RU2012137721A - Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости - Google Patents
Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012137721A RU2012137721A RU2012137721/04A RU2012137721A RU2012137721A RU 2012137721 A RU2012137721 A RU 2012137721A RU 2012137721/04 A RU2012137721/04 A RU 2012137721/04A RU 2012137721 A RU2012137721 A RU 2012137721A RU 2012137721 A RU2012137721 A RU 2012137721A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- atom
- polymer composition
- integers
- satisfy
- photosensitive polymer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract 13
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 9
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims abstract 9
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract 8
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
- B41J2/1639—Manufacturing processes molding sacrificial molding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B69/00—Dyes not provided for by a single group of this subclass
- C09B69/001—Dyes containing an onium group attached to the dye skeleton via a bridge
- C09B69/004—Sulfonium group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B69/00—Dyes not provided for by a single group of this subclass
- C09B69/10—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds
- C09B69/109—Polymeric dyes; Reaction products of dyes with monomers or with macromolecular compounds containing other specific dyes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
1. Светочувствительная полимерная композиция, содержащая(a) эпоксидная смола, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты;(b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2),где R-Rпредставляет собой структуры, содержащие по меньшей мере одну органическую группу, выбранную из тиоксантоновой структуры или антрахиноновой структуры;Х представляет собой атом углерода, при этом Y выбран из -S(=O)-, -CF-O-, -CF-C(=O)-, -CF-C(=O)-O- и -CF-O-C(=O)-, Rпредставляет собой углеводородную группу, состоящую из 1-30 атомов углерода; когда Y представляет собой -S(=O)-, то углеводородная группа, представленная R, содержит, по меньшей мере, один атом фтора;Х представляет собой атом фосфора или атом бром, Rпредставляет собой углеводородную группу из 1-30 атомов углерода, содержащую, по меньшей мере, один атом фтора, при этом Х и Rнепосредственно связаны друг с другом, а Y представляет собой простую связь;когда Х представляет собой атом углерода, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=3 и n=0-2?когда Х представляет собой атом фосфора, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=6 и n=0-6,когда Х представляет собой атом бора, m и n представляет собой целые, которые удовлетворяют m+n=4 и n=0-3;где компонент (b) поглощает по меньшей мере 50% количества света с длиной волны 365 нм, поглощенного светочувствительной полимерной композицией, и(а) низкомолекулярное соединение, содержащее два или более бензольных колец или конденсированное кольцо в молекуле.2. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, ч
Claims (6)
1. Светочувствительная полимерная композиция, содержащая
(a) эпоксидная смола, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты;
(b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2),
где R1-R3 представляет собой структуры, содержащие по меньшей мере одну органическую группу, выбранную из тиоксантоновой структуры или антрахиноновой структуры;
Х представляет собой атом углерода, при этом Y выбран из -S(=O)2-, -CF2-O-, -CF2-C(=O)-, -CF2-C(=O)-O- и -CF2-O-C(=O)-, R4 представляет собой углеводородную группу, состоящую из 1-30 атомов углерода; когда Y представляет собой -S(=O)2-, то углеводородная группа, представленная R4, содержит, по меньшей мере, один атом фтора;
Х представляет собой атом фосфора или атом бром, R4 представляет собой углеводородную группу из 1-30 атомов углерода, содержащую, по меньшей мере, один атом фтора, при этом Х и R4 непосредственно связаны друг с другом, а Y представляет собой простую связь;
когда Х представляет собой атом углерода, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=3 и n=0-2?
когда Х представляет собой атом фосфора, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=6 и n=0-6,
когда Х представляет собой атом бора, m и n представляет собой целые, которые удовлетворяют m+n=4 и n=0-3;
где компонент (b) поглощает по меньшей мере 50% количества света с длиной волны 365 нм, поглощенного светочувствительной полимерной композицией, и
(а) низкомолекулярное соединение, содержащее два или более бензольных колец или конденсированное кольцо в молекуле.
2. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что Х в компоненте (b) представляет собой атом фосфора.
3. Светочувствительная полимерная композиция по п.2, отличающаяся тем, что структуры компонента (b), представленного R1-R3, содержат по меньшей мере две тиоксантоновые структуры, Y представляет собой простую связь, R4 представляет собой CF3 или C2F5, и m равно по меньшей мере 3.
