Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej i sposób wytwarzania kompozycji powlokowej Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania substancji blonotwórczej i sposób wytwarzania kompozycji powlokowej. W obu sposobach wykorzystuje sie zwiazek fosforoorganiczny. Kompozycja powlokowa moze byc stosowana do podlozy ceramicznych, metalowych, drewnianych i papierowych. Powloki organiczne sa stosowane powszechnie na podloza ceramiczne (glównie szklo), metalowe, drewniane, papierów i z tworzyw sztucznych w celu ich ochrony przed korozja, czynnikami chemicznymi oraz jako wykonczenia dekoracyjno-estetyczne wyrobów. W sklad kompozycji powlokowych wchodza zazwyczaj: substancja blonotwórcza (monome1y, oligomer lub (ko)polimer), rozpuszczalnik lub utwardzacz ( ew. (foto )inicjator) oraz substancje pomocnicze (pigmenty, napelniacze, odpieniacze, plastyfikatory). Utwardzanie kompozycji powlokowej moze odbywac sie poprzez schniecie fizyczne ( odparowanie rozpuszczalnika) lub na drodze reakcji chemicznej (reakcja z utwardzaczem, tlenem atmosferycznym lub polimeryzacja inicjowania rozpadem (foto )inicjatora). Szczególnie dogodnym sposobem jest zastosowanie fotoinicjatorów, dzieki czemu w szybki i ekologiczny sposób (bez uzycia lotnych rozpuszczalników) poprzez naswietlanie kompozycji powlokowej promieniowaniem elektromagnetycznym dochodzi do polimeryzacji substancji blonotwórczej. Istnieje wiele patentów dotyczacych kompozycji fotoutwardzalnych, szczególnie tych bazujacych na (met)akrylanowych monomerach, oligomerach czy (ko)polimerach. Stosunkowo niewiele zas jest rozwiazan ujawniajacych zastosowanie oligomerycznych substancji blonotwórczych zawierajacych terminalne grupy fosforanowe lub fosforynowe. Przykladowo w opisach wynalazków EP0376591 oraz US5191029 ujawniono kompozycje polimerowe skladajace sie z polimerów zawierajacych wiszace lub terminale grupy fosforanowe otrzymywane na drodze polimeryzacji emulsyjnej lub suspensyjnej (rzadziej w rozpuszczalniku organicznym) z estrów (met)akrylanowych i winylowych (np. styrenu, chlorku winylu) oraz monomerów nienasyconych zawierajacych fosfor (tj. fosforany allilowe czy (met)akrylan fosfoetylu) oraz rozpuszczalny w wodzie zwiazek sieciujacy. Z opisu wynalazku US9493585 znany jest sposób otrzymywania kompozycji polimerowej skladajacej sie z produktów PL 441018 A1 2/12polimeryzacji suspensyjnej monomerów nienasyconych zawierajacych fosfor. Z kolei z opisu wynalazku WO2020093010 znany jest sposób otrzymywania kompozycji powlokowej zawierajacej poliole z grupami funkcyjnymi kwasu fosforowego (tj. nienasycone estry fosforanowe glikoli polietero\\ych czy (met)ak.rylan fosfoetylu lub (met)akrylan fosfopropylu), sieciowane termicznie w reakcji z aminoplastami. Z opisu chinskich wynalazków znane sa sposoby otrzymywania fotoutwardzalnych kompozycji powlokowych zawierajacych zywice akrylanowe z fosforem i azotem (CN 113603864), zywice poliuretano-akrylanowe zawierajace fosfor, otrzymywane technika polimeryzacji emulsyjnej (CNI 13122121) oraz zywice akrylanowe zawierajace fosfor otrzymywane z udzialem pieciotlenku fosforu i hydroksyakrylanów w reakcjach estryfikacji i hydrolizy. Natomiast japonski opis ·wynalazku JP2011225853 ujawnia sposób otrzymywania zywic akrylanowych