TH57777B - กระบวนการและอินเทอร์มีเดียตสำหรับการผลิต 7-ซับสติติวเทด แอนติเอสโตรเจน - Google Patents

กระบวนการและอินเทอร์มีเดียตสำหรับการผลิต 7-ซับสติติวเทด แอนติเอสโตรเจน

Info

Publication number
TH57777B
TH57777B TH101004150A TH0101004150A TH57777B TH 57777 B TH57777 B TH 57777B TH 101004150 A TH101004150 A TH 101004150A TH 0101004150 A TH0101004150 A TH 0101004150A TH 57777 B TH57777 B TH 57777B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
formula
group
compound
alkyl
process according
Prior art date
Application number
TH101004150A
Other languages
English (en)
Other versions
TH62371A (th
Inventor
เดอร์มอท แพทริค ลัฟแฟน นายเดวิด
วิทตัน เคอร์ นายเฟรเซอร์
เรย์มอนด์ เลน นายแอนโธนี
สตีเวนสัน นายโรเบิร์ต
จอห์น ฮอแกน นายฟิลิป
โจแอนน์ บราเซียร์ นายอีฟ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH62371A publication Critical patent/TH62371A/th
Publication of TH57777B publication Critical patent/TH57777B/th

Links

Abstract

ได้จัดให้มีสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักซึ่งสามารถทำให้เกิดพื้นผิวที่ ถูกขัดที่มีความละเอียดสูงและมี ความสามารถในการขัดที่ดีขึ้น และได้จัดให้มีวิธีการใน การ ประเมินสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักในลักษณะที่ ค่อนข้างง่าย เพื่อให้ บรรลุวัตถุประสงค์ข้างต้น สารขัดถู ที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักจึงเป็นสารขัดถูที่มี ซี เรียมเป็นส่วนประกอบหลักที่มีซีเรียมออกไซด์ 40% โดยน้ำ หนักหรือมากกว่านั้น (จาก น้ำหนักทั้งหมดของเรร์เอิร์ทออก ไซด์) ซึ่งมีลักษณะพิเศษคือยังมีฟลูออรีน 0.5 ถึง 10% โดย น้ำหนักต่อสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลัก 100% โดยน้ำหนัก ในพจน์ของ น้ำหนักอะตอม และอนุภาคขัดที่ประกอบด้วยผลึกต่างๆ ที่มีค่าคงที่ของโครง ผลึกซึ่งวัด ด้วยวิธีการเลี้ยวเบนของผงรังสีเอ็กซ์ซึ่งอยู่ ในช่วง 0.544 ถึง 0.560 nm และวิธีการในการ ประเมินสารขัดถู ที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักตามการประดิษฐ์นี้เป็นวิธี การที่ประกอบ ด้วยขั้นตอนต่างๆ ดังนี้ การวิเคราะห์ตัว อย่างของสารขัดถูที่มีซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลัก ที่ต้องนำ ไปประเมินด้วยวิธีกา0รเลี้ยวเบนของผงรังสีเอ็กซ์ การทำให้ ได้มุมเลี้ยวเบน (เธตา) ของค่ายอดสุดอย่างน้อยหนึ่งค่าที่ ปรากฎบนช่วงต่างๆ สี่ช่วงที่บรรยายไว้ข้างต้น และการ คำนวณ ค่าคงที่ของโครงผลึกของผลึกต่างๆ ที่ประกอบเป็นอนุภาคขัด ของสารขัดถูที่มี ซีเรียมเป็นส่วนประกอบหลักโดย ใช้มุมเลี้ยวเบน (เธตา) ข้างต้น

Claims (3)

