TH45451A - สารประกอบไดแอลคิล เปอร์ออกไซด์ และกรรมวิธีซึ่งใช้สารเช่นนี้สำหรับการเริ่มปฏิกิริยาเคมี - Google Patents

Abstract

DC60 (25/09/43) กรรมวิธีสำหรับทำให้ได้อะคริลิค (โค) โพลิเมอร์ที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบผิวของ ที่แข็งมาก, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การสัมผัสกันภายใต้สภาวะการโพลิเมอไรซ์ของสารประกอบเปอร์ออกไซด์แบบอิ่มตัว ชนิดไม่สมมาตร เทอร์เชียรี-บิวทิล-1,1,3,3-เตตราเมทิลบิวทิล เปอร์ออกไซด์ (TBTMPB) กับ อะคริเลต โมโนเมอร์ที่สามารถเกิดการโพลิเมอไรซ์ได้, ที่ซึ่งอะคริเลต โมโนเมอร์ที่ใช้ในขบวนการ ถูกเลือกจากหมู่ซึ่งส่วนสำคัญประกอบด้วย : - ไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง 2-ไฮดรอกซีเอทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีเอทิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิลเมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล เมทาคริเลต, 3-ไฮดรอกซีโพรพิลอะคริเลต, และ 4-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต - แอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง, เมทิล เมทาคริเลต เอทิล เมทาคริเลต, บิวทิล เมทาคริเลต, ไอโซบิวทิล เมทาคริเลต, เฮกซิล เมทาคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล เมทาคริเลต, ลอริล เมทาคริเลต, เอทิล อะคริเลต, โพรพิล อะคริเลต, ไอโซโพรพิล อะคริเลต, บิวทิล อะคริเลต, ไอโซบิวทิล อะคริเลต, เฮกซิล อะคริเลต, 2-เอทิล เฮกซิล อะคริเลต, ลอริล อะคริเลต, และสไตรีน, พารา-เมทิล สไตรีน, กรดอะคริลิค, กรดเมทาคริลิค หรือไวนิล อะซีเทต กรรมวิธีสำหรับทำให้ได้อะคริลิค (โค) โพลิเมอร์ที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบผิวของ ที่แข็งมาก, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: - การสัมผัสกันภายใต้สภาวะการโพลิเมอไรซ์ของสารประกอบเปอร์ออกไซด์แบบอิ่มตัว ชนิดไม่สมมาตร เทอร์เชียรี-บิวทิล-1,1,3,3-เตตราเมทิลบิวทิล เปอร์ออกไซด์ (TBTMPB) กับ อะคริเลต โมโนเมอร์ที่สามารถเกิดการโพลิเมอไรซ์ได้, ที่ซึ่งอะคริเลต โมโนเมอร์ที่ใช้ในขบวนการ ถูกเลือกจากหมู่ซึ่งส่วนสำคัญประกอบด้วย : - ไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง 2-ไฮดรอกซีเอทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีเอทิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิลเมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล เมทาคริเลต, 3-ไฮดรอกซีโพรพิลอะคริเลต, และ 4-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต - แอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง, เมทิล เมทาคริเลต เอทิล เมทาคริเลต, บิวทิล เมทาคริเลต, ไอโซบิวทิล เมทาคริเลต, เฮกซิล เมทาคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล เมทาคริเลต, ลอริล เมทาคริเลต, เอทิล อะคริเลต, โพรพิล อะคริเลต, ไอโซโพรพิล อะคริเลต, บิวทิล อะคริเลต, ไอโซบิวทิล อะคริเลต, เฮกซิล อะคริเลต, 2-เอทิล เฮกซิล อะคริเลต, ลอริล อะคริเลต, และสไตรีน, พารา-เมทิล สไตรีน, กรดอะคริลิค, กรดเมทาคริลิค หรือไวนิล อะซีเทต

Claims (22)

