TR201809103T4 - Fleksografik baskı kalıbı üretmek için metot ve fleksografik baskı kalıbı. - Google Patents

Abstract

Uzun süreli bir baskı işleminde dahi kalıp yüzeyi kontaminasyonunun önlenebileceği bir fleksografik baskı kalıbı imalat yöntemi temin edilir. Bir fleksografik baskı kalıbının imalatı için bir metodun karakterize edici özelliği, amino modifiye bir silikon bileşiği içeren bir sıvının, kütle olarak %50?den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baskı kalıbıyla temas ettirilmesidir. Adı geçen lateksin muhteviyatı, tercihen, baskı kalıbı reçinesi bileşimi içerisinde kütle olarak %30?dan daha az değildir, ve amino modifiye silikon bileşiğinin amino grubu eşdeğeri tercihen 500 g/mol?den daha az değildir.

Description

TARIFNAMEFLEKSOGRAFIK BASKI KALIBI URETMEK ICIN METOT VE FLEKSOGRAF IK BASKI KALIBIMevcut bulus, bir fleksografik baski kalibi imalati için bir metotla vebir fleksografik baski kalibiyla ilgilidir.Arka Plan TeknigiÖrnegin Patent Doküinanlari 1 ila 3 içerisinde bahsedildigi gibi, fleksografi için geleneksel fotosensitif reçine kaliplari pozlandirma, indirine ve pozlandirma sonrasi adimlari vasitasiyla imal edilirler.

Fleksografi için fotosensitif reçine kalibinin kullanildigi bir baski metodu, bir mürekkep tedarik etme rulosu kullanilarak düzgün olmayan reçine kalibinin konveks yüzeyi üzerine mürekkebin tedarik edildigi, ve ardindan reçine kalibiniii baski yapilacak nesneyle temas ettirildigi, böylece konveks yüzeyin mürekkebinin baski yapilacak nesne üzerine transfer edildigi bir metottur. Bu tür bir fleksografide, reçine kalibinin konveks yüzeyinin bir omuz alanina mürekkebin tutunmasi veya mürekkebin konkaV yüzeye nüfuz etmesi (bundan böyle buna "kalip yüzeyi kontaminasyonu" olarak atfedilecektir), sik olarak, uzun süreli baski islemi sirasinda ortaya çikar. Bunun bir sonucu olarak, içkin desen alani olmayan bir alana bile baskiyapilabilir, bu ise baski kalitesinin kötülesmesine yol açar. Özellikle de yakin geçmiste, fleksografinin yüksek dogrulukta baski islemine uygulanmasi ilerleme kaydetinistir ve yüksek satir sayilarinda bir yarim ton noktali baski islemi, renk ve konsantrasyon derecelendirmesi olusturmak için çabuk yürütülmüstür. Bu durumda yarim ton noktalar arasindaki araliklar daha az oldugu için, mürekkep, baski kalibiiiin yariin ton noktalarinin konkavlari içerisine daha kolay doldurulur. Mürekkep, baski kalibiniii konkavlari içerisinde önceden belirlenmis veya daha fazla bir miktarda teplandiginda, noktalar arasinda köprü olusturmak için, baski yapilacak nesneye transfer edilir, bu da baski kalitesinin öiiemli ölçüde kötülesmesiylesonuçlanir.Fleksografinin karakteristiklerinden biri, sulu mürekkep, alkollü mürekkep, solveiit tipi mürekkep veya UV mürekkep gibi, çesitli tipte mürekkeplere uyum saglamasidir. Diger yandan, herhangi tipte bir mürekkep kullanildiginda dahi, kalip yüzeyi kontaminasyonunun önlenmesi için bir talep mevcuttur. Ozellikle de, solvent tipi mürekkep veya UV mürekkep gibi, kalip malzemesi için yüksek permeabiliteye sahip bir mürekkep kullanilsa dahi, kalip yüzeyi kontaniinasyonununönlenmesi gereklidir.Bir fleksografik baski kalibinin kalip yüzeyi kontamiiiasyonunun önleniiiesine iliskin olarak zeten birçok metot önerilmistir. Ornegin, Patent Doküinani 4, esasen polyester reçine içeren bir baski kalibi üzerine firçayla sürme veya püskürtme yoluyla silikon yaginin, silikon kauçugun, silikon vemigin veya florin bilesigiiiin tutundugu bir teknigi açiklamaktadir. Kalip yüzeyi kontaminasyonu için baziönleyici etkilerin bu tür bir teknik sayesinde elde edilmesine ragmen, noktalar arasinda dar araliklarin oldugu yüksek satir sayilarinda bir yarim ton noktali baski isleminde kalip yüzeyi kontaminasyonuönlenemez. Süreklilik etkisi de yetersizdir.Patent Dokümani 5 içerisinde, bir sulu reçineden ve silikon bilesiginin veya florin bilesiginin bir sulu emülsiyonundan olusan bir karisimiii bir elastomer içeren bir baski kalibi üzerine uygulandigi bir metot önerilmektedir. Ancak, modifiye edilmemis bir silikon bilesiginin kullanimindan dolayi, kalip yüzeyi kontaminasyonunu `Önleme etkisi yeterli degildir. Özellikle de, uzun süreli veya tekrarlamali bir baskida, adi geçen etki hemen hemen hiç sürdürülemez, ve etkinin muhafazaedilmesi için, karisimin tekrar tekrar uygulanmasi gerekli olur.Patent Dokümani 6 içerisinde, hidrofilik polimer, stiren-butadien- stiren blok kopolimeri, sivi butadien, foto-çapraz-baglama ajani ve fotoinisiyatör içeren bir fleksografik baski kalibinin, modifiye edilmis bir silikon bilesigi içeren bir çözeltiyle temas ettirilmesi için bir metot önerilmektedir. Adi geçen bulusta, modifiye edilmis bir silikon bilesiginin kullanimi sayesinde, kalip yüzeyi kontaminasyonunu `Önleme etkisinde bir iyilesme elde edilir. Ancak, uzun süreli bir baski isleminde, kalip yüzeyi kontaminasyonu ortaya çikar, ve özellikle de, bir solvent tipi mürekkep veya UV mürekkep kullanildiginda, bunun süreklilik etkisi yeterli olmaz. Adi geçen bulusta, ayrica, modifiye edilmis bir silikon bilesiginin kalipla temas ettirilmesinden sonra, aktif isiniii yayildigi bir metottan da bahsedilmekte olup, ancak sürekliliketkisi bu durumda da yetersizdir.

