TH57777B - Processes and manufacturing interfaces 7- Substitut Ted Antistrogens - Google Patents

Processes and manufacturing interfaces 7- Substitut Ted Antistrogens

Info

Publication number
TH57777B
TH57777B TH101004150A TH0101004150A TH57777B TH 57777 B TH57777 B TH 57777B TH 101004150 A TH101004150 A TH 101004150A TH 0101004150 A TH0101004150 A TH 0101004150A TH 57777 B TH57777 B TH 57777B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
formula
group
compound
alkyl
process according
Prior art date
Application number
TH101004150A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH62371A (en
Inventor
เดอร์มอท แพทริค ลัฟแฟน นายเดวิด
วิทตัน เคอร์ นายเฟรเซอร์
เรย์มอนด์ เลน นายแอนโธนี
สตีเวนสัน นายโรเบิร์ต
จอห์น ฮอแกน นายฟิลิป
โจแอนน์ บราเซียร์ นายอีฟ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH62371A publication Critical patent/TH62371A/en
Publication of TH57777B publication Critical patent/TH57777B/en

Links

Abstract

ได้จัดให้มีสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักซึ่งสามารถทำให้เกิดพื้นผิวที่ ถูกขัดที่มีความละเอียดสูงและมี ความสามารถในการขัดที่ดีขึ้น และได้จัดให้มีวิธีการใน การ ประเมินสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักในลักษณะที่ ค่อนข้างง่าย เพื่อให้ บรรลุวัตถุประสงค์ข้างต้น สารขัดถู ที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักจึงเป็นสารขัดถูที่มี ซี เรียมเป็นส่วนประกอบหลักที่มีซีเรียมออกไซด์ 40% โดยน้ำ หนักหรือมากกว่านั้น (จาก น้ำหนักทั้งหมดของเรร์เอิร์ทออก ไซด์) ซึ่งมีลักษณะพิเศษคือยังมีฟลูออรีน 0.5 ถึง 10% โดย น้ำหนักต่อสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลัก 100% โดยน้ำหนัก ในพจน์ของ น้ำหนักอะตอม และอนุภาคขัดที่ประกอบด้วยผลึกต่างๆ ที่มีค่าคงที่ของโครง ผลึกซึ่งวัด ด้วยวิธีการเลี้ยวเบนของผงรังสีเอ็กซ์ซึ่งอยู่ ในช่วง 0.544 ถึง 0.560 nm และวิธีการในการ ประเมินสารขัดถู ที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักตามการประดิษฐ์นี้เป็นวิธี การที่ประกอบ ด้วยขั้นตอนต่างๆ ดังนี้ การวิเคราะห์ตัว อย่างของสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลัก ที่ต้องนำ ไปประเมินด้วยวิธีกา0รเลี้ยวเบนของผงรังสีเอ็กซ์ การทำให้ ได้มุมเลี้ยวเบน (เธตา) ของค่ายอดสุดอย่างน้อยหนึ่งค่าที่ ปรากฎบนช่วงต่างๆ สี่ช่วงที่บรรยายไว้ข้างต้น และการ คำนวณ ค่าคงที่ของโครงผลึกของผลึกต่างๆ ที่ประกอบเป็นอนุภาคขัด ของสารขัดถูที่มี ซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักโดย ใช้มุมเลี้ยวเบน (เธตา) ข้างต้น provides a cerium-based abrasive that can produce a are polished with high resolution and Better polishing ability A relatively simplified method for evaluating cerium-based abrasives has been provided in order to achieve the above objectives, cerium-based abrasives are therefore cerium-based abrasives. Cores containing 40% cerium oxide by weight or more (of the total weight of the cerium oxide), which are characterized by the presence of 0.5 to 10% by weight of fluorine per cerium-containing abrasive. 100% by weight, in terms of atomic weight, and abrasive particles composed of various crystals. with the crystal lattice constant measured by X-ray powder diffraction method in the range of 0.544 to 0.560 nm and the method of diffraction. Evaluate the abrasive with cerium as the main component according to this invention is a method that consists of the following steps: Examples of cerium-based abrasives must be assessed by the X-ray powder diffraction method. appear on different ranges The four phases described above and calculating the crystal lattice constants of various crystals. that make up the abrasive particles of the abrasive substances that contain Cerium is the main constituent of Use the diffraction angle (theta) above.

