TH50305A - องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ - Google Patents
องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบInfo
- Publication number
- TH50305A TH50305A TH1004360A TH0001004360A TH50305A TH 50305 A TH50305 A TH 50305A TH 1004360 A TH1004360 A TH 1004360A TH 0001004360 A TH0001004360 A TH 0001004360A TH 50305 A TH50305 A TH 50305A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- approximately
- abrasive particles
- components
- percent
- particle size
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (12/01/44) องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัด เตรียมไว้ องค์ ประกอบประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซนต์ โดย น้ำหนัก เมื่ออนุภาคของสารขัดถู ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาดของอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโนเมตร องค์ประกอบของการ ประดิษฐ์นี้คือ ใช้ให้เป็นประโยชน์ในการทำผิวให้เรียบหรือให้ เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพ การขัดเงา ความเหมือน กัน และอัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่อง เช่น ขอบเขตการ สูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่สุด องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบหรือเป็นเงาวาว ด้วยองค์ประกอบที่จัด เตรียมไว้ องค์ ประกอบประกอบด้วยออกไซด์ของโลหะที่เป็น ไอ ประมาณ 5-90 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์ โดย น้ำหนัก เมื่ออนุภาคของสารขัดถู ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาดของอนุภาคไม่น้อยกว่า 100 นาโนเมตร องค์ประกอบของการ ประดิษฐ์นี้คือ ใช้ให้เป็นประโยชน์ในการทำผิวให้เรียบหรือให้ เงาวาวด้วย ประสิทธิภาพ การขัดเงา ความเหมือน กัน และอัตราการขัดออก สูง ด้วยความบกพร่อง เช่น ขอบเขตการ สูญเสียของโครงสร้างภายใน และ โทโพกราฟฟิน้อยที่สุด
Claims (22)
1. องค์ประกอบการทำผิวให้เรียบหรือผิวเงาวาว ประกอบด้วย (ก) พาหะของ เหลว และ ของแข็ง ประกอบด้วย ออกไซด์ของโลหะที่เป็นไอ ประมาณ 5 - 90 เปอร์เซนต์ โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 10 - 95 เปอร์เซ็นต์ โดยน้ำหนัก ในที่ซึ่ง อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 90% หรือมากกว่า (โดยจำนวน) มีขนาด ของอนุภาคไม่มากกว่า 100 นาโนเมตร
2. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งของแข็งมีความ หนาแน่นการบรรจุ น้อยที่สุด ประมาณ 0.1
3. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 2 ในที่ซึ่งของแข็งมี ความหนาแน่นการบรรจุ น้อยที่สุด ประมาณ 0.3
4. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 3 ในที่ซึ่งของแข็งมี ความหนาแน่นการบรรจุ น้อยที่สุด ประมาณ 0.7 หรือ น้อยกว่า
5. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งของแข็งประกอบ ด้วย ออกไซด์ ของโลหะที่เป็นไอ ประมาณ 10 - 85 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 15 - 9 เปอร์เซนต์โดยน้ำหนัก
6. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 6 ในที่ซึ่งของแข็งประกอบ ด้วยออกไซด์ ของโลหะที่เป็นไอ ประมาณ 15 - 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ อนุภาคของสารขัดถู ประมาณ 25 - 85 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก
7. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งออกไซด์ของโลหะ ที่เป็นไอ คือ ซิลิกาที่เป็นไอ
8. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งอนุภาคของสารขัด ถู คือ อนุภาค ออกไซด์ของโลหะที่ถูกพอลิเมอไรซ์แบบควบแน่น
9. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งออกไซด์ของโลหะ ที่เป็นไอ คือ ซิลิกาที่เป็นไอ และ อนุภาคของสารขัดถู คือ ซิลิกาที่ถูกพอลิเมอไรซ์แบบควบแน่น
10. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู (โดย จำนวน) ประมาณ 95% หรือมากกว่า มีขนาดของอนุภาคไม่ มากกว่า 100 นาโนเมตร
11. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 10 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู (โดย จำนวน) ประมาณ 98% หรือมากกว่า มีขนาดของอนุภาคไม่ มากกกว่า 100 นาโนเมตร