Patent Dokümani 7 içerisinde, blok kopolimer, foto-çapraz-baglama ajani ve fotoiiiisiyatör içeren bir baski kalibi içerisine bir organosilikon bilesiginin ilave edildigi bir metot açiklanniaktadir. Bu metotta, silikon bir reçine bilesimi içerisine ilave edilir ve silikon çözeltisinin kalip yüzeyiyle temas ettirildigi bir metoda kiyasla, mükemmel bir süreklilik etkisi elde edilir. Ancak, organosilikon bilesigi, tüm baski kalibi bilesimi içerisine yayilir, ve baski kalibi yüzeyi üzerinde mevcut silikon miktari azdir. Bu yüzden, kritik 'Önem tasiyan, mürekkebin neden oldugu tikanmayi 'Önleme etkisi yeterli degildir. Reçine tabakasinin alt film üzerine tutunniasi da kötülesir ve baski islemi sirasinda alt film ile reçine tabakasinin ayrilmasi gibi birciddi dezavantaj ortaya çikabilir.Patent Dokümani 1: Yayiiilaninis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No. 171111/98Patent Dokümani 2: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No. 88555/88Patent Dokümani 3: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No. 134410/93Patent Dokümani 4: Yayinlaiimis Japon Pateiit Basvurusu (JP-A) No. 47805/76Patent Dokümaiii 5: Yayinlanmis Japon Patent Basvurusu (JP-A) No. 2002-292985Patent Dokümani 6: WO 2005/064413Patent Dokümani 7: WC 2007/ 1 16941 Mevcut bulusun ainaci, uzun bir zaman dilimi boyunca kalip yüzeyi kontaininasyoiiunu önleyebilen bir baski kalibinin imalati için biryöntemin temin edilmesidir.Probleinin Çözümü için YolMevcut mucitler, bu tür bir amaca erismek için yogun arastirmalar yapmislar, ve ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir sivi, kütle olarak %50”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla temas ettirildiginde, burada 500 g/mol”den daha az olmayan amino grubu esdegerine sahip bir amino modifiye silikon bilesigi kullanildiginda, yukarida bahsedilen probleinin çözüldügünü bulmuslar, ve bunun üzerine mevcut bulusu tamamlamislardir. Mevcut bulus, hein bir baski kalibi bilesimi, hem de bir silikon bilesigi açisindan yürüttügümüz yogunarastirmalarin sonucunda yapilmistir.Bu yüzden, mevcut bulusu olusturan unsurlar asagidaki gibidir:(1) Bir fleksografik baski kalibinin imalati için bir inetot olup, karakterize edici özelligi, ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir sivinin, kütle olarak %50”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla teinas ettirilmesi, burada 500 g/mol°den daha az olmayan amino grubu esdegerine sahip bir amino modifiye silikon bilesiginin kullanilmasidir.(2) (1),e uygun imalat metodu olup, burada kütle olarak %50”dendaha az olmayan jelasyon derecesine sahip lateksin muhteviyati, bir baski kalibi reçinesi bilesimi içerisinde kütle olarak %30”dan daha az degildir.(3) (l)7e veya (2)”ye uygun imalat metodu olup, burada fleksografik baski kalibi ayrica bir emülsiyonlastirici da içerir.(4) (3)”e uygun imalat metodu olup, burada emülsiyonlastirici, bir anyonik sürfaktandir.(5) (1) ila (4)”e uygun imalat metodu olup, burada lateks, kütle olarak %70,den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahiptir.(6) (1) ila (5),in imalat metotlarindan herhangi biriyle imal edilen bir fleksografik baski kalibi.Bulusun AvantajlariMevcut bulusun imalat metoduyla hazirlanan fleksografik baski kalibi içerisinde, solvent tipi bir mürekkebin kullanildigi uzun süreli bir baski isleminde dahi kalip yüzeyi kontaminasyonu olusmaz ve yüksekkaliteli baski islemi uzun bir süre stabil bir sekilde yürütülebilir.Asagida, mevcut bulus, sadece, tercih edilen uygulama sekillerindegösterilecektir.Mevcut mucitler, hem bir baski kalibi reçinesi bilesimi, hem de bir silikon bilesigi açisindan yaptiklari yogun arastirmalarin sonucunda, kalip yüzeyi kontaminasyonu Önleme etkisinin mükemmel sürdürülebildigi bir metot gelistirmislerdir. Böylece, bir baski kalibi reçinesi bilesimi içerisine, kütle olarak %50”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks dahil edilmistir, ve bir silikonbilesigi olarak, amino grubu içeren bir bilesik kullanilmistir.