1. กรรมวิธีสำหรับทำให้ได้อะคริลิค (โค) โพลิเมอร์ ที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบผิวของ ที่แข็งมาก, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ : - การสัมผัสเข้าด้วยกันภายใต้สภาวะการโพลิเมอไรซ์ของสารประกอบเปอร์ออกไซด์แบบ อิ่มตัวชนิดไม่สมมาตร, เทอร์เชียรี-บิวทิล-1,1,3,3-เตตร้าเมทิลบิวทิล เปอร์ออกไซด์ (TBTMBP) กับอย่างน้อยหนึ่งอะคริเลต โมโนเมอร์ ที่สามารถเกิดการโพลิเมอไรซ์ได้

2. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่ง อะคริเลตโมโนเมอร์ถูกเลือกจากหมู่ซึ่งส่วนสำคัญ ประกอบด้วย : - ไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต และ เมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง 2-ไฮดรอกซีเอทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีเอทิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล เมทาคริเลต, 3-ไฮดรอกซีโพรพิล อะคริเลต, 4-ไฮดรอกซีบิวทิลอะคริเลต ; และ - แอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง เมทิล เมทาคริเลต, เอทิล เมทาคริเลต, บิวทิล เมทาคริเลต, ไอโซบิวทิล เมทาคริเลต, เฮกซิล เมทาคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล เมทาคริเลต, ลอริล เมทาคริเลต, เอทิล อะคริเลต, โพรพิล อะคริเลต, ไอโซโพรพิล อะคริเลต, บิวทิล อะคริเลต, ไอโซบิวทิล อะคริเลต, เฮกซิล อะคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล อะคริเลต, ลอริล อะคริเลต,อะคริ ลิค แอซิด และ เมทาคริลิค แอซิด, และที่ซึ่งเลือกใช้ได้ ได้แก่ โคโมโนเมอร์ที่ถูกเลือกจากหมู่ ของสไตรีน, พารา-เมทิล สไตรีน, และไวนิล อะซีเทต

3. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ1 หรือ 2 ที่ซึ่งอะคริเลตโมโนเมอร์ (ส์) ได้มาจากกรดอะคริลิคที่ถูกแทนที่ หรือไม่ถูกแทนที่, กรดเมทาคริลิค, หรือเอสเตอร์ของ สารเหล่านี้ และถูกนำไปทำปฏิกิริยาโพลิเมอไรเซชั่นแบบสารละลาย ซึ่ง 20 ถึง 40% โดยน้ำ หนักของสารผสมโมโนเมอร์ ได้แก่ ไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต หรือเมทาคริเลต ในช่วง อุณหภูมิเป็นตั้งแต่ประมาณ 90 ํ ถึง 200 ํ ซ.ในที่ที่มีตัวทำละลายที่เหมาะสมสำหรับใช้ใน การเคลือบแบบของที่แข็งมาก ที่ซึ่งสัดส่วนตัวทำละลายต่อโมโนเมอร์เป็นประมาณ 3:1 ถึง ประมาณ 0.1:1

4. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ที่ซึ่งมีเทอร์เชียรี-บิวทิล-1,1,3,3-เตตราเม ทิลบิวทิล เปอร์ออกไซด์ อยู่ในช่วงประมาณ 0.001 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, เทียบกับ น้ำหนักของปริมาณทั้งหมดของโมโนเมอร์, ที่เหมาะสมตั้งแต่ประมาณ 0.005 ถึง 10% โดย น้ำหนัก และที่เหมาะสมที่สุดในปริมาณประมาณ 0.01 ถึง 5% โดยน้ำหนัก

5. อะคริลิค เรซิน ที่สามารถทำได้มาโดยกรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิ ข้อ 1 ถึง 4 ที่มีคุณสมบัติอย่างหนึ่งหรือมากกว่าดังต่อไปนี้ - ความสามารถกระจายได้มาก เป็นประมาณ 1.5 ถึง 3 - ปริมาณของแข็ง เป็นประมาณ 40 ถึง 90% - น้ำหนักโมเลกุล (กรัม/โมล) เป็นประมาณ 1000 ถึง 8000 - Mn (กรัม/โมล) เป็นประมาณ 500 ถึง 400