Claims (3)

1. กระบวนการสำหรับการเตรียมสารประกอบอินเทอร์มีเดียตของสูตร (II) (สูตรเคมี) (II) ซึ่ง X คือ S, SO, SO2, O, NR6, N(O)R6, (PO)R6, NR7, COO-, NR7SO2, CONR6, CSNR6, NR7CO, NR7C(NR8)8NR6, NR7 CS, CONR6, SO2NR6, หรือ CO ซึ่ง R6 คือ ไฮโดรเจน หรือ C1-6อัลคิล, R7 คือ ไฮโดรเจน หรือ C1-6อัลคิล และ R8 คือ ไซยาโน, ไฮโดรเจน หรือไนโตร, n คือ ตัวเลขจำนวนเต็มจาก 3 ถึง 14 R1 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกันไฮดรอกซิ R1 คือ ฮาโลC1-10อัลคิล, C1-10อัลคิล, C2-10อัลคีนิล, C2-10ไซโคลอัลคิล, คาร์บอกซิC1-10อัลคิล, C1-10 อัลคอกซิคาร์บอนิลC1-10อัลคิล, แอริล (เช่น เฟนิล), แอริล(C1-10)อัลคิล (เช่น เฟนิล(C1-10)อัลคิล) หรือ ได(C1-6)อัลคิล)อะมิโน R2 คือ ไฮโดรเจน, C1-6อัลคิล หรือ ไฮดรอกซิ R3 คือ ไฮโดรเจน, C1-6อัลคิล, C2-6อัลคีนิล หรือ C2-6อัลไคนิล R4 คือ ไฮดรอกซิ, C1-10อัลคาโนอิลออกซิ, คาร์บอกซิC1-10อัลคาโนอิลออกซิ หรือแอโรอิลออกซิ (เช่น เบนโซอิลออกซิ) R5 คือ C1-6อัลคิล ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยอะโรมาไทเซซันของสารประกอบของสูตร (III) (สูตรเคมี) (III) ซึ่ง R1, R2, R3, n, X และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) และ R4\' คือ หมู่ R4 หรือ หมู่พรีเดอร์เซอร์ของสารเหล่านั้น และหลังจากนั้น หากจำเป็น หรือต้องการ ซึ่งการดำเนินการตามขั้น ตอนต่อไปนี้หนึ่งขั้น หรือมากกว่า; (i) การกำจัดหมู่ป้องกันไฮดรอกซิ R ใด ๆ (ii) การเปลี่ยนหมู่พรีเดอร์เซอร์ R4\' ไปเป็นหมู่ R4 หรือ ซึ่ง R4\' คือ หมู่ R4 ซึ่งเปลี่ยนไปเป็นหมู่ ดังกล่าวที่แตกต่างกัน 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่ง R คือ หมู่แอซิล 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่ง R คือ หมู่แอซิทิล 4. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่ง R4\' คือ หมู่ OR10 ซึ่ง R10 คือ หมู่ป้องกันไฮดรอกซิ 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่ง R10 คือ หมู่แอซิล ซึ่งสามารถกำจัดออกโดยอัลคาไล ไฮโดรไลซิส 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 4 ซึ่งทั้ง R และ R10 คือ แอซิทิล และขั้นที่เลือกได้ (i) และ (ii) นำมาทำร่วมกันในขั้นการดีแอซิเลชันครั้งเดียว 7. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งอะโรมาไทเซซันของสาร ประกอบของสูตร (III) ได้ผล เมื่อมีอะเซติคแอนไฮไดรด์ร่วมอยู่ด้วย ดังเช่น เพื่อผลิตสารประกอบ ของสูตร (II) ซึ่ง R คือ แอซิทิล 8. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งอะโรมาไทเซซันได้ผลโดย ใช้เกลือคอปเปอร์ 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 ซึ่งเกลือคอปเปอร์ คือ คิวพริคโบรไมด์ 1 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งปฏิกิริยาอะโรมาไทเซซันได้ผล เมื่อมีเกลือของโลหะอัลคาไลร่วมอยู่ด้วย 1 1. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 8 ถึง 10 ซึ่งใช้ไธโอยูเรีย เพื่อตก ตะกอนคอปเปอร์ที่เหลือใช้ภายหลังอะโรมาไทเซชัน 1 2. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งเตรียมสารประกอบของ สูตร (III) โดยการทำปฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (IV) (สูตรเคมี) (IV) ซึ่ง R2, R3, R4, n, X และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 กับสารประกอบของสูตร (V) (สูตรเคมี) (V) ซึ่ง n, X และ R1 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 และ Z คือ หมู่หลุดออก 1 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 12 ซึ่งในสารประกอบของสูตร (V), Z คือ โลหะเฮไลด์ ของสูตร R11 - M ซึ่ง M คือ ไอออนของโลหะ และ R11 คือ อะตอมของฮาโลเจน 1 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่ง M คือ แมกนีเซีย 1 5. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 12 ถึง 14 ซึ่งปฏิกิริยาการคอพลิงนำมา ทำ เมื่อมีปริมาณ เพื่อใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาของเกลือคิวพรัสร่วมอยู่ด้วย 1 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 15 ซึ่งเกลือคิวพรัส หรือ คิวพรัสออกไซด์ 1 7. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งในสารประกอบของสูตร (II), X คือ S และแล้วทำการออกซิไดซ์ไปเป็นหมู่ SO 1 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งออกซิเดชันทำได้โดยใช้ไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ หรือ เปอริโอเดท 1 9. สารประกอบของสูตร (III) ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 2 0. สารประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งเป็นของสูตร (VIII) (สูตรเคมี) (VIII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกัน 2 1. สารประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 20 ซึ่ง R12 คือ หมู่แอซิทิล 2 2. กระบวนการสำหรับการเตรียมสารประกอบตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 18 ถึง 21 ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยการทำฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (IV) (สูตเคมี) (IV) ซึ่ง R2, R3, R4 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 กับสารประกอบของสูตร (V) (สูตเคมี) (V) ซึ่ง n, X และ R1 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 และ Z คือ หมู่หลุดออก 2 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งในสารประกอบของสูตร (V), Z คือ โลหะเฮไลด์ ของสูตร R11 - M ซึ่ง M คือ ไอออนของโลหะ และ R11 คือ อะตอมของฮาโลเจน 2 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่ง M คือ แมกนีเซียม 2 5. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 22 ถึง 24 ซึ่งปฏิกิริยาการคอพลิงนำมา ทำ เมื่อปริมาณเพื่อใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาของเกลือคิวพรัสร่วมอยู่ด้วย 2 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 25 ซึ่งเกลือคิวพรัส หรือ คิวพรัสคลอไรด์ 2 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 สำหรับการเตรียมของสารประกอบของสูตร (II A) (สูตรเคมี) (II A) ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยอะโรมาไทเซซันของสารประกอบของสูตร (VIII) ดังได้กำหนดไว้ ในข้อถือสิทธิที่ 20 และการกำจัดออกของหมู่ป้องกัน R12 2 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 สำหรับการเตรียมฟัลเวสแทรนท์ ซึ่งประกอบรวมด้วย การคอพลิงสารประกอบของสูตร (VII) (สูตรเคมี) ( VII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกันกับสารประกอบของสูตร (X) (สูตรเคมี) (X) ซึ่ง L คือ หมู่หลุดออกที่เหมาะสม และได้เป็นผลิตภัณฑ์ ซึ่งเกิดการดำเนินการตามสามขั้นตอนต่อไป นี้ (1) อะโรมาไทเซซันของวง A (2) การกำจัดหมู่ป้องกัน R12 (3) ออกซิเดชันของซัลไฟด์ไปเป็นซัลฟอกไซด์เกิดเป็นฟัลเวสแทรนท์ 2 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 22 สำหรับการเตรียมสารประกอบของสูตร ( VIII) (สูตรเคมี) ( VIII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกัน ซึ่งประกอบรวมด้วยการคอพลิงสารประกอบของสูตร VII (สูตรเคมี) ( VII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกันกับสารประกอบของสูตร X (สูตรเคมี) (X) ซึ่ง L คือ หมู่หลุดออกที่เหมาะสม 3 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 29 ซึ่งสารประกอบของสูตร (X) คือ สารประกอบของ สูตร (XI) (สูตรเคมี) (XI) ซึ่ง M คือ อะตอมของโลหะ และ R11 คือ อะตอมฮาโล 31. The process for the preparation of the compound intermedia of formula (II) (chemical formula) (II), where X is S, SO, SO2, O, NR6, N (O) R6, (PO) R6, NR7, COO-, NR7SO2, CONR6, CSNR6, NR7CO, NR7C (NR8) 8NR6, NR7 CS, CONR6, SO2NR6, or CO where R6 is hydrogen or C1-6 alkyl, R7 is hydrogen or C1-6 alkyl. And R8 is cyano, hydrogen or nitro, n is an integer number from 3 to 14, R1 is hydrogen or hydroxyl protection group, R1 is halo C1-10 alkyl, C1-10 alkyl. , C2-10 alkyl, C2-10 cyclo-alkyl, C1-10 alkyl carboxylic, C1-10 alkyl carbonyl C1-10 alkyl, Aryl (eg phenyl), aryl (C1-10) alkyl (eg phenyl (C1-10) alkyl) or di (C1-6) alkyl) amino R2 is hydrogen, C1-6 alkyl or hydroxyl, R3 is hydrogen, C1-6 alkyl, C2-6 alkyl or C2-6 alkyline, R4 is hydroxyl, C1-10 alkanoyl oxy, carboxylic C1-10 alkanoyl oxy Or aerobic