Ilk olarak, baski kalibini olusturan reçine bilesimi anlatilacaktir. Baski kalibini olusturan reçine bilesiininin, kütle olarak %50°den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateksi (A) esansiyel bir bilesen olarak ihtiva etinesi ve ayrica fotopoliinerize edilebilir birbilesik (B) ve bir fotoinisiyatör (C) içermesi tercih edilir.Mevcut bulusta kullanilan baski kalibinin, kütle olarak %50°den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks (A) ihtiva etmesi önemlidir. Lateks (A), tek bir lateks içerebilir veya birçok lateksin bir karisimini içerebilir. Kütle olarak %50”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip lateksin kullanilmasi sonucunda, kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin sürdürülebilirligi önemli ölçüde iyilestirilir. Kütle olarak %70”den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateksin kullanilinasi tercih edilir. Buna karsin, kütle olarak %50iden daha az olan bir jelasyon derecesine sahip lateks kullanildiginda veya hiç lateks kullanilmadiginda, kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin sürdürülebilirligi önemliölçüde kötülesir.Mevcut bulusta, lateks (A)°nm jelasyon derecesi degeri, bunun toluen içerisindeki çözünmezlik derecesiyle uyarilir. Spesifik olinak gerekirse, yaklasik 3 g lateks çözeltisi, 100 nm kalinlikta, hassas tartilinis bir PET film üzerine uygulanir, 100°C°de 1 saat kurutulur, hassas tartilir, 25°C7de 48 saat bir toluen çözeltisi içerisine daldirilir, 110°C°de 2 saat kurutulur ve yeniden hassas tartilir, ardindan latekskati muhteviyatinda toluen içerisinde çözünmeyen maddenin kütle fraksiyonu (birim: kütle %”si) hesaplanir ve elde edilen deger, mevcutbulusta lateksin jelasyon derecesi olarak kabul edilir.Mevcut bulusta kullanilacak lateks (A), yani belirli veya daha yüksek bir seviyede jelasyon derecesine sahip bir lateks, geleneksel lateksler arasindan uygun sekilde seçilebilir. Örnegin, bir polibutadien lateksi, bir stiren-butadien kopolimer lateksi, bir akrilonitril-butadien k0polimer lateksi, bir metil metakrilat-butadien k0polimer lateksi, ve benzerleri kullanilabilir. Ayrica, bu lateksler (1net)akrilatla, karboksiyle, ve benzerleriyle modifiye edilmis olabilirler. Burada, jellesmis lateksler olarak çesitli sentetik lateksler ve dogal lateksler piyasada mevcut olduklari için, aralarindan uygun olan biri, jellesmisbir lateks olarak seçilebilir.Mevcut bulusta kullanilan lateksin bir emülsiyonlastirici içermesi tercih edilir. Bir emülsiyonlastirici, örnegin, bir molekül içerisinde uzun Zincirli alkil grubu gibi bir hidrofobik gruba ve bir karboksilat gibi bir hidrofilik gruba sahip bir bilesiktir ve bir emülsifiye etme etkisi sergileyen bir bilesigi veya bir bilesimi gösterir.

Emülsiyonlastici olarak anyonik sürfaktan, iyonik olmayan sürfaktan, katyonik sürfaktan, makroinoleküler sürfaktan veya bunlarin bir karisimi kullanilabilir. Anyonik sürfaktanin örneklerine yüksek yag asidi tuzu, alfa-olefin Sülfonat, alkil benzensülfonat, alkil sülfat tuzu, alkil eter sülfat tuzu, metil taurinat ve sülfosüksinat dahildir. Iyonik olmayan sürfaktan örneklerine yüksek alkolün etilen oksitle adüktü, alkilfenolün etilen oksitle adüktü, yag asidinin etilen oksitle adüktü, polihidrik alkol yag asidi esterinin etilen oksitle adüktü, yüksekalkilaminin etilen oksitle adüktü ve yag asidi amidinin etilen oksitleadüktü dahildir. Bir polietilen glikol tipi sürfaktan, örnegin polipropilen glikolün etilen oksitle adüktü ve bir polihidrik alkol tipi sürfaktan, örnegin gliserol yag asidi esteri, pentaeritritol yag asidi esteri, sorbitol ve sorbitan yag asidi esteri, polihidrik alkol alkil ester ve alkanolaminin yag asidi amidi de, iyonik olinayan sürfaktan örnekleridir. Katyonik sürfaktan örneklerine açilaminoetil dietilamin tuzu, N-alkil polialkilenpoliamin tuzu, yag asidi polietilenpoliamid tuzu, dietilaminoetilamid tuzu, alkil trimetilamonyum tuzu, dialkil dimetilamonyum tuzu ve alkil dimetilamonyum tuzu dahildir.

Makromoleküler sürfaktan örneklerine, bir molekül içerisinde bir hidrofilik grup içeren akrilik reçine dahildir. Bu tür em'ûlsiyonlastiricilar olarak, bunlarin bir türü tek basina veya bunlariniki veya daha fazla türü, birbirlerine karistirilarak kullanilabilir.Bir emülsiyonlastirici içeren lateksin kullanildigi bir kalip malzemesi, su itme etkisini sürdürmede mükemmeldir ve uzun süreli baski isleminden sonra dahi noktalar arasinda köprü olusturmayla hemen hemen hiç sonuçlanmaz. Anyonik Sürfaktanin bir emülsiyonlastirici olarak kullanildigi lateksi kullanan bir kalip malzemesi, özellikle de, su itme etkisinin sürdürülmesinde mükemmeldir ve ayrica noktalararasinda köprü olusumunun önleninesi açisindan da mükemmeldir.Fotopolinierize edilebilir bilesik (B), isik yayina yoluyla poliinerize etme ve çapraz baglama, böylelikle seklin muhafaza edilmesi için bir baski kalibi içerisinde bir yoguii ag olusturma rolüne sahiptir.