zawierajacych fosfor z epoksyakrylanów i pochodnych fenolu zawierajacych fosfor. Problemem technicznym jest otrzymanie w sposób prosty i proekologiczny substancji blonotwórczych zawierajacych fosfor. Wyzej zaprezentowane rozwiazania bazuja na zastosowaniu polimeryzacji emulsyjnej (lub suspensyJneJ, rzadziej w rozpuszczalniku organicznym), które wiaza sie z koniecznoscia zastosowania medium reakcyjnego (glównie wody), przez co spada wydajnosc polimeru z objetosci reaktora. Oprócz ukladu inicjujacego nalezy stosowac dodatkowe komponenty. Zadne z rozwiazan nie uwzglednia polimeryzacji w masie (ani fototelomeryzacji). Ponadto zródlem fosforu w przedstawionych rozwiazaniach sa nienasycone monomery zawierajace fosfor, które uprzednio nalezy otrzymac. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej, wedlug wynalazku, polegajacy na reakcji monomerów (met)akrylanowych winylowych w obecnosci zwiazku fosforoorganicznego, charakteryzuje sie tym, ze fototelomeryzacji w masie poddaje sie mieszanine 30-50 % wagowych monomeru metakrylanowego zawierajacego od 1 do 12 atomów wegla w lancuchu alkilowym, 20-40 % wagowych monomeru akrylanowego zawierajacego od 1 do 8 atomów wegla w lancuchu alkilowym, 15-20 % wagowych monomeru hydroksyakrylanowego zawierajacego w lancuchu alkilowym do 4 atomów wegla i grupe hydroksylowa i 10-15 % monomeru winylowego. Fototelomeryzacje prowadzi sie w obecnosci O, 7- 1 czesci wagowych fotoinicjatora rodnikowego i 3-5 czesci wagowych zwiazku fosforoorganicznego (telogen), oba na 100 czesci wagowych PL 441018 A1 3/12mieszaninv monomerów. Przygotowana mieszanine skladników umieszcza sie reaktorze szklanym, zapatrzonym w mieszadlo mechaniczne, termopare oraz uklad dozujacy gaz inertny. Opcjonalnie mozna wkraplac czesc mieszaniny do uprzednio umieszczonej czesci mieszaniny w reaktorze. Fototelomeryzacje prowadzi sie z wykorzystaniem naswietlania sredniocisnieniowa lampa rteciowa UV-A o dlugosci fali 320-380 nm lub tasmami LED o dlugosci fali 3 85 ± 5 nm w temperaturze 50-70°C, otrzymujac roztwór prepolimeru, stanowiacy substancje blonotwórcza W sposobie Vf'.fhvarzania substanc_ji blonotv,rórcw_j oligoakrylanm:ve_j v,rykorzysta_jc sie posiadajaca terminalne grupy fosforynowe (A) lub fosforanowe (B). R I o o=b-l"".·'"l 1 --Lvwv••_ O n I R' (A) R I o o=b-oi .... ""J I ·1avvvvv• - O n I R' (B) Jako monomer metakrylanowy stosuje sie estry kwasu metakrylowego zawierajace do 12 atomów wegla w lancuchu alkilowym, których homopolimery charakteryzuje temperatura zeszklenia nie nizsza niz -l 0°C (najlepiej w zakresie 20-100°C). Korzystnie stosuje sie metakrylan metylu, metakrylan etylu, metakrylan n-butylu, metakrylan izobutylu, metakrylan 2-etyloheksylu i/lub metakrylan laurylu. Jako monomery akrylanowe zawierajace do 4 atomów wegla w la11cuchu alikowym stosuje sie estry kwasu akrylowego, których homopolimery charakteryzuje temperatura zeszklenia nizsza niz 0°C. Korzystnie stosuje sie akrylan metylu, akrylan etylu, akrylan n-propylu, akrylan n-butylu, akrylan heksylu i/lub akrylan 2-etyloheksylu Korzystnie jako monomer hydroksyakrylanowy stosuje sie akrylan 2-hydroksyetylu, akrylan 2-hydroksypropylu i/lub akrylan 4-hydroksybutylu. Korzystnie jako monomer winylowy stosuje sie styren, octan winylu i/lub