TH50305A - องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ - Google Patents
องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบInfo
- Publication number
- TH50305A TH50305A TH1004360A TH0001004360A TH50305A TH 50305 A TH50305 A TH 50305A TH 1004360 A TH1004360 A TH 1004360A TH 0001004360 A TH0001004360 A TH 0001004360A TH 50305 A TH50305 A TH 50305A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- composition
- smoothing
- abrasive particles
- weight
- approximately
- Prior art date
Links
- 238000009499 grossing Methods 0.000 title claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (12/01/44) องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัด เตรียมไว้ องค์ ประกอบประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซนต์ โดย น้ำหนัก เมื่ออนุภาคของสารขัดถู ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาดของอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโนเมตร องค์ประกอบของการ ประดิษฐ์นี้คือ ใช้ให้เป็นประโยชน์ในการทำผิวให้เรียบหรือให้ เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพ การขัดเงา ความเหมือน กัน และอัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่อง เช่น ขอบเขตการ สูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่สุด องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัด เตรียมไว้ องค์ ประกอบประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5-90 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์ โดย น้ำหนัก เมื่ออนุภาคของสารขัดถู ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาดของอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโนเมตร องค์ประกอบของการ ประดิษฐ์นี้คือ ใช้ให้เป็นประโยชน์ในการทำผิวให้เรียบหรือให้ เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพ การขัดเงา ความเหมือน กัน และอัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่อง เช่น ขอบเขตการ สูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่สุด
Claims (3)
1. องค์ประกอบการทำผิวให้เรียบหรือผิวเงาวาว ประกอบด้วย (ก) พาหะของ เหลว และ ของแข็ง ประกอบด้วย ออกไซด์ของโลหะที่เป็นไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซนต์ โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาด ของอนุภาคไม่มากกว่า 100 นาโนเมตร
2. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งของแข็งมีความ หนาแน่นการบรรจุ น้อยที่สุด ประมาณ 0.1
3. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 2 ในที่ซึ่งของแข็งมี ควาแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH50305A true TH50305A (th) | 2002-03-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ATE258577T1 (de) | Zusammensetzungen und verfahren zum polieren und egalisieren von oberflächen | |
| ATE258576T1 (de) | Zusammensetzung und verfahren zum egalisieren von oberflächen | |
| EP3210237B1 (en) | Cobalt dishing control agents | |
| DE60008376D1 (de) | Aufschlämmungszusammensetzung und verfahren zum chemisch-mechanischen polieren | |
| EP0204408B1 (en) | Polishing composition | |
| KR102708650B1 (ko) | 개선된 디싱을 위한 코발트 억제제 조합 | |
| EP0811666A3 (en) | Fluoride additive containing chemical mechanical polishing slurry and method for use of same | |
| CA2731768A1 (en) | Coated abrasive products containing aggregates | |
| Zhang et al. | Two-step chemical mechanical polishing of sapphire substrate | |
| WO2007070715A3 (en) | Cleaning and polishing composition for metallic surfaces | |
| IL150186A0 (en) | Method of polishing or planarizing a substrate | |
| KR20170076719A (ko) | 코발트 연마 가속화제 | |
| EP1136534A1 (en) | Hybrid polishing slurry | |
| US5137541A (en) | Polishing compounds and methods | |
| MY154723A (en) | Cerium-based abrasive, abrasive slurry, and production of cerium-based abrasive. | |
| Lei et al. | Chemical mechanical polishing of hard disk substrate with α-alumina-g-polystyrene sulfonic acid composite abrasive | |
| TH50305A (th) | องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ | |
| JP2001205554A5 (th) | ||
| TH50091A (th) | องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ | |
| JPH11188610A (ja) | 高硬度無機質固体材料の鏡面研磨方法 | |
| JP2003533023A (ja) | 半導体ウェハの表面を改質する方法 | |
| KR100637887B1 (ko) | 연마용 성형체, 이것을 이용한 연마용 정반 및 연마방법 | |
| CA2486847A1 (en) | Composition, kit and method for cleaning and/or treating surfaces | |
| JPH0679613A (ja) | 乾式バレル研磨法及び乾式メディア組成物 | |
| JP3263818B2 (ja) | 乾式バレル研磨法及び粗仕上げ乃至中仕上げ用乾式メディア |