Fotopolimerize edilebilir bir oligomer, mevcut bulusta kullanilan, fotopolimerize edilebilir bilesik (B) olarak tercih edilir. Buradakullanilan bir foto polimerize edilebilir oligomer terimi, bir etilenik doymamis grubun bir kon jüge dien esasli polimerin uç ve/veya yan zincirine baglandigi ve sayi ortalamali moleküler agirligi 1,000 ila10,000 olan bir kon jüge dien esasli etilenik polimerdir.Konjüge dien esasli etilenik polimeri olusturan konjüge dien esasli polimer, bir kon jüge dien doymamis bilesiginin bir homopolimerinden veya bir konjüge dien doymamis bilesiginin ve monoetilenik doymamis bir bilesigin bir k0polimerinden olusturulur. Bir konjüge dien doymamis bilesiginin bu tür bir homopolimerinin veya bir konjüge dien doymamis bilesiginin ve monoetilenik doymamis bir bilesigin bu. tür bir kopolimerinin örneklerine bir butadien polimeri, bir izopren polimeri, bir kloropren polimeri, bir stiren-kloropren kopolimeri, bir akrilonitril-butadien kopolimeri, bir akrilonitril- izopren kopolimeri, bir metil metakrilat-izopren kopolimeri, bir metil metakrilat-kloropren kopolimeri, bir metil akrilat-butadien kopolimeri, bir metil akrilat-izopren kopolimeri, bir metil akrilat-kloropren k0polimeri, bir akrilonitril-butadien-stiren k0polimeri ve bir akrilonitril-kloropren-stiren kopolimeri dahildir. Bunlarin arasindan, kauçuk elastisitesi ve fotokürleiiebilirlik açisindan bir butadien polimeri, bir izopren polimeri ve bir akrilonitril-butadien kopolimeri tercih edilebilir, ve bir butadien polimeri ve bir izopren polimeriözellikle tercih edilebilir.Mevcut bulusun fotopolimerize edilebilir bilesigi açisindan, gerek görüldügünde, genellikle kullanilan bir fotopolimerize edilebilir bilesik, örnegin akrilat veya metakrilat, yukarida örneksellestirilmis olanlara ilaveten, mevcut bulusun etkisi kötülesmeyecek ölçüdekullanilabilir.

Fotopolimerizasyon inisiyatörü (C), fotopoliinerize edilebilir bilesigin fotopolimerizasyonu ve çapraz baglanma reaksiyonu için bir katalizör olarak bir role sahiptir. Bir polimerize edilebilir karbon-karbon doyinamis grubunun isik yayilmasi yoluyla polimerize edilmesini saglayabilen herhangi bir bilesik mevcut bulusta fotopoliinerizasyon inisiyatörü olarak kullanilabilirken, isik absorpsiyonuiiun neden oldugu kendiliginden ayrisma veya hidrojen ekstraksiyonu yoluyla bir kök olusturma islevi gören bir bilesik tercihen kullanilir. Spesifik olarak, örnegin, benzoin alkil eterler, benzofenonlar, antrakinonlar,benziller, asetofenonlar, ve diasetiller kullanilabilir.Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde, kütle olarak %50°den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip lateksin (A) birlesme miktari için belirli bir sinirlama olmamasina ragmen, kütle olarak %30°dan daha az olniayan bir miktarin bilesim içerisinde ihtiva edilmesi tercih edilir. Kütle olarak %30”dan daha az olniayan bir miktarin bilesim içerisinde ihtiva edilmesinin bir sonucu olarak, kalip yüzeyi koiitaminasyonunu önleme etkisi özellikle mükeinmel olur. Kütle olarak %40°dan daha az olinayan bir miktarin bilesim içerisinde ihtiva edilmesi daha fazla tercih edilir. Diger yandan, lateksin birlesme miktarinin üst sinirinin kütle olarak %70°den daha az olmasi tercih edilir. Ust siiiir kütle olarak %70°den daha fazla oldugunda, fotopolinierizasyon çapraz baglanma özelliginin kötülestigi görülür ve yüksek dogrulukta bir görüntüolusturma zorlasir.Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisine, arzuedildiginde, yukarida bahsedilen üç komponent (A) ila (C)°ye ilave olarak, istege bagli komponentler, ömegiii bir elastomer, bir hidrofilik polimer, bir plastiklestirici ve/veya bir polimerizasyon inhibitör'û dahiledilebilir.Bir elastomer mevcut bulusun baski kalibiyla birlestirildiginde, mevcut bulusun baski kalibinin pozlanmasindaii önce baski direnciiide ve elle kullanma özelliginde iyilesmenin görüldügü bazi durumlar mevcuttur. Bu tür bir etkiye sahip elastomer açisindan, bir konj'uge dien esasli hidrokarbonun polimerizasyonu yoluyla hazirlanan bir polimer, ve bir konjüge dien esasli hidrokarbonun bir monoolefin esasli doymamis bilesikle polimerizasyonu yoluyla hazirlanan bir kopolimer mevcuttur, ve bunlarin örneklerine butadien polimeri, izopren polimeri, kloropren poliineri stiren-butadien kopolimeri, süren-izopren kopolimeri, stiren-izopren-stiren kopolimeri, stiren- kloropren kopolimeri, akrilonitril-butadien kopolimeri, akrilonitril- izopren kopolimeri, inetil metakrilat-butadien kopolimeri, inetil metakrilat-butadien k0polimeri, metil metakrilat-iZOpren kopolimeri ve akrilonitril-izopren-stiren kopolimeri dahildir. Bu elastomerlerden her biri tek basina kullanilabilir veya bunlardan ikisi veya daha fazlasibirlikte kullanilabilir.Bir hidrofilik polimer mevcut bulusun baski kalibiyla birlestiginde, mevcut bulusun baski kalibinin indirilme özelligini iyilestirme etkisinin görüldügü durum mevcut olabilir. Bu tür bir etkiyi saglayan hidrofilik polimerlere tercihen -COOH, -COOM (M bir tek degerli, iki degerli veya üç degerli metal iyonudur veya bir sübstitüe edilmis veya edilmemis amonyum iyonudur), -OH, -NH2, -SO3H ve bir fosfat grubu gibi bir hidrofilik gruba sahip polimerler, ve spesifik olarak (met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin bir polimeri, (met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin bir alkil (met)akrilatla bir kopolimeri, (met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin stirenle bir kopolimeri, (met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin vinil asetatla bir kopolimeri, (met)akrilik asidin veya bunun tuzlarinin akrilonitrille bir kopolimeri, poliviiiil alkol, karboksimetilselüloz, poliakrilamidler, hidroksietilselüloz, polietilen oksitler, polietileniminler, bir -COOM grubuna sahip poliüretanlar, bir -COOM grubuna sahip poliüre üretanlar, bir -COOM grubuna sahip poliamid asit, ve bunlarin tuzlari veya türevleri dahildir. Bunlar tek baslarina kullanilabilir veya iki veya daha fazla polimer kombinasyon halinde kullanilabilir. Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde hidrofilik polimerin birlesme kismi tercihen kütle olarak %20 veya daha azdir, ve daha fazla tercihen %15 veya daha azdir. Hidrofilik poliinerin birlesme miktari yukarida gösterilen üst siiiiri asarsa, üretilecek bir baski kalibinin su direnci kötülesebilir ve su esasli mürekkep direncide kötülesebilir.Bir plastiklestirici inevcut bulusun baski kalibiyla birlestirildiginde, mevcut bulusun baski kalibini olusturan bir reçine bilesiminin akiskanligini iyilestirme etkisinin ve üretilecek bir baski orijinal kalibinin sertligini ayarlama etkisinin elde edildigi bazi durumlar mevcuttur. Bu tür etkileri saglayan plastiklestirici, tercihen, lateksle (A) iyi uyum saglayan bir üründür, ve daha fazla tercihen, oda sicakliginda sivi olan bir polien bilesigi veya oda sicakliginda sivi olan bir ester bagina sahip bir bilesiktir. Oda sicakliginda sivi olan polien bilesiginin `Örnekleri sivi polibutadien, poliizopren, ve bunlarinuç gruplarinin veya yan ziiicirlerinin modifikasyonundan elde edilen, bunlarin inaleinize edilmis türevleri ve epoksidize edilmis türevleridir.