winylotoluen. Korzystnie jako zwiazek fosforoorganiczny stosuje sie organiczny ester kwasu fosfonowego, taki jak fosforyn dimetylu, fosforyn diety lu, fosforyn dibutylu lub fosforyn difenylu. PL 441018 A1 4/12Korzystnie jako zwiazek fosforoorganiczny stosuje sie orgamczny ester kwas fosforowego to jest fosforan di butylu. W sposobie stosuje sie dawke promieniowania UV-A nie mniejsza niz 30 mW/cm 2 oraz stosuje sie temperature od 50 do 70°C i czas naswietlania od 40 do 70 minut. Korzystnie jako fotioinicjator rodnikowy rozpoczynajacy reakcje fototelomeryzacji, w wyniku wzbudzenia czasteczek i ich fotolizy na odpowiednie rodniki stosuje sie a hydroksyfenon i/lub tlenek acylofosiny. Sposób wytwarzania kompozycji powlokowej, wedlug wynalazku, polegajacy na utwardzaniu . . . . . mteszanmy zawteraJaCeJ monomery (met)akrylanowe winylowe w obecnosci zwiazku fosforoorganicznego, charakteryzuje sie tym, ze do substancji blonotwórczej otrzymanej wedlug sposobu opisanego powyzej dodaje sie 1-5 czesci wagowej fotoinicjatora rodnikowego na 100 czesci wagowych substancji blonotwórczej. Skladniki miesza sie, powleka na podloze i uzyskuje sie fotoutwardzalna kompozycje zdolna do utworzenia utwardzonej powloki w wyniku naswietlania za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie UV-A, UV-Bi UV-C o dlugosci fali 230-380 nm. Zgodnie ze sposobem otrzymany w wyniku fototelomeryzacji w masie produkt- roztwór oligoakrylanów w mteszamme nieprzereagowanych monomerów (zwany tez prepolimerem) stanowi substancje blonotwórcza, do której dodaje sie fotoinicjator lub fotoinicjator i monomer sieciujacy a nastepnie poddaje sie fotopolimeryzacji rodnikowej przy zastosowaniu promieniowania elektromagnetycznego w wyniku czego powstaje utwardzona powloka. Korzystnie dodaje sie do I O czesci wagowych monomeru sieciujacego. Opcjonalny dodatek monomeru sieciujacy ma zwiekszyc gestosc usieciowania powloki, przez co prowadzi do zwiekszenia twardosci. Fotoinicjatory rodnikowe dodaje sie po raz drugi w celu fotopolimeryzacji nieprzereagowanych monomerów (met)akrylanowych na etapie naswietlania filmu powlokotwórczego w celu utworzenia utwardzonej powloki. Korzystnie jako fotioinicjator rodnikowy stosuje sie a-hydroksyfenon i/lub tlenek acylofosiny. Korzystnie jako monomer sieciujacy stosuje sie wielofunkcyjny akrylan z dwoma, trzema lub wiecej wiazaniami nienasyconymi (tzw. polifunkcyjne akrylany) taki jak akrylan 1,6- heksanodiolu, triakrylan pentaerytrytolu i/lub uretanoakrylan. PL 441018 A1 /12Zaleta rozw1azama jest to, ze sposób otrzymania substancji blonotwórczej zawierajacej fosfor jest szybki (do kilkudziesieciu minut), malo energochlonny (przy zastosowaniu konwencjonalnych lamp UV lub w formie punktowych tasm LED), bezopadowy (nie wymaga rozdzialu oligomeru od nieprzereagowanych monomerów) i przyjazny dla srodowiska (nie stosuje sie lotnych rozpuszczalników organicznych). Natomiast otrzymana wedlug wynalazku powloka cechuje sie dobrymi wlasciwosciami uzytkowymi (twardoscia i adhezja, szczególnie do podlozy ceramicznych, metalowych czy drewnianych). Wynalazek przedstawiony jest w przykladach wykonania, w których przedstawiono sklad i wanmki otrzymywania substancji blonotwórczej oraz wlasciwosci powlok z kompozycji powlokowej. Otrzymane