oxidation (eg benzoyloxyl), R5 is C1-6 alkyl, the aromatic compounding process of the compound of formula (III) (chemical formula) (III), which R1, R2, R3, n, X, and R5 are defined in relation to the formula (II), and R4 \ 'is the R4 group or preer group of those substances. And after that if necessary or need which the implementation of steps One or more of the following episodes; (i) Elimination of any R-hydroxyl protection group; (ii) Conversion of R4 \ 'precursor group to R4 group, or where R4 \' is group R4, which is converted to R4 \ 'group. 2. Process according to claim 1, where R is the acetyl group 3. The process of claim 2, where R is the acetyl group 4. The process according to one of the claims. The previous right where R4 \ 'is an OR10 group, where R10 is an anti-hydroxyl group 5. Process according to claim 2, where R10 is an acid group, which can be eliminated by alkali hydrolysis. 6. Process according to claim 4, in which both R and R10 are acetyls, and selectable stages (i) and (ii) are combined in one deionization stage. Any of the preceding claims Which the aromatics of the substance Composition of formula (III) works when acetic anhydride is included, for example, to produce a compound of formula (II) where R is acetyl. 8. The process according to one of the following: Hold the previous rights Which Aroma Tai Seesan works by Use copper salt 9. Process according to claim 8, in which copper salt is cupric bromide 1 0. Process according to claim 8 or claim 9, where aromatherapy works. When alkali metal salts are included 1 1. Process according to one of claims 8 through 10, which uses thiourea to precipitate the residual copper after aromatization 1. 2. Process according to any of the previous claims. The compound of formula (III) was prepared by reacting the compound of formula (IV) (chemical formula) (IV), where R2, R3, R4, n, X and R5 are as defined in claim 1 with the compound of The formula (V) (chemical formula) (V), where n, X and R1 are as defined in claim 1 and Z is the loosened group 1. 3. The process of claim 12, in which the compound of the formula (V ), Z is the metal halide of the formula R11 - M, where M is the metal ion and R11 is the halogen atom 1. 4. Process according to claim 13, where M is magnesia 1. 5. Process according to clause Any of the claims 12 through 14, which the conspiracy reaction takes when volume To be used as a catalyst for cuprasal salt 1 6. Process of claim 15 in which cupras or cupras oxide 1 7. Process in accordance with any of the preceding claims. In which the compounds of formula (II), X are S and are then oxidized to SO 1. 8. Process according to claim 17, where oxidation is performed using hydrogen peroxide or periodate 1 9. Compounds Of formula (III) as set out in claim 1 2 0. The compound according to claim 19, which belongs to the formula (VIII) (chemical formula) (VIII) where R12 is the protective group 2 1. The compound according to the claim. R12, where R12 is the acetyl group 2. 2. Process for the preparation of compounds according to claims 18 through 21, in which the process of combining the compound reaction of the formula (IV) (chemical formula ) (IV), where R2, R3, R4 and R5 are defined in claim 1 with the compound of formula (V) (formula) (V), where n, X and R1 are defined in clause The 1st claim and Z is the detachment group 2. 3. Process according to claim 22, in which the compound of formula (V), Z is the metal halide of the formula R11 - M, where M is the metal ion and R11 is the atom. Of halogen 2. 4. Process according to claim 23, where M is magnesium 2. 