Oda sicakliginda sivi olan bir ester bagina sahip bilesigin örneklerine ftalatlar, fosfatlar, sebakatlar, adipatlar ve moleküler agirligi 1,000 ila 3,000 olan polyesterler dahildir. Mevcut bulusun reçine bilesimi içerisinde plastiklestiricinin birlesme orani tercihen kütle olarak %30 veya daha azdir ve daha fazla tercihen %20 veya daha azdir.

Plastiklestiricinin birlesme miktari yukarida gösterilen üst siniri asarsa, bir baski kalibinin mekanik özellikleri ve solvent direnci büyükölçüde kötülesebilir, ve bu durum, baski kaliciligini kötülestirebilir.Polimerizasyon inhibitörü, mevcut bulusun baski kalibini olusturan bir reçine bilesiminin termal stabilitesini arttirma etkisi gösterir. Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde, geleneksel olarak bilinen polinierizasyon inhibitörleri kullanilabilir, ve bunlarin örneklerine fenoller, hidrokinonlar ve katekoller dahildir. Mevcut bulusun baski kalibini olusturan reçine bilesimi içerisinde polimerizasyon inhibitörünün birlesme orani tercihen agirlik olarak%0.001 ila 3, ve daha fazla tercihen agirlik olarak %0.001 ila 2°dir.Ayrica, bir renklendirici, bir antioksidan, bir silikon bilesigi, bir florin bilesigi ve benzerleri de, mevcut bulusun etkisi azalmadigi sürece, yukarida bahsedilenlerden daha baska, istege bagli komponentlerolarak ilave edilebilirler.Mevcut bulusun reçine bilesimi, esansiyel bir bilesen olarak agirlik olarak %50”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks (A) ile birlesine yoluyla, ve arzu edildigi takdirde,fotopolimerize edilebilir bilesikle, fotoinisiyatörle ve istege bagli bilesenle karistirma yoluyla hazirlanir. Bu islemde, karismayi kolaylastirma amaciyla, arzu edildigi takdirde, toluen gibi bir organik solvent ilave edilebilir. Ayrica, tam karistirmak amaciyla, bir yogurucu kullanilarak bir isitma kosulu altinda koinponentlerin tamamen yogurulmasi da arzu edilebilir. Isitma kosulu tercihen yaklasik 50 ila yaklasik 110°C”dir. Ayrica, karistirma sirasinda ilave edilen organik solvent ve komponentler içerisinde ihtiva edilen nem,tercihen, yogurma sonrasi, azaltilmis basinç altinda uzaklastirilir.Simdi, bir ainino modifiye silikon bilesigi anlatilacaktir.Mevcut bulusta kullanilan amino modifiye silikon bilesigi, bir molekül içerisinde en az bir amino grubuna sahiptir. Ainino grubunun konumu için belirli bir sinirlama yoktur ve bu konumun örneklerine uç konumu ve yan zincir konumu dahildir. Amino grubu, çoklu konuinlarda var olabilir. Ayrica, amino grubu haricinde bir islevsel grup da ihtiva edilebilir. Amino modifiye bir silikonun kullanilmasinin bir sonucu olarak, sadece, baslangiç asamasindaki mürekkep itme etkisi mükemmel olmaz, bilakis ayrica, solvent tipi bir mürekkebin kullanildigi kosul altinda dahi, etkinin çok mükemmel birsürdürülebilirlik özelligi mevcuttur.Bir ana zincir olarak dimetilsiloksana sahip silikon yagi gibi, modifiye edici gruba sahip olmayan silikon bilesigi kullanildiginda, mürekkep itme etkisi, kalipla temas etme baslangiç asamasinda zaten zayiftir, ve ayrica, etki, baskinin baslangiç asamasinda tamamen kaybolur. Amino grubuna sahip olmayan, ancak metakrilik grubu, karbinol grubu veyakarboksil grubu gibi bir islevsel gruba sahip olan bir modifiye edilmis silikon bilesigi durumunda, mürekkep itme etkisinin modifiye edici grubun mevcut olinadigi duruma kiyasla daha iyi olmasina ragmen,etki, uzun süreli baski islemi sirasinda azalir.Amino modifiye silikon bilesiginin amino grubu esdegeri 500 g/mol°den daha az degildir, ve bunun 500 g/mol ila 20,000 g/mol araliginda olmasi tercih edilir, ve bunun 1,000 g/mol ila 10,000 g/mol araliginda olmasi daha fazla tercih edilir. Amino grubu esdegerinin 500 g/mol”den daha az olinamasi saglandiginda, baslangiç asamasinda mükeinmel bir mürekkep itme etkisi elde edilir. Diger yandan, amino grubu esdegerinin 20,000 g/mol”den daha az olmasi saglandiginda,mürekkep itme etkisinin sürdürülebilirligi mükeinmel olur.Amino modifiye silikon bilesiginiii dinamik viskozitesi için belirli sinirlama olmamasina ragmen, 20 ila 5,000 mmZ/saniye araligi tercih edilir ve 40 ila 1,000 mmZ/saniye araligi daha fazla tercih edilir.