12. องค์ประกอบตามของข้อถือสิทธิข้อ 10 ในที่ซึ่งโดยส่วนมาก ทั้งหมดของ อนุภาคของสารขัดถู (โดยจำนวน) มีขนาดอนุภาคไม่มาก กว่า 100 นาโนเมตร
13. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู (โดย จำนวน) ประมาณ 90% หรือมากกว่า มีขนาดของอนุภาคไม่ น้อยกว่า 5 นาโนเมตร
14. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 13 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู (โดย จำนวน) ประมาณ 90% หรือมากกว่า มีขนาดของอนุภาคไม่ น้อยกว่า 5 นาโนเมตร
15. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 14 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู (โดย จำนวน) ประมาณ 98% หรือมากกว่า มีขนาดของอนุภาคไม่ น้อยกว่า 5 นาโนเมตร
16. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 15 ในที่ซึ่งโดยส่วนมาก ทั้งหมดของ อนุภาคของสารขัดถู (โดยจำนวน) มีขนาดของอนุภาค ไม่น้อยกว่า 5 นาโนเมตร
17. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งอนุภาคของสาร ขัดถู มีการ กระขจายขนาดอนุภาคของอนุภาคของสารขัดถูลักษณะเฉพาะโดย ความเบี่ยงเบนมาตราฐาน เชิงเรขาคณิต โดยจำนวน (ซิกมาg) อย่างน้อยที่สุด 1.3
18. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ซึ่งของแข็งแสดงใน ความเข้มข้น ประมาณ 0.1-40 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ขององค์ประกอบ
19. องค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 18 ในที่ซึ่งพาหะ คือ น้ำ
20. วิธีการของการทำให้ผิวเป็นเรียบหรือเป็นเงาวาวประกอบ ด้วยการสัมผัสผิว ด้วยองค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 1
21. วิธีการของการทำให้มีผิวเป็นเรียบหรือเป็นเงาวาวประกอบ ด้วยการสัมผัสผิว ด้วยองค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 3
22. วิธีการของทำให้ผิวเป็นเรียบหรือเป็นเงาวาวประกอบด้วย การสัมผัสผิว ด้วยองค์ประกอบของข้อถือสิทธิข้อ 9
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH50305A true TH50305A (th) | 2002-03-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60008025D1 (de) | Zusammensetzungen und verfahren zum polieren und egalisieren von oberflächen | |
| MY120865A (en) | Composition and method for planarizing surfaces | |
| EP3210237B1 (en) | Cobalt dishing control agents | |
| KR102538575B1 (ko) | 코발트 연마 가속화제 | |
| BR0115202A (pt) | Métodos para manufaturar um aglomerado e artigos abrasivos revestido e tridimensional fixo, e para polir uma peça de trabalho, partìcula de aglomerado, artigos abrasivos revestido e fixo tridimensional | |
| KR102708650B1 (ko) | 개선된 디싱을 위한 코발트 억제제 조합 | |
| RU2006104117A (ru) | Абразивные частицы для механической полировки | |
| MY139682A (en) | Substrate for magnetic disk | |
| WO2002028979A1 (en) | Cerium based abrasive material and method for producing cerium based abrasive material | |
| MY122641A (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disks | |
| JP2007088424A5 (th) | ||
| JP2010189769A (ja) | 高圧での成形による鉄系構成部品の製造方法 | |
| DE50311351D1 (de) | Schleifmittel mit verbesserten schleifeigenschaften | |
| MY154723A (en) | Cerium-based abrasive, abrasive slurry, and production of cerium-based abrasive. | |
| US20090103993A1 (en) | Method of Polishing a Tungsten Carbide Surface | |
| GB2410030A (en) | Polishing composition and polishing method | |
| CN103276346A (zh) | 一种金属轴承保持架的处理方法 | |
| Wang et al. | Synergistic roles of mixed inhibitors and the application of mixed complexing ligands in copper chemical mechanical polishing | |
| JP2009509784A (ja) | 研磨スラリー及び当該研磨スラリーを利用する方法 | |
| TH50091A (th) | องค์ประกอบและวิธีการทำผิวให้เรียบ | |
| CA2486847A1 (en) | Composition, kit and method for cleaning and/or treating surfaces | |
| JP2001131535A5 (th) | ||
| JP2000233377A (ja) | 研磨用部材、それを用いた研磨用定盤及び研磨方法 | |
| SU1096087A1 (ru) | Материал дл магнитно-абразивной обработки | |
| Su et al. | Influences of the Morphology and the Distribution of Pores on the Ion-Nitrocarburizing Layer Structure of Sintered Materials |