4. Светочувствительная полимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит (с) соединение, способное дезактивировать кислоту, полученную из компонента (b) после экспонирования светом.
5. Способ получения структуры, причем способ включает в данном порядке:
обеспечение субстратом, содержащим слой светочувствительной полимерной композиции для получения структуры, причем светочувствительная полимерная композиция содержит
(a) эпоксидная смола, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; и
(b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1) ниже, и структуру анионной части, представленную формулой (b2) ниже,
где R1-R3 представляет собой структуры, содержащие по меньшей мере одну органическую группу, выбранную из тиоксантоновой структуры или антрахиноновой структуры;
Х представляет собой атом углерода, при этом Y выбран из -S(=O)2-, -CF2-O-, -CF2-C(=O)-, -CF2-C(=O)-O- и -CF2-O-C(=O)-, R4 представляет собой углеводородную группу, состоящую из 1-30 атомов углерода; когда Y представляет собой -S(=O)2-, то углеводородная группа, представленная R4, содержит, по меньшей мере, один атом фтора;
Х представляет собой атом фосфора или атом бром, R4 представляет собой углеводородную группу из 1-30 атомов углерода, содержащую, по меньшей мере, один атом фтора, при этом Х и R4 непосредственно связаны друг с другом, а Y представляет собой простую связь;
когда Х представляет собой атом углерода, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=3 и n=0-2?
когда Х представляет собой атом фосфора, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=6 и n=0-6,
когда Х представляет собой атом бора, m и n представляет собой целые, которые удовлетворяют m+n=4 и n=0-3,
где компонент (b) поглощает по меньшей мере 50% количества света с длиной волны 365 нм, поглощенного светочувствительной полимерной композицией,
облучение слоя светом, затем отверждение облученной части и удаление неотвержденной части; и
нагревание отвержденной части при температуре по меньшей мере 140 градусов Цельсия для получения структуры.
6. Головка для подачи жидкости, содержащая
элемент отверстия для подачи, содержащий отверстие для подачи, сконструированное для подачи жидкости,
в которой элемент отверстия для подачи получают из продукта отверждения светочувствительной полимерной композиции, содержащей
(a) эпоксидная смола, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; и
(b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1) ниже, и структуру анионной части, представленную формулой (b2) ниже,
где R1-R3 представляет собой структуры, содержащие по меньшей мере одну органическую группу, выбранную из тиоксантоновой структуры или антрахиноновой структуры;
Х представляет собой атом углерода, при этом Y выбран из -S(=O)2-, -CF2-O-, -CF2-C(=O)-, -CF2-C(=O)-O- и -CF2-O-C(=O)-, R4 представляет собой углеводородную группу, состоящую из 1-30 атомов углерода; когда Y представляет собой -S(=O)2-, то углеводородная группа, представленная R4, содержит, по меньшей мере, один атом фтора;
Х представляет собой атом фосфора или атом бром, R4 представляет собой углеводородную группу из 1-30 атомов углерода, содержащую, по меньшей мере, один атом фтора, при этом Х и R4 непосредственно связаны друг с другом, а Y представляет собой простую связь;
когда Х представляет собой атом углерода, m и n представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=3 и n=0-2?