Dinamik Viskozitenin 20 mmz/saniye'nin altinda olmainasi saglandiginda, mürekkep itme özelligi `Özellikle mükemmel olur.

Diger yandan, dinamik Viskozitenin 5,000 mm2/saniye°nin altinda olmasi saglandiginda, dissolüsyon üzerine stabilite Özelliklemükeinmel olur.Mevcut bulusta kullanilabilen amino modifiyeli silikon bilesigi açisindan, asagida gösterildigi gibi olan biri piyasada mevcuttur.

Böylece, bunuii örneklerine Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF859, KF393, KF860, KF880, KF8004, KF867, KF869, KF861, KF877, X22-3939A, PAM-E, KF8010, X22-161A, KF8012, KF8008, X22-16608-3, KF857, KF8001, KF862, X22-9l92 ve KF858, ve Asahi Kasei-Wacker Silicone tarafindan imal edilen L652, L653, L655, L656, WR1100, WR1200, WR1300, WR1600, WT1250 ve WT1650 dahildir. Bunlarin arasindan KF859, KF860, KF880, X22- 161A, KF8012, KFSOOl, L653 ve WT1250, islevsel grup esdegeri vedinamik viskozite açisindan özellikle tercih edilir.Mevcut bulusta, bir einülsiyon tipi, amino modifiye bir silikon bilesigi de kullanilabilir. Örnegin, asagidaki ürünler piyasada mevcuttur.

Bunlarin örneklerine Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen PolonMF-l4, P010nMF-14D, PolonMF-14EC, PolonMF-29, PolonMF-44 ve P010nMF-52, ve Asahi Kasei-Wacker Silicone tarafindan imal edilen FlNlSH CT14E, FlNlSH CTISE, KP2601, NP2609, TSZ403, SLJl316, SLJ1367, SLJ1358 ve SMK21011 dahildir.Amino modifiye silikon bilesigiyle bir baski kalibinin temas ettirilmesi için bir metot açisindan, herhangi bir metot uygulanabilecektir. Örnegin, bir islemden geçirme çözeltisinin, amino modifiye silikon bilesigi organik solvent, su veya alkol, tercihen '1 ila 6 karbon(lar)a sahip bir alkol, daha fazla tercihen metanol, etanol, veya izopropil alkol veya benzerleri içerisinde çözündürülerek veya dagitilarak 'Önceden hazirlandigi, ve ardindan, pozlama adimindan sonra uygun bir asamada, baski kalibinin bir islemden geçirme çözeltisi içerisine daldirildigi veya islemden geçirme çözeltisinin atomizör, püskürtücü veya firça kullanilarak kalip yüzeyi üzerine uygulandigi bir metot mevcuttur. Bu tür bir islemden geçirme çözeltisi içerisinde kullanilan silikon bilesiginin konsantrasyonu kütle olarak%0,05 ila kütle olarak %10 araligindadir. Gerek görüldügünde, amino modifiye silikon bilesigini içeren çözeltiye, kaliba permeabiliteyi kolaylastirmak için, gliserol veya alkil glikol eter gibi bir solventin ilave edilmesi, veya amino modifiye silikonun dissolüsyon stabilitesini iyilestirmek için, (formik asit veya asetik asit gibi) asidik bilesigin, gliserolün, sürfaktaiiin ve benzerleriniii kullanilmasi da mümkündür. Ayrica, bunlarla birlikte, bir silan kenetleiinie ajanininkullanilmasi da mümküiidür.Amiiio modifiye silikon bilesigi çözeltisi baski kalibiyla temas ettirildikten sonra, 40°C°den daha az olmayan bir sicaklikta bir kurutma/isitma isleminin yapilmasi tercih edilir. 50°C”den daha az olmayan bir sicaklikta bir kurutma/isitma isleminin yapilmasi daha fazla tercih edilir. Kurutma süresinin 5 dakikadan daha kisa olmaniasi tercih edilir ve 10 dakikadan daha kisa olmaiiiasi daha fazla tercih edilir. Isitma isleminin bu sekilde yürütülmesiniii bir sonucu olarak, amino modifiye silikon bilesiginin baski kalibina yakin aderanskuvveti artar.Baski kalibinin aniiiio modifiye silikoiila temas ettirilmesi adiminin, ana pozlama adimini izlemesi sartiyla, herhangi bir asamada temin edilebilmesine ragmen, bu adimin indirme adimiiidan hemen sonra gelmesi tercih edilir. Bu böyledir, çünkü geleneksel fleksografik oyma adiminda, kurutma islemi indirme isleminden sonra yürütülür, ve bir baski kalibi indirme isleminden sonra bir silikon çözeltisiyle temas ettirildiginde, artik bir developer kurutma isleminin ve bir silikon çözeltisini kurutma/isitma isleminin ayni anda yürütülmesi mümkünolur, böylelikle adimlar basitlestirilebilir.