1. กระบวนการสำหรับการเตรียมสารประกอบอินเทอร์มีเดียตของสูตร (II) (สูตรเคมี) (II) ซึ่ง X คือ S, SO, SO2, O, NR6, N(O)R6, (PO)R6, NR7, COO-, NR7SO2, CONR6, CSNR6, NR7CO, NR7C(NR8)8NR6, NR7 CS, CONR6, SO2NR6, หรือ CO ซึ่ง R6 คือ ไฮโดรเจน หรือ C1-6อัลคิล, R7 คือ ไฮโดรเจน หรือ C1-6อัลคิล และ R8 คือ ไซยาโน, ไฮโดรเจน หรือไนโตร, n คือ ตัวเลขจำนวนเต็มจาก 3 ถึง 14 R1 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกันไฮดรอกซิ R1 คือ ฮาโลC1-10อัลคิล, C1-10อัลคิล, C2-10อัลคีนิล, C2-10ไซโคลอัลคิล, คาร์บอกซิC1-10อัลคิล, C1-10 อัลคอกซิคาร์บอนิลC1-10อัลคิล, แอริล (เช่น เฟนิล), แอริล(C1-10)อัลคิล (เช่น เฟนิล(C1-10)อัลคิล) หรือ ได(C1-6)อัลคิล)อะมิโน R2 คือ ไฮโดรเจน, C1-6อัลคิล หรือ ไฮดรอกซิ R3 คือ ไฮโดรเจน, C1-6อัลคิล, C2-6อัลคีนิล หรือ C2-6อัลไคนิล R4 คือ ไฮดรอกซิ, C1-10อัลคาโนอิลออกซิ, คาร์บอกซิC1-10อัลคาโนอิลออกซิ หรือแอโรอิลออกซิ (เช่น เบนโซอิลออกซิ) R5 คือ C1-6อัลคิล ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยอะโรมาไทเซซันของสารประกอบของสูตร (III) (สูตรเคมี) (III) ซึ่ง R1, R2, R3, n, X และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) และ R4\' คือ หมู่ R4 หรือ หมู่พรีเดอร์เซอร์ของสารเหล่านั้น และหลังจากนั้น หากจำเป็น หรือต้องการ ซึ่งการดำเนินการตามขั้น ตอนต่อไปนี้หนึ่งขั้น หรือมากกว่า; (i) การกำจัดหมู่ป้องกันไฮดรอกซิ R ใด ๆ (ii) การเปลี่ยนหมู่พรีเดอร์เซอร์ R4\' ไปเป็นหมู่ R4 หรือ ซึ่ง R4\' คือ หมู่ R4 ซึ่งเปลี่ยนไปเป็นหมู่ ดังกล่าวที่แตกต่างกัน 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่ง R คือ หมู่แอซิล 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่ง R คือ หมู่แอซิทิล 4. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่ง R4\' คือ หมู่ OR10 ซึ่ง R10 คือ หมู่ป้องกันไฮดรอกซิ 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่ง R10 คือ หมู่แอซิล ซึ่งสามารถกำจัดออกโดยอัลคาไล ไฮโดรไลซิส 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 4 ซึ่งทั้ง R และ R10 คือ แอซิทิล และขั้นที่เลือกได้ (i) และ (ii) นำมาทำร่วมกันในขั้นการดีแอซิเลชันครั้งเดียว 7. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งอะโรมาไทเซซันของสาร ประกอบของสูตร (III) ได้ผล เมื่อมีอะเซติคแอนไฮไดรด์ร่วมอยู่ด้วย ดังเช่น เพื่อผลิตสารประกอบ ของสูตร (II) ซึ่ง R คือ แอซิทิล 8. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งอะโรมาไทเซซันได้ผลโดย ใช้เกลือคอปเปอร์ 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 ซึ่งเกลือคอปเปอร์ คือ คิวพริคโบรไมด์ 1 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 8 หรือข้อถือสิทธิที่ 9 ซึ่งปฏิกิริยาอะโรมาไทเซซันได้ผล เมื่อมีเกลือของโลหะอัลคาไลร่วมอยู่ด้วย 1 1. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 8 ถึง 10 ซึ่งใช้ไธโอยูเรีย เพื่อตก ตะกอนคอปเปอร์ที่เหลือใช้ภายหลังอะโรมาไทเซชัน 1 2. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งเตรียมสารประกอบของ สูตร (III) โดยการทำปฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (IV) (สูตรเคมี) (IV) ซึ่ง R2, R3, R4, n, X และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 กับสารประกอบของสูตร (V) (สูตรเคมี) (V) ซึ่ง n, X และ R1 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 และ Z คือ หมู่หลุดออก 1 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 12 ซึ่งในสารประกอบของสูตร (V), Z คือ โลหะเฮไลด์ ของสูตร R11 - M ซึ่ง M คือ ไอออนของโลหะ และ R11 คือ อะตอมของฮาโลเจน 1 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 13 ซึ่ง M คือ แมกนีเซีย 1 5. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 12 ถึง 14 ซึ่งปฏิกิริยาการคอพลิงนำมา ทำ เมื่อมีปริมาณ เพื่อใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาของเกลือคิวพรัสร่วมอยู่ด้วย 1 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 15 ซึ่งเกลือคิวพรัส หรือ คิวพรัสออกไซด์ 1 7. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิก่อนหน้านี้ ซึ่งในสารประกอบของสูตร (II), X คือ S และแล้วทำการออกซิไดซ์ไปเป็นหมู่ SO 1 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 17 ซึ่งออกซิเดชันทำได้โดยใช้ไฮโดรเจน เปอร์ออกไซด์ หรือ เปอริโอเดท 1 9. สารประกอบของสูตร (III) ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 2 0. สารประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 19 ซึ่งเป็นของสูตร (VIII) (สูตรเคมี) (VIII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกัน 2 1. สารประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 20 ซึ่ง R12 คือ หมู่แอซิทิล 2 2. กระบวนการสำหรับการเตรียมสารประกอบตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 18 ถึง 21 ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยการทำฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (IV) (สูตเคมี) (IV) ซึ่ง R2, R3, R4 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 กับสารประกอบของสูตร (V) (สูตเคมี) (V) ซึ่ง n, X และ R1 คือ ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 1 และ Z คือ หมู่หลุดออก 2 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 22 ซึ่งในสารประกอบของสูตร (V), Z คือ โลหะเฮไลด์ ของสูตร R11 - M ซึ่ง M คือ ไอออนของโลหะ และ R11 คือ อะตอมของฮาโลเจน 2 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 23 ซึ่ง M คือ แมกนีเซียม 2 5. กระบวนการตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 22 ถึง 24 ซึ่งปฏิกิริยาการคอพลิงนำมา ทำ เมื่อปริมาณเพื่อใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาของเกลือคิวพรัสร่วมอยู่ด้วย 2 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 25 ซึ่งเกลือคิวพรัส หรือ คิวพรัสคลอไรด์ 2 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 สำหรับการเตรียมของสารประกอบของสูตร (II A) (สูตรเคมี) (II A) ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยอะโรมาไทเซซันของสารประกอบของสูตร (VIII) ดังได้กำหนดไว้ ในข้อถือสิทธิที่ 20 และการกำจัดออกของหมู่ป้องกัน R12 2 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 สำหรับการเตรียมฟัลเวสแทรนท์ ซึ่งประกอบรวมด้วย การคอพลิงสารประกอบของสูตร (VII) (สูตรเคมี) ( VII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกันกับสารประกอบของสูตร (X) (สูตรเคมี) (X) ซึ่ง L คือ หมู่หลุดออกที่เหมาะสม และได้เป็นผลิตภัณฑ์ ซึ่งเกิดการดำเนินการตามสามขั้นตอนต่อไป นี้ (1) อะโรมาไทเซซันของวง A (2) การกำจัดหมู่ป้องกัน R12 (3) ออกซิเดชันของซัลไฟด์ไปเป็นซัลฟอกไซด์เกิดเป็นฟัลเวสแทรนท์ 2 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 22 สำหรับการเตรียมสารประกอบของสูตร ( VIII) (สูตรเคมี) ( VIII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกัน ซึ่งประกอบรวมด้วยการคอพลิงสารประกอบของสูตร VII (สูตรเคมี) ( VII) ซึ่ง R12 คือ หมู่ป้องกันกับสารประกอบของสูตร X (สูตรเคมี) (X) ซึ่ง L คือ หมู่หลุดออกที่เหมาะสม 3 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 29 ซึ่งสารประกอบของสูตร (X) คือ สารประกอบของ สูตร (XI) (สูตรเคมี) (XI) ซึ่ง M คือ อะตอมของโลหะ และ R11 คือ อะตอมฮาโล 3
1. กระบวนการสำหรับการเตรียมฟัลเวสแทรนท์ของสูตร (I) (สูตรเคมี) (I) หรือเกลือ ซึ่งเป็นที่ยอมรับในทางยา หรือเอสเทอร์ของสารเหล่านั้น หรือไฮเดรตใด ๆ ของสารเหล่านี้ ซึ่งประกอบรวมด้วย (a) การคัพพลิงสารประกอบสูตร IX ดังได้กำหนดไว้ในข้อถือสิทธิที่ 27 กับสาร ประกอบของสูตร (IX) ดังได้กำหนดไว้ข้างต้น โดยการเติมเกลือคิวพรัส ซึ่งทั้งหมดละลายอยู่ในตัวทำ ละลายที่เหมาะสม เพื่อเกิดเป็นผลิตภัณฑ์ของสูตร ( VIII) (สูตรเคมี) ( VIII) (b) อะโรมาไทเซซันของวง A (c) การกำจัดหมู่ป้องกัน R12 และ (d) การออกซิไดซ์หมู่ซัลไฟด์ไปเป็นหมู่ซัลฟอกไซด์ เพื่อเกิดเป็นฟัลเวสแทรนท์ 3