wedlug przykladów roztwory prepolimerów zostaly zbadane pod katem lepkosci (przy uzyciu wiskozymetru Brookfield'a) oraz konwersji monomerów (metoda tennograwimetryczna, polegajaca na okresleniu suchej masy próbki po ogrzewaniu przez 2h w temperaturze 110°C w wagosuszarce). Natomiast wytworzone na podlozu powloki poddano badaniom adhezji metoda pull-off (wg. PN-EN ISO 4624:2004) oraz twardosci metoda tlumienia wahadla Koeniga na podlozu szklanym (wg. PN-EN ISO 1522). Przyklad I W znajdujacym sie w lazni wodnej w temperaturze 50°C reaktorze szklanym zaopatrzonym w mieszadlo mechaniczne, termometr oraz uklad dozujacy gaz inertny (azot) umieszcza sie mieszanine monomerów, tj. 30 g metakrylanu n-butylu (30 % wag.), 40 g akrylanu metylu ( 40 % wag.), 20 g akrylanu 2-hydroksyetylu (20 % wag.) i I O g octanu winylu (IO % wag.) wraz z 3 g fosforynu di fenylu (3 cz. wag.Il 00 cz. wag. mieszaniny monomerów) oraz 1 g fotoinicjatora rodnikowego w postaci a hydroksyalkilofenonu Omnirad 127 (1 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów). Przed procesem naswietlenia nad mieszanina skladników przepuszcza sie gaz obojetny przez 1 O min. Po tym czasie wlacza sie zródlo promieniowania UV, tj. punktowa lampe sredniocisnieniowa Honle VG UV AHAND 250 GS, i prowadzi proces naswietlania przez 55 min. przy natezeniu promieniowania 20 mW/cm 2 . Tak otrzymany roztwór prepolimeru (substancja blonotwórcza) charakteryzuje sie konwersja monomerów rzedu 54 % wag. i lepkoscia 3 Pa·s. Do 100 g otrzymanej substancji blonotwórczej dodaje sie nastepnie fotoinicjatora rodnikowego Omnirad 819 w ilosci 5 cz. wag. na 100 cz. wag. substancji PL 441018 A1 6/12blonotwórczej. Uzyskana w ten sposób kompozycje powlokowa aplikuje sie na podloze szklane i utwardza za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie w zakresie 230-380 nm przy dawce promieniowania UV 4J/cm 2 . Wyniki bada11 zestawiono w tabeli. Przyklad II W znajdujacym sie w lazni wodnej w temperaturze 70°C reaktorze szklanym zaopatrzonym w mieszadlo mechaniczne, termometr oraz uklad dozujacy gaz inertny (azot) umieszcza sie mieszanine monomerów, tj. 50 g metakrylanu metylu (50 % wag.), g akrylanu butylu (20 % wag.), 15 g akrylanu hydroksybutylu (15 % wag.) i 15 g styrenu (15 % wag.) wraz z 4 g fosforynu dimetylu (4 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów) oraz O, 7 g fotoinicjatora rodnikowego w postaci tlenku acylofosfiny Omnirad 819 (0,7 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów). Przed procesem naswietlenia nad mieszanina skladników przepuszcza sie gaz obojetny przez 10 min. Po tym czasie wlacza sie zródlo promieniowania UV, ti. punktowa lampe sredniocisnieniowa Honle VG UVAHAND 250 GS, i prowadzi proces naswietlania przez 70 min. przy natezeniu promieniowania l O mW/cm 2 . Tak otrzymany roztwór prepolimeru (substancja blonotwórcza) charakteryzuje sie konwersja monomerów rzedu 60 % wag. i lepkoscia 1,2 Pas. Do 100 g otrzymanej substancji blonotwórczej dodaje sie nastepnie fotoinicjatora rodnikowego Omnirad 184 w ilosci 1 cz. wag. oraz 10 cz. wag. monomeru sieciujacego (triakrylan pentaerytrytolu), oba na 100 cz. wag. substancji blonotwórczej. Uzyskana w ten sposób kompozycje powlokowa aplikuje sie na podloze stalowe i utwardza