Iç hat tipi bir otomatik indirme makinesinin kullanilmasi durumunda, "indirme" ve "silikon çözeltisi püskürtme" islemlerinden olusan iki adim tek bir cihaz içerisinde yürütülebilir. Indirme adimi sonrasinda bir silikon bilesiginin bir çalkalama Çözeltisi içerisinde ihtiva edilmeside mümkündür.Bir baski kalibinin bir silikon çözeltisiyle temas ettirilmesi metodu içiii bir diger 'örnek, bir amino modifiye silikon bilesiginin, bir fotosensitif reçine kalibi içiii bir indirme adiminda kullanilan bir developer ile karistirildigi bir metottur. Yukaridakinin yani sira, developer genellikle anyonik sürfaktan, iyonik olmayan sürfaktan, katyonik sürfaktan, köpük giderme ajani, alkali ajani, ve benzerlerini içerir. Bunlara ilaveten, çesitli stabilizörler de, developer içerisinde amino modifiye silikon bilesiginin stabilitesiniii iyilestirilmesi için,developerle birlestirilebilir.Mevcut bulusta, bir jellesmis lateks içeren bir baski kalibi, ainino modifiye bir silikon bilesigiyle temas ettirilir, bunun üzerine kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin mükemmel sürdürülebilirligi saglanir. Etki gösterme mekanizmasinin henüz tam anlasilamamasina ragmen, amino modifiye silikon bilesigi ve jellesmis lateks arasindaki bir etkilesimin ve/veya amino modifiye silikon bilesigi ve einülsiyonlastirici arasindaki etkilesimin önemli bir rol oynadiklari(0ynadig1) varsayilir. Jellesmis lateks üç boyutlu olarak çapraz baglandigi için, amino modifiye silikon bilesiginin jellesmis lateksin bir matrisi içerisine beslenmesi durumunda bir mürekkep solvent jellesmis lateks içerisine nüfuz ettiginde dahi, jellesmislateksin hemen hemen hiç sismedigi, ve bunun bir sonucu olarak, amino modifiye silikonun jellesmis lateksten hemen hemen hiç ayrilmadigi, böylelikle kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin mükemmel sürdürülebilirliginin elde edildigi varsayilir. Ayrica, bir anyonik sürfaktanin bir emülsiyonlastirici olarak kullanildigi, bir lateksi kullanan bir kalip malzemesi içerisinde, su itme etkisinin sürdürülebilirliginin özellikle mükemmel oldugu ve noktalar arasinda köprü olusturmayi önlemenin de mükemmel oldugu görülmüstür.

Amino modifiye silikonun bir ainino grubu ile anyonik sürfaktanin bir anyonik grubu arasindaki güçlü etkilesimin bir sonucu olarak, amino modifiye silikonun hemen hemen hiç ayrilmadigi, böylelikle kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisinin mükeminelsürdürülebilirliginin elde edildigi varsayilir.Ayrica, mevcut bulusun baski kalibinin, önceki teknik dokümanlarinda açiklanmamis bir avantajli etkiye sahip oldugu, böylece baski kaliciliginin, ainino modifiye bir silikonla islemden geçirilmemis baski kalibina kiyasla iyilestigi de bulunmustur.

Genellikle, jellesmis bir lateksin kullanildigi bir baski kalibi içerisinde, lateksin partiküller formunda mevcut olmasi gerçeginden dolayi, uzun süreli bir baski sirasinda bir aniloks rulosuyla ve baski yapilacak bir nesneyle uzun süreli temas etme sonucunda ince noktalarda çatlamalar ve asinmalar olusur, böylelikle baski kaliciligi her zaman memnun edici olmaz. Yukarida açiklamanin tersine, amino modifiye bir silikonun baski kalibiyla temas ettirilmesi durumunda, uzun süreli baski isleminde dahi ince noktalarda çatlamalar ve asinmalar hemen hemen hiç olusmaz, böylelikle baski kaliciligi iyilestirilebilir. Bu etki gösterme mekanizmasinin henüz tamanlasilamamasina ragmen, buna, amino modifiye bir silikonla islemden geçirme yoluyla kalip yüzeyinin asinina kuvvetinin azalmasinin ve/veya kalibin mürekkep itme özelliginde bir iyilesmeden dolayi bir mürekkep solventin kalibin iç alani içerisinenüfuz etmesinde azalmanin neden oldugu varsayilir.ÖrneklerMevcut bulus simdi asagidaki Orneklerin yardimiyla daha daaçiklaiiacaktir, ancak mevcut bulus bu Orneklerle sinirli degildir."Yüzey geriliminin belirlenmesi"Yüzey gerilimi, bir islanma geriliminin test edilmesi için (Kanto Kagaku tarafindan imal edilen) bir karistirilmis çözelti kullanilarak belirlenir. 20°C ve %60 bagi] nem (RH) atmosfer kosullari altinda, bir islanma geriliminin test edilmesi için 226 mN/m, 25.4 mN/m, 27.3 mN/m, 30 mN/m, 31 mN/m, 32 mN/m, 33 mN/m, 34 mN/m, 35 mN/m, 36 mN/m, 37 mN/m, 38 mN/m, 39 mN/m ve 40mN/m karistirilmis çözeltilerinin her birinden iki damla, bir baski kalibi üzerine damlatilir ve bir pamuklu çubuk vasitasiyla yayma üzerine, yayilan islanma çiplak gözle degerlendirilir. Sivi itildiginde karistirilmis çözeltinin degeri, yüzey gerilimi olarak kabul edilir.