6. สารประกอบเปอร์ออกไซด์ แบบอิ่มตัวชนิดไม่สมมาตร เทอร์เชียรี-บิวทิล-1,1,3,3-เตตรา เมทิลบิวทิล เปอร์ออกไซด์

7. การใช้เทอร์เทียรี-เอมิล เทอร์เชียรี-บิวทิล เปอร์ออกไซด์ (TATBP) และ/หรือ TBTMBP สำหรับทำการบ่มโพลิเอสเตอร์ เรซิน แบบไม่อิ่มตัว หรือในการโพลิเมอไรซ์ อะคริลิค โมโนเมอร์ เพื่อให้ได้อะคริลิค (โค) โพลิเมอร์ ที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบผิวของที่ แข็งมาก

8. สูตรผสม สำหรับการเริ่มต้นปฏิกิริยาเคมี, สูตรผสมที่กล่าวถึง ประกอบรวมด้วย TBTMBP และสารเติมแต่งมาตรฐานและตัวเติมต่างๆ , ที่เหมาะสมถูกเลือกจากหมู่ที่จำเป็นต้องมี ซึ่ง ประกอบด้วยตัวคงสภาพ, ตัวออกซิเดชัน, ตัวยับยั้งการเสียคุณภาพเนื่องจากความร้อนหรือ อัลตร้าไวโอเลต, ตัวหล่อลื่น, น้ำมันที่เป็นตัวผสมเพิ่ม, สารควบคุมค่า pH, ตัวล่อนแบบ, ตัว ให้สี, ตัวเติมแบบเสริมแรง หรือไม่เสริมแรง, วัตถุที่เป็นเส้นใย, ตัวเสริมสภาพพลาสติค, ตัว ทำให้เจือจาง, ตัวถ่ายโอนโซ่ และตัวเร่ง ซึ่งสามารถถูกใช้ในปริมาณตามมาตรฐาน

9. กรรมวิธีสำหรับทำให้เกิดหนึ่งหรือมากกว่าของปฏิกิริยาเคมีดังนี้ : - การโพลิเมอไรเซชั่น ของโมโนเมอร์ (ส์), ที่เหมาะสม รวมถึอะคริลิค (โค) โพลิเมอร์ เพื่อ ทำให้ได้ (โค) โพลิเมอร์ที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบผิวของที่แข็งมาก - การดัดแปลงโพลิเมอร์ (ส์), อาทิเช่น การเชื่อมขวาง และ/หรือ การเสียคุณภาพของ โพลิเมอร์, และ - การบ่ม โพลิเมอร์ ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนการสัมผัสกันของโมโนเมอร์ และ/หรือ โพลิเมอร์ (ส์) ภายใต้ สภาวะการทำปฏิกิริยากับสารประกอบเปอร์ออกไซด์แบบอิ่มตัวชนิดไม่สมมาตรที่มีสูตรทั่ว ไป : R-O-O-R1 ที่ซึ่ง R และ R1 ถูกเลือกจากหมู่ที่จำเป็นต้องมี ซึ่งประกอบด้วย : - หมู่ เทอร์เชียรี-แอลคิล ที่มีความยาวโซ่คาร์บอน เป็นประมาณ C4 ถึงประมาณ C22, เช่น C(CH3)3, -C(CH3)2(CH2)n-C6H15(5m)-(R2)m, ที่ซึ่ง n = 0, 1 หรือ 2 และ m = 0, 1, 2 หรือ 3 และที่ซึ่ง R2 = หมู่ไอโซโพรพิล หรือ หมู่ 2-ไฮดรอกซี-ไอโซโพรพิล -หมู่เทอร์เชียรี ไซโคลแอลคิล ที่มีคาร์บอน 4 ถึง 22 อะตอม -หมู่เทอร์เชียรี-แอลคิลไซโคลแอลคิล ที่มีคาร์บอน 6 ถึง 22 อะตอม -หมู่เทอร์เชียรี- ไซโคลแอลคิลแอลคิล ที่มีคาร์บอน 6 ถึง 22 อะตอม -หมู่ไพนานิล, และ -หมู่พารา-เมนทิล โดยที่หมู่แอลคิล, เอริล, และเอราคิล อาจเลือกให้ถูกแทนที่ด้วยหมู่ฟังก์ชั่นนัล เช่น ไฮดรอกซี, คาร์บอกซี ; ซึ่งรวมถึงตัวเริ่มปฏิกิริยา R-O-O-R1 ที่ซึ่ง R คือหมู่ C(CH3)3 และR1 เท่ากับ C(CH3)2-C6H5-, และนอกจากนั้นยังรวมถึง ปฏิกิริยาโพลิเมอไรเซชั่นของเอทิลีน กับเทอร์เชียรี-เอมิล- เทอร์เชียรี-เฮกซิล เปอร์ออกไซด์

10. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่ง R และ/หรือ R1 ถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วย -C(CH3)2-C2H5, -C(CH3)2-C3H7, -C(CH3)2-C3H3, -C(CH3)2-CH2-C(CH3)3, -C(CH3)2-CH(CH3)2, -C(CH3)2-CH2-C6H5, -C(CH3)2-CH2-Cl, และ -C(CH3)2-CH2-CH(OH)-CH3,

11. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 9 หรือ 10 ที่ซึ่งเปอร์ออกไซด์ถูก เลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วย -ROOC (CH3)2 C2 H5, -ROOC(CH3)2-C3H7, -ROOC(CH3)2-CH2(CH3)2, -ROOC(CH3)2-C(CH3)3, -ROOC(CH3)2-CH2C(CH3)3, -ROOC(CH3)2-CH2-C6H5, -ROOC(CH3)2-CH2-Cl, และ -ROOC(CH3)2-CH2-CH(OH)-CH3, ที่ซึ่ง R = (CH3)3C หรือ C6H5C(CH3)2

12. กรรมวิธีตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 9 ถึง 11 ก่อนหน้านี้, ที่ซึ่งตัวเริ่มปฏิกิริยา เปอร์ออกไซด์ มีครึ่งชีวิตเป็นประมาณ 1 ชั่วโมง ที่ 90 ถึง 200 ํ ซ. ที่เหมาะสมเป็นประมาณ 100 ถึง 160 ํ ซ.

13. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่งตัวเริ่งปฏิกิริยาเปอร์ออกไซด์ที่ใช้มีอยู่ในช่วง % น้ำหนัก เป็นประมาณ 0.001 ถึง 15 เทียบจากอัตราของการใช้โมโนเมอร์, ที่เหมาะสมตั้งแต่ประมาณ 0.005 ถึง 10% โดยน้ำหนักและที่เหมาะสมที่สุดในปริมาณเป็นประมาณ 0.01 ถึง 5% โดย น้ำหนัก

14. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งปฏิกิริยาถูกกระทำอยู่ในช่วงอุณหภูมิเป็นประมาณ 30 ถึง 350 ํ ซ., ที่เหมาะสมประมาณ 40 ถึงประมาณ 300 ํ ซ.

15. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 14 ที่ซึ่งสารที่ใช้คือโมโนเมอร์ที่เหมาะสมสำหรับการทำปฏิกิริยา โพลิเมอไรเซชั่น และได้แก่ โอลิฟินิคโมโนเมอร์ หรือโมโนเมอร์แบบไม่อิ่มตัวที่มีเอทิลีน ประกอบ

16. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 15, ที่ซึ่งโมโนเมอร์ถูกเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบด้วยโอลิฟินิค โมโนเมอร์ หรือโมโนเมอร์แบบไม่อิ่มตัวที่มีเอทิลีนประกอบ, ตัวอย่างเช่น ไวนิล อะโรแมติค โมโนเมอร์ที่ถูกแทนที่หรือไม่ถูกแทนที่, ซึ่งรวมถึงสไตรีน, แอลฟา-เมทิลสไตรีน, พาราเมทิลสไตรีน, และฮาโลจีเนเทต สไตรีน ; ไดไวนิลเบนซีน ; เอทิลีน ; กรดคาร์บอคซิลิค ไม่อิ่มตัวที่มีเอทิลีนประกอบ และอนุพันธ์ต่างๆ ของสารเหล่านี้ อาทิเช่น (เมท) อะคริลิค แอซิด, (เมท) อะคริลิค เอสเตอร์, อะคริลิค แอซิด, เมท็อคซีเอทิล อะคริเลต, ไดเมทิลอะมิโน (เมท) อะคริเลต, ไอโซบิวทิล เมทาคริเลต, ลอริล เมทาคริเลต, สเตียริค เมทาคริเลต, แอลลิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล (เมท) อะคริเลต, เมทาคริลาไมด์, เช่น บิวทิล (เมท) อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีเอทิล (เมท) อะคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล (เมท) อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซี เอทิล (เมท) อะคริเลต, และ ไกลซิดิล (เมท) อะคริเลต, เมทิล (เมท) อะคริเลต และเอทิล (เมท) อะคริเลต ; ไนไตรล์ และเอไมด์แบบไม่อิ่มตัว ที่มีเอทิลีนประกอบ อาทิเช่น อะคริโลไนไตรล์, เมทาคริโลไนไตรล์ และอะคริลาไมด์ ; โมโนเมอร์แบบไม่อิ่มตัวที่มี เอทิลีนแบบประกอบซึ่งถูกแทนที่ หรือไม่ถูกแทนที่ อาทิเช่น บิวทาไดอีน, ไอโซพรีน และ คลอโรพรีน ; ไวนิลเอสเตอร์ อาทิเช่น ไวนิล อะซีเทต และไวนิล โพรพิโอเนต และ ไวนิลเอสเตอร์ของกรด เวอร์ซาติค ; กรดไดคาร์บอคซิลิคแบบไม่อิ่มตัวที่มีเอทิลีนประกอบ และอนุพันธ์ต่างๆ ของพวกมัน ซึ่งรวมถึง โมโน-และ ไดเอสเตอร์, แอนไฮดรายด์, กรดซิทราโคนิค, กรดอิทาโคนิค, นาดิค แอนไฮดรายด์, กรดมาเลอิค, กรดฟูมาริค, เอริล, แอลคิล และเอราลคิล ซิทราโคนิไมด์ และมาลิไอไมด์ ; ไวนิล เฮไลด์ อาทิเช่น ไวนิล คลอไรด์ และไวนิลิดีน คลอไรด์ ; ไวนิลอีเทอร์ อาทิเช่น เมทิลไวนิลอีเทอร์ และ นอร์มัล-บิวทิลไวนิลอีเทอร์ ; โอลีฟินส์ อาทิเช่น เอทิลีน,ไอโซบิวทีน และ 4-เมทิลเพนทิน; และ สารประกอบแอลลิล อาทิเช่น (ได) แอลลิล เอสเตอร์ ตัวอย่างเช่น ไดแอลลิล พทาเลต, (ได) แอลลิล คาร์บอเนต, และไตรแอลลิล (ไอโซ) ไซยานูเรต

17. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 16 สำหรับการบ่มโพลิเมอร์,โดยเฉพาะอย่างยิ่ง โพลิเอสเตอร์ แบบไม่อิ่มตัว และ/หรือ โพลิเอสเตอร์เรซิน แบบไม่อิ่มตัว, ที่ซึ่งสารที่ใช้ถูกเลือกจากหมู่ที่จำ เป็นต้องมีซึ่งประกอบด้วย โมโนเมอร์ที่สามารถเกิดการโพลิเมอไรซ์ได้ ซึ่งรวมถึงสไตรีน, อัลฟาเมทิลสไตรีน, พารา-เมทิลสไตรีน, คลอโรสไตรีน, โบรโมสไตรีน, ไวนิลเบนซิล คลอไรด์, ไดไวนิลเบนซีน, ไดแอลลิล มาลิเอต, ไดบิวทิล ฟูมาเรต, ไตรแอลลิล ฟอสเฟต, ไตรแอลลิล ไซยานูเรต, ไดแอลลิลพทาเลต, ไดแอลลิล ฟูมาเรต, เมทิล (เมท) อะคริเลต, นอร์มัลบิวทิล (เมท) อะคริเลต, เอทิล อะคริเลต, และของผสมของสารเหล่านี้, ซึ่งสามารถ เกิดการโคโพลิเมอไรซ์กับโพลิเอสเตอร์แบบไม่อิ่มตัว ที่ได้มาโดยการทำปฏิกิริยาเอสเตอร์ กันของอย่างน้อยตัวหนึ่งที่เป็นกรดได-หรือโพลิคาร์บอคซิลิคแบบไม่อิ่มตัวที่มีเอทิลีน ประกอบ, แอนไฮดรายด์หรือกรดเฮไลด์ อาทิเช่น กรดมาลิอิค, กรดฟูมาริค, กรดกลูตาโคนิค, กรดอิตาโคนิค, กรดเมซาโคนิค, กรดซิทราโคนิค, กรดแอลลิลมาโลนิค, กรดเตตราไฮโดร พทาลิค, กับได-หรือ โพลิออลแบบอิ่มตัวและไม่อิ่มตัว ; เช่น เอทิลีนไกลคอล, ไดเอทิลีน ไกลคอล, ไตรเอทิลีน ไกลคอล, 1,2- และ 1,3-โพรเพนไดออล, 1,2-, 1,3-และ1,4-บิวเทน ไดออล, 2,2-ไดเมทิล 1,3-โพรเพนไดออล, 2-ไฮดรอกซีเมทิล-2-เมทิล 1,3-โพรเพนไดออล, 2-บิวเทน -1,4-ไดออล, 2-บิวไทน์ -1,4-ไดออล, 2,4,4-ไตรเมทิล -1,3-เพนเทนไดออล, กลีเซอรอล, เพนทาเอริไทรทอล, แมนนิทอล, ที่ซึ่งกรดได-หรือโพลิคาร์บอคซิลิคเลือกใช้ได้ แบบที่ถูกแทนที่บางส่วนด้วยกรดได-หรือโพลิคาร์บอคซิลิคแบบอิ่มตัว อาทิเช่น กรด อะดิพิค, กรดซัคซินิค, และ/หรือโดยกรดอะโรแมติค ได-หรือโพลิคาร์บอคซิลิค อาทิเช่น กรดพทาลิค กรดไตรเมลลิทิค, กรดไพโรเมลลิทิค, กรดไอโซพทาลิค, และกรดเทเรฟทาลิค และที่ซึ่งกรดต่างๆ ที่ใช้เลือกได้ให้ถูกแทนที่โดยหมู่ต่างๆ อาทิเช่น กรดที่ถูกแทนที่โดยหมู่ ฮาโลเจน ซึ่งรวมถึงกรดเตตราคลอโรพพทาลิค และกรดเตตราโบรโมพทาลิค

18. กรรมวิธีตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 9 ถึง 17 เกี่ยวกับการโพลิเมอไรซ์แบบสาร ละลาย ที่ซึ่งโมโนเมอร์ต่างๆ ได้มาจากกรดอะคริลิคแบบถูกแทนที่หรือไม่ถูกแทนที่ หรือ กรดเมทาคริลิค หรือเอสเตอร์ต่างๆ ของสารเหล่านี้ ที่ซึ่ง 20 ถึง 40% โดยน้ำหนักของสาร ผสมโมโนเมอร์ คือไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต หรือเมทาคริเลตในช่วงอุณหภูมิเป็นตั้งแต่ ประมาณ 90 ํ ถึง 200 ํ ซ. ในที่ที่มีตัวทำละลายที่เหมาะสมสำหรับใช้ในการเคลือบแบบของ แข็งสูง ซึ่งสัดส่วนตัวทำละลายต่อโมโนเมอร์เป็นประมาณ 3 :1 ถึงประมาณ 0.1 : 1

19. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งโมโนเมอร์ถูกเลือกจากหมู่ ซึ่งประกอบด้วย : - ไฮดรอกซีแอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง 2-ไฮดรอกซีเอทิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล อะคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล เมทราคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีบิวทิล เมทาคริเลต, 2-ไฮดรอกซีโพรพิลเมทาคริเลต ,2-ไฮดรอกซี บิวทิล เมทาคริเลต, 3- ไฮดรอกซีโพรพิลอะคริเลต,และ 4-ไฮดรอกซีบิวทิล อะคริเลต, และ - แอลคิล อะคริเลต และเมทาคริเลต ซึ่งรวมถึง, เมทิล เมทาคริเลต เอทิล เมทาคริเลต, บิวทิล เมทาคริเลต, ไอโซบิวทิล เมทาคริเลต, เฮกซิล เมทาคริเลต, 2-เอทิลเฮกซิล เมทาคริเลต, ลอริล เมทาคริเลต, เอทิล อะคริเลต, โพรพิล อะคริเลต, ไอโซโพรพิล อะคริเลต, บิวทิล อะคริเลต, ไอโซบิวทิล อะคริเลต, เฮกซิล อะคริเลต, 2-เอทิล เฮกซิล อะคริเลต, ลอริล อะคริเลต, และ สไตรีน, พารา-เมทิล สไตรีน, กรดอะคริลิค, กรดเมทาคริลิค และไวนิล อะซีเทต

20. กรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งยังประกอบต่อไปอีกด้วยขั้นตอนการเติมหนึ่งหรือมากกว่า ของตัวเสริมการยึดติด ซึ่งเลือกจากหมู่ซึ่งส่วนสำคัญ ประกอบด้วย : - ไดเอทิลอะมิโนเอทิล เมทาคริเลต, ได-เมทิลอะมิโนเอทิล เมทาคริเลต, เทอร์เชียรี-บิวทิล อะมิโนเอทิล เมทาคริเลต,3-(2-เมทาคริลอคซีเอทิล) -2,2-สไปโรไซโคลเฮกซิล ออคซาโซลิดีน, และกรด (เมท) อะคริลิค

21. กรรมวิธีตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4, 9 ถึง 20 ที่กระทำโดยที่มีตัวทำละลายที่ เหมาะสม ซึ่งเลือกจากหมู่ที่เหมาะสมซึ่งส่วนสำคัญประกอบด้วย : - โทลูอีน, ไซลีน, เอทิล อะซิเทต, อะซีโต, เมทิล เอทิล คีโตน, เมทิล นอร์มัล-เอมิล คีโตน, เอทิล แอลกอฮอล์ล เบนซิล แอลกอฮอล์, ออคโซ-เฮกซิล อะซีเทต, ออคโซ-เฮพทิล อะซีเทต, โพรพิลีน ไกลคอล เมทิล อีเทอร์ อะซีเทต, มินอรัล สปิริต, และอะลิฟาติค อื่นๆ, ไซโคลอะลิฟาติค และอะโรแมติค ไฮโดรคาร์บอน, เอสเตอร์, อีเทอร์, คีโตน, และ แอลกอฮอล์ ซึ่งถูกใช้ตามแบบธรรมดาทั่วไป

22. โพลิเมอร์ที่สามารถได้มาโดยกรรมวิธีตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5