za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie w zakresie 230- 380 nm przy dawce promieniowania UV 8J/cm 2 . Wyniki badan zestawiono w tabeli. Przyklad ITT W znajdujacym sie w lazni wodnej w temperaturze 50°C reaktorze szklanym zaopatrzonym w mieszadlo mechaniczne, termometr oraz uklad dozujacy gaz inertny (azot) umieszcza sie mieszanine monomerów, tj. 35 g metakrylanu 2-etyloheksylu (35 % wag.), 35 g akrylanu metylu (35 % wag.), 18 g akrylanu 2-hydroksypropylu (18 % wag.) i 12 g winylotoluenu (12 % wag.) wraz z 5 g fosforynu dibutylu (3 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów) oraz 0,8 g fotoinicjatora rodnikowego w postaci tlenku acylofosfint Omnirad TPOL (0,8 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów). Przed procesem naswietlenia nad mieszanina skladników przepuszcza sie gaz obojetny przez PL 441018 A1 7/12I O mm. Po tym czasie wlacza sie zródlo promieniowania UV, tj. punktowa lampe sredniocisnieniowa Ronie VG UVAHAND 250 GS, i prowadzi proces naswietlania przez 55 min. przy natezeniu promieniowania 30 mW/cm 2 . Tak otrzymany roztwór prepolimeru (substancja blonotwórcza) charakteryzuje sie konwersja monomerów rzedu 58 % wag. i lepkoscia 2,1 Pa·s. Do 100 g otrzymanje substancji blonotwórczej dodaje sie nastepnie fotoinicjatora rodnikowego Omnirad TPO w ilosci 2 cz. wag. oraz 5 cz. wag. monomeru sieciujacego (diak.rylan 1,6-hek.sanodiolu), oba na 100 cz. wag. substancji blonotwórczej. Uzyskana w ten sposób kompozycje powlokowa aplikuje sie na podloze drewniane i utwardza za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie w zakresie 230-380 nm przy dawce promieniowania UV 8J/cm 2 . Wyniki badan zestawiono w tabeli. Przyklad IV W znajdujacym sie w lazni wodnej w temperaturze 60°C reaktorze szklanym zaopatrzonym w mieszadlo mechaniczne, termometr oraz uklad dozujacy gaz ine11ny (azot) umieszcza sie mieszanine monomerów, tj. 32 g metakrylanu etylu (32 % wag.), 25 g akrylanu n-propylu (25 % wag.), 15 g akrylanu 2-hydroksyetylu (l 5 % wag.) i 28 g styrenu (28 % wag.) wraz z 3 g fosforanu di butylu (3 cz. wag/I 00 cz. wag. mieszaniny monomerów) oraz 0,75 g fotoinicjatora rodnikowego w postaci tlenu acylofosfiny Omnirad 2100 (0,75 cz. wag./100 cz. wag. mieszaniny monomerów). Przed procesem naswietlenia nad mieszanina skladnik.ów przepuszcza sie gaz obojetny przez 1 O min. Po tym czasie wlacza sie zródlo promieniowania UV, (i. punktowa lampe sredniocisnieniowa Honle VG UV AHA ND 250 GS, i prowadzi proces naswietlania przez 65 min. przy natezeniu promieniowania 20 mW/cm 2 . Tak otrzymany roztwór prepolimeru (substancja blonotwórcza) charakteryzuje sie konwersja monomerów rzedu 62 °'Ó wag. i lepkoscia 4,2 Pa s. Do 100 g otrzymanej substancji blonotwórczej dodaje sie nastepnie fotoinicjatora rodnikowego Omnirad 127 w ilosci 1 cz. wag. oraz monomeru sieciujacego w postaci uretanoakrylanu Ebecryl 8810 w ilosci 2 cz. wag. na 100 cz. wag. substancji blonotwórczej. Uzyskana w ten sposób kompozycje powlokowa aplikuje sie na podloze si utwardza za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie w zakresie 230-380 nm przy dawce promieniowania UV 6J/cm 2 . Wyniki badan zestawiono w tabeli. PL 441018 A1 8/12Tabela Numer przykladu Adhezja [MPa] Twardosc Li. u.] I 5,8 ± 0,8 112±13 II 8,8 ± 0,7 125 ± 10 III 7,9 ± 0,7 98 ± 6 IV 12,3 ± 1,2 104 ± 7 PL 441018 A1 9/12Zastrzezenia patentowe 1. