PL427186A1 - Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzącychInfo
- Publication number
- PL427186A1 PL427186A1 PL427186A PL42718618A PL427186A1 PL 427186 A1 PL427186 A1 PL 427186A1 PL 427186 A PL427186 A PL 427186A PL 42718618 A PL42718618 A PL 42718618A PL 427186 A1 PL427186 A1 PL 427186A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- bath
- amount
- obtaining
- alloy
- Prior art date
Links
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 title abstract 4
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 title abstract 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title abstract 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title abstract 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 abstract 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 abstract 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- HKIQZBZCKQBMJT-UHFFFAOYSA-J nickel(2+) disulfate Chemical compound [Ni++].[Ni++].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O HKIQZBZCKQBMJT-UHFFFAOYSA-J 0.000 abstract 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P, stanowiąca wodny kwaśny roztwór siarczanu niklu II, kwasu NMTF i kwasu cytrynowego charakteryzuje się tym, że zawiera sól niklu w postaci siarczanu w przeliczeniu na metal 15 ÷ 18 g/dm3, fosfor w postaci kwasu NTMF o wzorze 1 w ilości 100 g/dm3 i kwasu cytrynowego w ilości 10 g/dm3. Przedmiotem zgłoszenia jest również sposób otrzymywania powłoki stopowej Ni-P na podłożach trudno spajalnych, polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli niklu, kwasu NTMF i kwasu cytrynowego charakteryzujący się tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej sól niklu w postaci siarczanu niklu II w przeliczeniu na metal 65 ÷ 85 g/dm3, fosfor w postaci kwasu NTMF (N-tris-metylenofosfonowego) o wzorze 1, w ilości 80 ÷ 100 g/dm3 oraz kwas cytrynowy w ilości 1% wag. odpowiednią mieszaninę tych preparatów dla pH zawartego w granicach 1,5 - 7,5; przy gęstości prądu w zakresie 1,0 ÷ 5,5 A/dm2 przez okres minimum 5 minut.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL427186A1 true PL427186A1 (pl) | 2019-07-29 |
| PL239005B1 PL239005B1 (pl) | 2021-10-25 |
Family
ID=67384437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL239005B1 (pl) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104149412A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-11-19 | 福州大学 | 表面含Ni-P-植酸非晶镀层的高耐蚀自洁钢芯铝绞线 |
| CN106637154A (zh) * | 2016-11-14 | 2017-05-10 | 中国石油天然气集团公司 | 一种利用机械研磨技术在小尺寸金属管内壁制备纳米Ni‑P镀层的装置和方法 |
-
2018
- 2018-09-26 PL PL427186A patent/PL239005B1/pl unknown
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104149412A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-11-19 | 福州大学 | 表面含Ni-P-植酸非晶镀层的高耐蚀自洁钢芯铝绞线 |
| CN106637154A (zh) * | 2016-11-14 | 2017-05-10 | 中国石油天然气集团公司 | 一种利用机械研磨技术在小尺寸金属管内壁制备纳米Ni‑P镀层的装置和方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL239005B1 (pl) | 2021-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104109885B (zh) | 一种弱碱性焦磷酸盐电镀光亮锡溶液及工艺 | |
| JP6951465B2 (ja) | ３価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法 | |
| US2842488A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
| JP4945193B2 (ja) | 硬質金合金めっき液 | |
| AU2018203454A1 (en) | Compositionally modulated zinc-iron multilayered coatings | |
| EP0663460B1 (en) | Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same | |
| WO2014157105A1 (ja) | 亜鉛ニッケル合金めっき液及びめっき方法 | |
| KR20110039460A (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
| US3264199A (en) | Electroless plating of metals | |
| WO2020184289A1 (ja) | マイクロポーラスめっき液およびこのめっき液を用いた被めっき物へのマイクロポーラスめっき方法 | |
| CN103339287A (zh) | 用于沉积锡和锡合金的自催化镀液组合物 | |
| PL427186A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| BRPI0514210B1 (pt) | método de eletrodeposição com uma liga de estanho-zinco | |
| EP1930478B1 (en) | Electrolyte composition and method for the deposition of quaternary copper alloys | |
| US4265715A (en) | Silver electrodeposition process | |
| ES475996A1 (es) | Un metodo de producir depositos electroliticos de zinc bri- llantes. | |
| ES472577A1 (es) | Procedimiento para obtener depositos de galvanoplastia de cinc de lustrosos a brillantes | |
| US4430172A (en) | Method of increasing corrosion resistance in galvanically deposited palladium/nickel coatings | |
| JP6218473B2 (ja) | 無電解Ｎｉ−Ｐ−Ｓｎめっき液 | |
| EP3412799A1 (en) | Compositionally modulated zinc-iron multilayered coatings | |
| JPS6324092A (ja) | 亜鉛−鉄合金の電着用の酸性硫酸塩含有浴 | |
| US3186926A (en) | Electroplating solution containing a diester of selenious acid | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| PL427185A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| JP6426203B2 (ja) | 高リン無電解ニッケル |