2. วิธีการเตรียมสารประกอบของสูตร (XIII) (สูตรเคมี) (XIII) ซึ่ง X, n, R1, R2, R3 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) โดยการทำปฏิกิริยาสาร ประกอบของสูตร (XIV) (สูตรเคมี) (XIV) ซึ่ง X, n, R1, R2, R3 และ R5 คือ ดังได้กำหนดไว้ในความสัมพันธ์กับสูตร (II) และ R20 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกัน โดยเฉพาะอย่างยิ่งหมู่แอซิทิลกับเกลือคอปเปอร์ที่มีอะเซติคแอนไฮไดร์ร่วมอยู่ด้วย และแล้วทำการไฮโดรไลท์หมู่แอเซทิลออกซิที่เกิดขึ้นนั้น 3
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 32 สำหรับการเตรียมสารประกอบของสูตร (XIIIA) (สูตรเคมี) (XIIIA) โดยการทำปฏิกิริยาสารประกอบของสูตร (XIVA) (สูตรเคมี) (XIVA) ซึ่ง R20 คือ ไฮโดรเจน หรือหมู่ป้องกัน โดยเฉพาะอย่างยิ่งหมู่แอซิทิลกับเกลือคอปเปอร์ที่มีอะเซติค แอนไฮไดรด์ร่วมอยู่ด้วย และแล้วทำการไฮโดรไลซ์หมู่แอเซทิลออกซิที่เกิดขึ้นนั้น
TH101004150A 2001-10-11 กระบวนการและอินเทอร์มีเดียตสำหรับการผลิต 7-ซับสติติวเทด แอนติเอสโตรเจน TH57777B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH62371A TH62371A (th) 2004-06-07
TH57777B true TH57777B (th) 2017-09-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI935748A0 (fi) Komposition baserad pao en bland-oxid av cerium och zirkonium, framstaellning och anvaendning
JPH0781132B2 (ja) 研磨剤組成物
Pollard et al. Chemical vapor deposition of cerium oxide using the precursors [Ce (hfac) 3 (glyme)]
Tokii et al. Structural, magnetic and spectroscopic characterization of novel di-. MU.-carboxylato-bridged binuclear copper (II) complexes with 1, 10-phenanthroline.
Wang et al. Decomposition and Cycloaddition Reactions of hfacac, and Syntheses and Structures of LnIII2 (hfacac) 4 (bdmap) 2 (H2O) 2 (THF) 2, LnIIICuII (bdmapH) 2 (hfacac) 2 (O2CCF3) L, and LnIIICuII2 (hfacac)(bdmap) 3 (O2CCH3) 2 (O2CCF3)(hfacacH)(Ln= Y, Pr, Nd; hfacac= hexafluoroacetylacetonato; bdmap= 1, 3-bis (dimethylamino)-2-propanolato; L= 2-methyl-2, 4, 6-tris (trifluoromethyl)-1, 3-dioxane-4, 6-diolato)
JPH07182939A (ja) 透明導電膜形成用組成物及び透明導電膜形成方法
CZ230291A3 (en) Vaterite and process for preparing thereof
Mastropaolo et al. Molecular structure and electronic spectra of bis [. beta.-mercapto-. beta.',. beta.''-dimethylethylamino] cobaltate (II), Co [SC (CH3) 2CH2NH2] 2
TH57777B (th) กระบวนการและอินเทอร์มีเดียตสำหรับการผลิต 7-ซับสติติวเทด แอนติเอสโตรเจน
Darr et al. Synthesis and properties of polyether adducts of hexafluoropentanedionatosilver (I)
JPS587463A (ja) 塗料組成物
Milanov et al. Malonate complexes of dysprosium: synthesis, characterization and application for LI-MOCVD of dysprosium containing thin films
JP2000080154A (ja) 樹脂用硬化剤・硬化促進剤及び樹脂組成物
JPS61233065A (ja) 無機系組成物バインダ−
Shoukry et al. Coordination properties of cefadroxil antibiotic: synthesis and equilibrium studies of the binary and ternary complexes involving amino acids and DNA units
WO2005105719A1 (ja) 化合物の合成方法および合成反応触媒
JPH0280306A (ja) 高温超電導結晶性薄膜の製造法
JPH02147667A (ja) 表面処理剤およびそれにより表面処理された充填剤粉末
JPS63161055A (ja) 表面処理剤および樹脂磁石用組成物
JPH0158196B2 (th)
JPH04257592A (ja) 新規薄膜形成用金属錯体
JPH0616402A (ja) 亜酸化窒素の精製方法
TWI244464B (en) Coated silica particles, their production method and uses
EP0994116B1 (en) Porous organic/metallic composite
JP2004300083A (ja) 低融点カルボン酸スズ塩の製造方法