na podłożach półprzewodnikowych
FR2981592B1 (fr) Procede de fabrication par mecanosynthese d'une poudre de czts, son utilisation pour former une couche mince.