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej polegajacy na reakcji monomerów (met)akrylanowych i winylowych w obecnosci zwiazku fosforoorganicznego, znamienny tym, ze fototelomeryzacji w masie poddaje sie mieszanine 30-50 % wagowych monomeru metakrylanowego zawierajacego od 1 do 12 atomów wegla w lancuchu alkilowym, 20-40 % wagowych monomeru akrylanowego zawierajacego od I do 8 atomów wegla w lancuchu alkilowym, 15-20 % wagowych monomeru hydroksyakrylanowego zawierajacego w lancuchu alkilowym do 4 atomów wegla 1 grupe hydroksylowa 10-15 0/ o monomeru winvlowe 0 o . u ' przy czym fototelomeryzacje prowadzi sie w obecnosci 0,7- 1 czesci wagowy fotoinicjatora rodnikowego i 3-5 czesci wagowych zwiazku fosforoorganicznego, oba na 100 czesci wagowych mieszaniny monomerów, przy czym fototelomeryzacje prowadzi sie z wykorzystaniem naswietlania sredniocisnieniowa lampa rteciowa UV-A o dlugosci fali 320-380 nm lub tasmami LED o dlugosci fali 385 ± 5 nm w temperaturze 50- 700C, otrzymujac roztwór prepolimeru, stanowiacy substancje blonotwórcza 2. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako monomer metakrylanowy stosuje sie metakrylan metylu, metakrylan etylu, metakrylan n-butylu, metakrylan izobutylu, metakrylan 2-etyloheksylu i/lub metakrylan laurylu. 3. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako monomer akrylanowy stosuje sie akrylan metylu, akrylan etylu, akrylan n propylu, akrylan n-butylu, akrylan heksylu i/lub akrylan 2-etyloheksylu 4. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz.1, znamienny tym, ze jako monomer hydroksyakrylanowy stosuje sie akrylan 2-hydroksyetylu, akrylan 2- hydroksypropylu i/lub akrylan 4-hydroksybutylu. . Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. l, znamienny tym, ze jako monomer winylowy stosuje sie styren, octan winylu i/lub winylotoluen. 6. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. l, znamienny tym, ze jako zwiazek fosforoorganiczny stosuje sie organiczny ester kwasu fosfonowego, taki jak fosforyn dimetylu, fosforyn dietylu, fosforyn dibutylu lub fosforyn difenylu. PL 441018 A1 /127. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. I, znamienny tym, ze jako zwiazek fosforoorganiczny stosuje sie organiczny ester kwas fosforowego to jest fosforan dibutylu. 8. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze stosuje sie dawke promieniowania UV-A nie mniejsza niz 30 mW/cm 1 oraz stosuje sie temperature od 50 do 70°C i czas naswietlania od 40 do 70 minut. 9. Sposób wytwarzania substancji blonotwórczej wedlug zastrz. I, znamienny tym, ze jako fotioinicjator rodnikowy stosuje sie a-hydroksyfenon i/lub tlenek acylofosiny. 1 O Sposób ,vytwarzania kompozycji powlokowej polegajacy na utwardzaniu mieszaniny zawierajacej monomery (met)akrylanowe i winylowe w obecnosci zwiazku fosforoorganicznego, znamienny tym, ze do substancji blonotwórczej otrzymanej wedlug sposobu opisanego w zastrzezeniach 1-9 dodaje sie 1-5 czesci wagowej fotoinicjatora rodnikowego na 100 czesci wagowych substancji blonotwórczej, miesza sie, powleka na podloze i uzyskuje sie fotoutwardzalna kompozycje zdolna do utworzenia utwardzonej powloki w wyniku naswietlania za pomoca sredniocisnieniowej lampy rteciowej emitujacej promieniowanie UV-A, UV-Bi UV C o dlugosci fali 230-380 nm. 11. Sposób wytwarzania kompozycji powlokowej wedlug zastrz. 