TH24791A - วิธีสำหรับการบ่มชั้นบางของสปิน-ออน-กลาสส์ โดยการฉายลำแสงอิเล็คตรอน - Google Patents
วิธีสำหรับการบ่มชั้นบางของสปิน-ออน-กลาสส์ โดยการฉายลำแสงอิเล็คตรอนInfo
- Publication number
- TH24791A TH24791A TH9601001426A TH9601001426A TH24791A TH 24791 A TH24791 A TH 24791A TH 9601001426 A TH9601001426 A TH 9601001426A TH 9601001426 A TH9601001426 A TH 9601001426A TH 24791 A TH24791 A TH 24791A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- spin
- glass
- electron beam
- base layer
- infrared
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 abstract 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 1
Abstract
วิธีการให้สัมผัสกับลำแสงอิเล็คตรอนถูกอธิบายซึ่งให้วิธีการบ่มสปิน-ออน-กลาสส์ ที่เกิดบนแผ่นบางกึ่งตัวนำ (semico nductor wafes) ซึ่งคั่นชั้นโลหะที่เป็นตัวนำด้วยฉนวน และทำให้พื้นผิวราบเรียบในขบวนการผลิตวงจรอินทิเกรตที่ มีหลายชั้น (multilayered integrated circuit) วิธี นี้ใช้ระบบการสัมผัสลำแสงอิเล็คตรอนที่สม่ำเสมอในบรรยา กาศ ของสูญญากาศที่อ่อน แผ่นบางที่เคลือบด้วยสปิน-ออน- กลาสส์ ที่เป็นไซลอกเซนซึ่งไม่ได้ถูกบ่ม ถูกฉายด้วยอิเล็ค ตรอนที่มีพลังงานเพียงพอสำหรับเจาะทะลุความหนาทั้งหมด ของสปิน-ออน- กลาสส์ และถูกให้ความร้อนในเวลาเดียว กันด้วยเครื่องให้ความร้อนอินฟราเร็ด แผ่นบางถูก สัมผัสกับ อิเล็คตรอนที่ถูกกำหนดปริมาณไว้ก่อนในขณะที่เพิ่มอุณหภูมิขึ้นพร้อม กันในบรรยากาศ ของสูญญากาศที่อ่อน แล้วลำแสงอิเล็คตรอน และเครื่องให้ความร้อนอินฟราเร็ดถูกปิดและ ชั้นฐานถูกทำให้ เย็นก่อนที่จะนำออกจากลำแสงอิเล็คตรอนและเครื่องให้ความ ร้อนอินฟราเร็ด และชั้นฐานถูกทำให้เย็นก่อนที่จะนำออกจาก สูญญากาศ
Claims (1)
1. วิธีสำหรับการบ่มสารสปิน-ออน-กลาสส์ บนชั้นฐานกึ่งตัวนำที่ประกอบด้วย ขั้นตอนต่าง ๆ ของ การวางหรือปล่อยให้ชั้นสปิน-ออน-กลาสส์ ที่เกิดบนชั้น ฐานกึ่งตัวตัวนำใน ช่องสูญญากาศ ; การฉายชั้นสปิน-ออน-กลาสส์ด้วยลำแสงอิเล็คตรอนที่มี ขอบเขตกว้างที่ให้การ สัมผัสอย่างสม่ำเสมอมากของผิวหน้า ทั้งหมดของชั้นสปิน-ออน-กลาสส์ และมีพลังงานเพียงพอ ที่ จะเจาะทะลุความหนาทั้งหมดของชั้น ; และ ให้ความร้อนแก่ชั้นสปิน-ออน-กลาสส์ ในขณะเดียวกัน แต่ ยแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH24791A true TH24791A (th) | 1997-04-23 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY113904A (en) | Method for curing spin-on-glass film utilizing electron beam radiation | |
| US20050077285A1 (en) | Device for homogeneous heating of an object | |
| TW201007388A (en) | Method and apparatus for thermal processing of photosensitive printing elements | |
| TH24791A (th) | วิธีสำหรับการบ่มชั้นบางของสปิน-ออน-กลาสส์ โดยการฉายลำแสงอิเล็คตรอน | |
| JP2005537385A (ja) | 基板上の温度制御された気相成長のための方法および装置 | |
| JPH0369111A (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
| CA2081570A1 (en) | Method of manufacturing electronic device which comprises the step of smoothing a resin coating layer and apparatus for manufacturing the same | |
| KR101432530B1 (ko) | 천연 그라파이트와 합성 그라파이트를 적층한 열확산시트 및 그 제조방법 | |
| JPH10193555A (ja) | 印像を配分するための方法及び装置 | |
| JPS6153632B2 (th) | ||
| US20250329557A1 (en) | Method and device for depositing components on a target surface of a target as well as donor plate for use therewith | |
| JPS5874373A (ja) | サ−マルヘッド及びその製造方法 | |
| JP3161483B2 (ja) | 定着装置用の搬送ガイド装置 | |
| JPH054211A (ja) | セラミツクグリーンシートの乾燥方法およびその装置 | |
| JPS62193248A (ja) | レジスト塗布・ベ−ク装置 | |
| EP0028366B1 (en) | Process for heating thin surface layers | |
| JPS61277186A (ja) | 面状ヒータの製造方法 | |
| JPS57161067A (en) | Dry etching method for aluminum film | |
| JP2025515729A (ja) | 層要素を処理する方法 | |
| Riordon et al. | Stencil mask temperature measurement and control during ion irradiation | |
| JPH0684780A (ja) | レジストの乾燥方法 | |
| JP3940060B2 (ja) | 薄膜形成方法 | |
| JPH01223273A (ja) | ドーム型構築物の除雪法 | |
| JP2001088152A (ja) | 樹脂シートの加熱装置 | |
| JPS61208805A (ja) | 厚膜配線基板の製造方法 |