5. Process according to one of claim 22 to 24 in which the reaction Copulation is carried out when the quantity for use as a catalyst of cuprasal salt is involved. 2. 6. Process according to claim 25 in which cupras or cupras chloride 2 7. The process follows Claim 1 for the preparation of a compound of formula (II A) (chemical formula) (II A) in which the aromatherapy process of the compound formula (VIII) is defined. In claim 20 and elimination of defensive groups R12 2 8. Procedures according to claim 1 for the preparation of falvestant. Which includes Compounding the compound of formula (VII) (chemical formula) (VII), where R12 is the protective group against the compound of formula (X) (chemical formula) (X), where L is the appropriate drop group. And has become a product The following three steps are performed: (1) A-band aromatherapy (2) removal of R12 protection group (3) oxidation of sulfide to sulfoxide results in Falvestant 2 9. Process according to claim 22 for the preparation of the compound formula (VIII) (chemical formula) (VIII), where R12 is a protective group consisting of compound compounding of formula VII ( Chemical formula) (VII), where R12 is the protective group against the compound of formula X (chemical formula) (X), where L is the appropriate drop group 3 0. Process according to claim 29, in which the compound of formula (X) is the compound of formula. (XI) (Chemical formula) (XI) where M is the metal atom and R11 is the halo 3 atom. 1. กระบวนการสำหรับการเตรียมฟัลเวสแทรนท์ของสูตร (I) (สูตรเคมี) (I) หรือเกลือ ซึ่งเป็นที่ยอมรับในทางยา หรือเอสเทอร์ของสารเหล่านั้น หรือไฮเดรตใด ๆ ของสารเหล่านี้ ซึ่งประกอบรวมด้วย (a) การคัพพลิงสารประกอบสูตร IX ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 27 กับสาร ประกอบของสูตร (IX) ดังได้กำหนดไว้ข้างต้น โดยการเติมเกลือคิวพรัส ซึ่งทั้งหมดละลายอยู่ในตัวทำ ละลายที่เหมาะสม เพื่อเกิดเป็นผลิตภัณฑ์ของสูตร ( VIII) (สูตรเคมี) ( VIII) (b) อะโรมาไทเซซันของวง A (c) การกำจัดหมู่ป้องกัน R12 และ (d) การออกซิไดซ์หมู่ซัลไฟด์ไปเป็นหมู่ซัลฟอกไซด์ เพื่อเกิดเป็นฟัลเวสแทรนท์ 31. The process for preparing the falvestant of formula (I) (chemical formula) (I) or salt, which is acceptable in medicine. Or esters of those substances, or hydrates of any of them. This includes (a) the compound formula IX, as defined in claim 27, and the compound formula (IX) as described above. By adding cupras salt Which all dissolve in the Suitable melt To form a product of the formula (VIII) (chemical formula) (VIII) (b) aromatherapy of the A circle (c) the elimination of the protective group R12 and (d) oxidizing the sulfide group. Is a group of sulfoxides To become a Falvestant 3 2. วิธีการเตรียมสารประกอบของสูตร (XIII) (สูตรเคมี) (XIII) ซึ่ง X, n, R1, R2, R3 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) โดยการทำปฏิกิริยาสาร ประกอบของสูตร (XIV) (สูตรเคมี) (XIV) ซึ่ง X, n, R1, R2, R3 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) และ R20 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกัน โดยเฉพาะอย่างยิ่งหมู่แอซิทิลกับเกลือคอปเปอร์ที่มีอะเซติคแอนไฮไดร์ร่วมอยู่ด้วย และแล้วทำการไฮโดรไลท์หมู่แอเซทิลออกซิที่เกิดขึ้นนั้น 32. The method for preparing the compound of the formula (XIII) (chemical formula) (XIII), where X, n, R1, R2, R3 and R5 are defined in relation to the formula (II) by reacting the substance. The composition of the formula (XIV) (chemical formula) (XIV), where X, n, R1, R2, R3 and R5 is defined in relation to the formula (II) and R20 is the hydrogen or protection group. Especially the acetyl group and the copper salt with acetic anhydride. And then hydrolyzate the resulting acetyloxide group 3. 3. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 32 สำหรับการเตรียมสารประกอบของสูตร (XIIIA) (สูตรเคมี) (XIIIA) โดยการทำปฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (XIVA) (สูตรเคมี) (XIVA) ซึ่ง R20 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกัน โดยเฉพาะอย่างยิ่งหมู่แอซิทิลกับเกลือคอปเปอร์ที่มีอะเซติค แอนไฮไดรด์ร่วมอยู่ด้วย และแล้วทำการไฮโดรไลซ์หมู่แอเซทิลออกซิที่เกิดขึ้นนั้น3. Method according to claim 32 for the preparation of compound formulas (XIIIA) (chemical formula) (XIIIA) by reacting the compound of the formula (XIVA) (chemical formula) (XIVA) in which R20 is a hydrogen or a protective group. Especially the acetyl group and the acetic copper salt. Anhydride is also included. And then hydrolyze the resulting acetyloxide group
TH101004150A 2001-10-11 Processes and manufacturing interfaces 7- Substitut Ted Antistrogens TH57777B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH62371A TH62371A (en) 2004-06-07
TH57777B true TH57777B (en) 2017-09-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI935748A0 (en) Composition with base and bland-oxide of cerium and zirconium, framing and alternating
JPH0781132B2 (en) Abrasive composition
Pollard et al. Chemical vapor deposition of cerium oxide using the precursors [Ce (hfac) 3 (glyme)]
Tokii et al. Structural, magnetic and spectroscopic characterization of novel di-. MU.-carboxylato-bridged binuclear copper (II) complexes with 1, 10-phenanthroline.
Wang et al. Decomposition and Cycloaddition Reactions of hfacac, and Syntheses and Structures of LnIII2 (hfacac) 4 (bdmap) 2 (H2O) 2 (THF) 2, LnIIICuII (bdmapH) 2 (hfacac) 2 (O2CCF3) L, and LnIIICuII2 (hfacac)(bdmap) 3 (O2CCH3) 2 (O2CCF3)(hfacacH)(Ln= Y, Pr, Nd; hfacac= hexafluoroacetylacetonato; bdmap= 1, 3-bis (dimethylamino)-2-propanolato; L= 2-methyl-2, 4, 6-tris (trifluoromethyl)-1, 3-dioxane-4, 6-diolato)
JPH07182939A (en) Composition for forming transparent conductive film and method for forming transparent conductive film
CZ230291A3 (en) Vaterite and process for preparing thereof
Mastropaolo et al. Molecular structure and electronic spectra of bis [. beta.-mercapto-. beta.',. beta.''-dimethylethylamino] cobaltate (II), Co [SC (CH3) 2CH2NH2] 2
TH57777B (en) Processes and manufacturing interfaces 7- Substitut Ted Antistrogens
Darr et al. Synthesis and properties of polyether adducts of hexafluoropentanedionatosilver (I)
JPS587463A (en) Paint composition
Milanov et al. Malonate complexes of dysprosium: synthesis, characterization and application for LI-MOCVD of dysprosium containing thin films
JP2000080154A (en) Curing agent and cure accelerator for resin and resin composition
JPS61233065A (en) Inorganic composition binder
Shoukry et al. Coordination properties of cefadroxil antibiotic: synthesis and equilibrium studies of the binary and ternary complexes involving amino acids and DNA units
WO2005105719A1 (en) Method for synthesizing compound and catalyst for synthesis reaction
JPH0280306A (en) Production of crystalline high temperature superconducting thin film
JPH02147667A (en) Surface-treating agent and powdery filler surface-treated therewith
JPS63161055A (en) Surface treatment and composition for resin magnet
JPH0158196B2 (en)
JPH04257592A (en) Metal complexes for forming new thin films
JPH0616402A (en) Nitrous oxide purification method
TWI244464B (en) Coated silica particles, their production method and uses
EP0994116B1 (en) Porous organic/metallic composite
JP2004300083A (en) Method for producing low melting tin carboxylate