1 O, znamienny tym, ze dodaje sie do 10 czesci wagowych monomeru sieciujacego. 12. Sposób wytwarzania kompozycji powlokowej wedlug zastrz. 10, znamienny tym, ze jako fotioinicjator rodnikowy stosuje sie a-hydroksyfenon i/lub tlenek acylofosiny. 13. Sposób wytwarzania kompozycji powlokowej wedlug zastrz. I O, znamienny tym, ze jako monomer sieciujacy stosuje sie wielofunkcyjny akrylan taki jak akrylan 1,6- heksanodiolu, triakrylan pentaerytrytolu i/lub uretanoakrylan. PL 441018 A1 11/12al. Niepodleglosci 188/192 00-950 Warszawa, skr. poczt. 203 URZAD PATENTOWY RZECZYPOSPOLITEJ POLSKIEJ tel.: (+48) 22 579 05 5 5 I fax: (+48) 22 579 00 Ol e-mail: kontakt@uprp.gov.pl I www.uprp.gov.pl SPRAWOZDANIE O STANIE TECHNIKI ZGLOSZENIA NR P.441018 Klasyfikacja zgloszenia IPC: C09D4/02 (2006.01), C09D125/08(2006.01), C09D131/04(2006.01), C09D133 /08(2006.01 ), C09D 133 /10(2006.01 ), C0SKS /521 (2006.01) klasyfikacja CPC: C09D4/02, C09D125/08, C09D131/04, C09D133/08, C09D133/10, COBKS/521 Poszukiwanie prowadzone w klasach: C09D, C0BK Bazy komputerowe w których prowadzono poszukiwania: epoquenet, polskie bazy danych, espacenet, depatisnet, Kategoria Dokumentu Dokumenty - z podana identyfikacja Odniesienie do zastrz. A A A A US2018002558A1 (THE SHERWIN-WILLIAMS COMPANY [US], 04.01.2018r.) EP2133375A1 (ROHM & HAAS [US], 16.12.2009r.,) KR101811559B1 (HEO YEONG HO [KR] .01.2018r.) WO2016063624A1 (DAINIPPON INK & CHEMICALS [JP], 28.04.2016r.) A - dokument okreslajacy ogólny stan techniki, który nie jest uwazany za posiadajacy szczególne znaczenie, E - dokument stanowiacy wczesniejsze zgloszenie lub patent, ale opublikowany w lub po dacie zgloszenia, 1-13 1-13 1-13 1-13 L - dokument, który moze poddawac w watpliwosc zastrzegane pierwszenstwo(-wa), lub przytoczony w celu ustalenia daty publikacji innego cytowanego dokumentu lub z innego szczególnego powodu, O - dokument odnoszacy sie do ujawnienia ustnego przez zastosowanie, vvystavvienie lub ujavvnienie w inny sposób, P - dokument opublikowany przed data zgloszenia, ale pózniej niz zastrzegana data pierwszenstwa, T- dokument pózniejszy, opublikowany po dacie zgloszenia lub w dacie pierwszenstwa i niebedacy w konflikcie ze zgloszeniem, ale cytowany w celu zrozumienia zasad lub teorii lezacych u podstaw wynalazku, X - dokument o szczególnym znaczeniu; zastrzegany wynalazek nie moze byc uwazany za nowy lub nie moze byc uwazany za posiadajacy poziom wynalazczy, jezeli ten dokument brany jest pod uwage samodzielnie, Y - dokument o szczególnym znaczeniu; zastrzegany wynalazek nie moze byc uwazany za posiadajacy poziom wynalazczy, jezeli ten dokument zostanie poL 1 czony z jednym lub kilkoma tego typu dokumentami, a takie polaczenie bedzie oczywiste dla znawcy, & - dokument nalezacv do tej samej rodziny patentowej. Sprawozdanie wykonal: Marina Sienkiewicz data 30.05.2022r. podpisano kwalifikowanym podpisem elektronicznym/ Pismo wydane w formie dokumentu elektronicznego Uwagi do zgloszenia Sprawozdanie zostalo wykonane w oparciu o wersje zastrzezen patentowych z dnia 26.04.2022r. PL 441018 A1 12/12 PL