когда Х представляет собой атом фосфора, тип представляют собой целые, которые удовлетворяют m+n=6 и n=0-6,
когда Х представляет собой атом бора, m и n представляет собой целые, которые удовлетворяют m+n=4 и n=0-3,
где компонент (b) поглощает по меньшей мере 50% количества света с длиной волны 365 нм, поглощенного светочувствительной полимерной композицией.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010024681 | 2010-02-05 | ||
| JP2010-024681 | 2010-02-05 | ||
| PCT/JP2011/000549 WO2011096195A1 (en) | 2010-02-05 | 2011-02-01 | Photosensitive resin composition, method for producing structure, and liquid discharge head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012137721A true RU2012137721A (ru) | 2014-03-10 |
| RU2526258C2 RU2526258C2 (ru) | 2014-08-20 |
Family
ID=44355213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012137721/04A RU2526258C2 (ru) | 2010-02-05 | 2011-02-01 | Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8980968B2 (ru) |
| EP (2) | EP3064996B1 (ru) |
| JP (1) | JP5822477B2 (ru) |
| CN (1) | CN102754028B (ru) |
| RU (1) | RU2526258C2 (ru) |
| WO (1) | WO2011096195A1 (ru) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5787720B2 (ja) * | 2010-12-16 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
| JP6120574B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2017-04-26 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物、微細構造体、微細構造体の製造方法及び液体吐出ヘッド |
| TWI545118B (zh) * | 2012-09-15 | 2016-08-11 | 羅門哈斯電子材料有限公司 | 酸產生劑化合物及包含該化合物之光阻劑 |
| JP6071718B2 (ja) | 2013-04-10 | 2017-02-01 | キヤノン株式会社 | 感光性ネガ型樹脂組成物 |
| CN106458879A (zh) * | 2014-05-13 | 2017-02-22 | 东洋合成工业株式会社 | 鎓盐、光酸产生剂、感光性树脂组合物及装置的制造方法 |
| KR102272225B1 (ko) * | 2016-06-09 | 2021-07-01 | 산아프로 가부시키가이샤 | 술포늄염, 광산 발생제, 경화성 조성물 및 레지스트 조성물 |
| US9938136B2 (en) * | 2016-08-18 | 2018-04-10 | Stmicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd | Fluid ejection device |
| US20190056659A1 (en) * | 2017-08-21 | 2019-02-21 | Funai Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing mems devices using multiple photoacid generators in a composite photoimageable dry film |
| JP7413039B2 (ja) * | 2020-01-22 | 2024-01-15 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP2021151992A (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP7795866B2 (ja) * | 2020-04-22 | 2026-01-08 | 住友化学株式会社 | カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| JP7777969B2 (ja) * | 2021-12-02 | 2025-12-01 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体 |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1526923A (en) * | 1974-09-18 | 1978-10-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| IE42085B1 (en) * | 1974-09-18 | 1980-06-04 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| EP0641654B1 (en) | 1990-04-27 | 1997-07-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Recording method and apparatus |
| JPH0412859A (ja) | 1990-04-28 | 1992-01-17 | Canon Inc | 液体噴射方法、該方法を用いた記録ヘッド及び該方法を用いた記録装置 |
| US5639802A (en) * | 1991-05-20 | 1997-06-17 | Spectra Group Limited, Inc. | Cationic polymerization |
| JPH07145346A (ja) | 1993-11-22 | 1995-06-06 | Dainippon Ink & Chem Inc | ソルダーレジストインキ用樹脂組成物 |
| JPH08157510A (ja) * | 1994-12-09 | 1996-06-18 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH0925393A (ja) | 1995-05-09 | 1997-01-28 | Toray Ind Inc | 繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび繊維強化複合材料 |
| JPH0912615A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH107680A (ja) * | 1996-06-18 | 1998-01-13 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| EP0844255A1 (en) * | 1996-06-12 | 1998-05-27 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photopolymerization initiator and actinic radiation-curable composition comprising the same |
| JPH10152554A (ja) * | 1996-11-21 | 1998-06-09 | Nippon Kayaku Co Ltd | エネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH10212286A (ja) | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Nippon Kayaku Co Ltd | 光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPH11322900A (ja) | 1998-03-19 | 1999-11-26 | Nippon Soda Co Ltd | 光硬化性組成物および硬化方法 |
| JP4385437B2 (ja) * | 1999-05-10 | 2009-12-16 | Ｊｓｒ株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびそれを用いたカラーフィルタ |
| WO2001096958A2 (en) | 2000-06-15 | 2001-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Process for producing microfluidic articles |
| JP3978601B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2007-09-19 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP3880912B2 (ja) | 2002-10-10 | 2007-02-14 | ジャパンエポキシレジン株式会社 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
| KR101197539B1 (ko) * | 2003-11-04 | 2012-11-12 | 헨켈 아게 운트 코. 카게아아 | 술포늄염 광개시제 및 그의 용도 |
| JP4593309B2 (ja) | 2005-01-21 | 2010-12-08 | 東京応化工業株式会社 | 精密微細空間の天板部形成方法 |
| JP2006241384A (ja) | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版及びその製造方法 |
| JP2007034153A (ja) | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 |
| US20080292993A1 (en) | 2006-12-22 | 2008-11-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Photo-cationic polymerizable epoxy resin composition, liquid discharge head, and manufacturing method thereof |
| JP4355725B2 (ja) | 2006-12-25 | 2009-11-04 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP4564977B2 (ja) | 2007-04-05 | 2010-10-20 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス |
| JP2008292993A (ja) | 2007-04-24 | 2008-12-04 | Ricoh Co Ltd | 画像形成装置 |
| JP5039442B2 (ja) | 2007-06-15 | 2012-10-03 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 |
| JP4998112B2 (ja) * | 2007-06-27 | 2012-08-15 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物 |
| JP2010276623A (ja) | 2008-03-26 | 2010-12-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 立体基板上に透明樹脂構造体を形成させる方法 |
| JP2009244779A (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| JP2009258506A (ja) | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Fujifilm Corp | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP5208573B2 (ja) * | 2008-05-06 | 2013-06-12 | サンアプロ株式会社 | スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物及びこの硬化体 |
| JP5247396B2 (ja) | 2008-07-02 | 2013-07-24 | 日本化薬株式会社 | Ｍｅｍｓ用感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
| EP2441778A1 (en) | 2009-06-08 | 2012-04-18 | Sanyo Chemical Industries, Ltd. | Photosensitive composition |
-
2011
- 2011-02-01 US US13/576,895 patent/US8980968B2/en active Active
- 2011-02-01 WO PCT/JP2011/000549 patent/WO2011096195A1/en not_active Ceased
- 2011-02-01 EP EP16000494.1A patent/EP3064996B1/en not_active Not-in-force
- 2011-02-01 CN CN201180008124.9A patent/CN102754028B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-02-01 EP EP11739545.9A patent/EP2531890B1/en active Active
- 2011-02-01 RU RU2012137721/04A patent/RU2526258C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2011-02-03 JP JP2011021767A patent/JP5822477B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011180586A (ja) | 2011-09-15 |
| US20120292412A1 (en) | 2012-11-22 |
| EP2531890B1 (en) | 2019-08-28 |
| EP2531890A1 (en) | 2012-12-12 |
| CN102754028A (zh) | 2012-10-24 |
| WO2011096195A1 (en) | 2011-08-11 |
| JP5822477B2 (ja) | 2015-11-24 |
| CN102754028B (zh) | 2015-06-03 |
| US8980968B2 (en) | 2015-03-17 |
| EP3064996B1 (en) | 2020-07-22 |
| EP3064996A1 (en) | 2016-09-07 |
| RU2526258C2 (ru) | 2014-08-20 |
| EP2531890A4 (en) | 2013-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012137721A (ru) | Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости | |
| JP2013525551A5 (ru) | ||
| He et al. | Methyl benzoylformate derivative norrish type I photoinitiators for deep-layer photocuring under near-UV or visible LED | |
| KR101869619B1 (ko) | 광 염기 발생제 | |
| JP2015062072A5 (ru) | ||
| ES2603838T3 (es) | Composiciones fotocurables catiónicas térmicamente estables | |
| JP2008268931A5 (ru) | ||
| JP2012106486A5 (ru) | ||
| JP5422872B2 (ja) | 光硬化性組成物の硬化方法 | |
| CN102971381A (zh) | 可按需固化的聚硅氧烷涂层组合物 | |
| JP2009258723A5 (ru) | ||
| JP2011180586A5 (ru) | ||
| ATE516331T1 (de) | Silikonharzfilm, herstellungsverfahren dafür und mit nanomaterial gefüllte silikonzusammensetzung | |
| Lalevée et al. | Dye photosensitized cationic ring-opening polymerization: Search for new dye skeletons | |
| Zhang et al. | Cationic photoinitiators for near UV and visible LEDs: a particular insight into one‐component systems | |
| CN104181772B (zh) | 一类以联苯为共轭结构的双光子活性光生酸剂、制备方法及其应用 | |
| JP2013077748A5 (ru) | ||
| CN108440688A (zh) | 一类姜黄素衍生物在可见光固化领域的应用 | |
| Dumur | Recent advances in monocomponent visible light photoinitiating systems based on sulfonium salts | |
| JP2013087248A5 (ru) | ||
| JP6223357B2 (ja) | 硬化性ポリシロキサン組成物及びそれらから作製される感圧接着剤 | |
| JP2018180151A5 (ru) | ||
| JP2009109541A5 (ru) | ||
| JP2015507678A5 (ru) | ||
| JP2011219515A (ja) | 光カチオン重合性を有する光重合増感剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20210202 |