Yüzey gerilimi düsük oldugunda, mürekkep itme özelligi iyilesir ve baski sirasinda mürekkebin neden oldugu tikanmayi önleme etkisiartar."Noktalar arasinda köprü Olusturmanin belirlenmesi" Noktalar arasinda köprü olusturma, 800 LPI aniloks kullamlarak (MCK tarafindan iinal edilen) bir fleksografik baski cihazi FPR 302 ile belirlenir. Bir mürekkep olarak, bir solvent mürekkep (ticari ismi: Brightflex (DIC tarafindan iinal edilir)) kullanilir. Baski yapilacak bir nesne olarak, bir kaplama kagidi (ticari ismi: Pearl Coat (Oji Paper tarafindan iinal edilir)) kullanilir. Baski yapma islemi 50 m/dakika°lik bir hizda yürütülür. Yukarida belirtilen kosullar altinda, bir 50-m baski yapma islemi ilk olarak yürütülür ve baski yapilan bir numune toplanir. Bundan sonra, bir 950-m baski yapma islemi yürütülür ve toplamda 1000 m için baski yapma isleminden sonra bir numune hazirlanir. Belirlenecek yarim ton noktalar 125, 150, 175 ve 200 LP1”da %1 ”lik, 5'lik, 10°luk ve 20”lik noktalardir, ve noktalar arasinda köprü olusturma böylelikle tespit edilir. Noktalar arasinda köprü olusuinu hic,` gözlemlenmediginde, yariin ton noktalarin uçlarinda gözlemlendiginde, yarim ton noktalarin uçlarinin yakininda gözlemlendiginde ve yariin ton noktalarin tüm yüzeyleri üzerinde gözlemlendiginde, bu noktalar sirasiyla "A", "B", "C" ve "D" olarakbelirlenir."Baski kaliciliginin belirlenmesi"Baski kaliciligi, 800 LPI aniloks kullanilarak (MCK tarafindan imal edilen) bir fleksografik baski cihazi FPR 302 ile belirlenir. Bir mürekkep olarak, bir solvent mürekkep (ticari ismi: Brightflex (DIC tarafindan imal edilir)) kullanilir. Baski yapilacak bir nesne olarak, bir kaplama kagidi (ticari ismi: Pearl Coat (Oji Paper tarafindan imal edilir)) kullanilir. Baski yapma islemi 50 n1/dakika”lik bir hizdayürütülür. Baski kaliciliginin belirleninesinin hizlandirilmasi amaciyla, baski basinci, dogru degerden 0.02 m°lik bir degere bastirma kosulu altinda yürütülür. 200 LPI”da %lslik yarim ton noktalarda, çatlaklara veya asinmalara kadar baski kalitesi olusturulurve baski kalitesindeki kötülesme dikkate alinir ve tespit edilir."Sentetik Ornek 1"Kütle olarak 125 kisiin stiren-butadien lateksi (Nippon A&L tarafindan iinal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan bir emülsiyonlastirici olarak kullanilir), lateks olarak;kütle olarak 15 kisim oligobutadien akrilat (Kyoeisha Kagaku tarafindan imal edilen ABU-3; moleküler agirlik: 2,700), kütle olarak kisiin lauril metakrilat ve kütle olarak 10 kisim trimetilolpropan triakrilat, fotopolimerize edilebilir bilesikler olarak;kütle olarak 1 kisim benzil dimetilketal, fotopolimerizasyon inisiyatörü olarak ve kütle olarak 20 kisim PFT-3 (Kyoeisha Kagaku tarafindan imal edilen bir üretanüre yapisina sahip, moleküler agirligi yaklasik 20,000 olan bir bilesik; kati konsantrasyonu: %25), bir hidrofilik polimer olarak, kütle olarak 0.1 kisim hidrokinon monometil eter, bir polimerizasyon inhibitörü olarak ve kütle olarak 9 kisiin sivi butadien kauçuk, bir plastiklestirici olarak,bir konteyner içerisinde kütle olarak 5 kisim toluenle birlikte karistirilir ve 105°C”de bir basinçli yogurucu kullanilarak yogurulur, ve bundan sonra, toluen ve su, vakuin içerisinde buradan uzaklastirilir,böylece bir reçine bilesimi l elde edilir."Sentetik Örnek 2" Bir reçine bilesimi 2, kütle olarak 9] kisim butadien lateksinin (Nippon Zeon tarafindan imal edilen LXl l lNF; kati konsantrasyonu: %55; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak 125 kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 3"Bir reçine bilesimi 3, kütle olarak 125 kisim NBR lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-lO; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak 125 kisiin stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek 1'deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 4"Bir reçine bilesimi 4, kütle olarak 7] kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon Zeon tarafindan imal edilen C4850; kati konsantrasyonu: %70; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak 125 kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l”deki ayni metotla hazirlanir.

"Sentetik Ornek 5"Bir reçine bilesimi 5, kütle olarak 100 kisim NBR lateksinin (Nippon A&L tarafindan iinal edilen Cyatex NA-lOSS; kati konsantrasyonu: %50; anyonik sürfaktan, bir einülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasiharicinde, Sentetik Ornek l°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Ornek 6"Bir reçine bilesimi 6, kütle olarak 119 kisim NBR lateksinin (Nippon Zeon tarafindan iinal edilen SX1503A; kati konsantrasyonu: %42; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir), kütle olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-11; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde,Sentetik Ornek 1°deki ayni metotla hazirlanir."Sentetik Örnek 7"Bir reçine bilesimi 7, kütle olarak 50 kisim butadien poliinerinin (Japan Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BR02; kati konsantrasyonu: %100), kütle olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; katikonsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde, Sentetik Ornek l”deki aynimetotla hazirlanir."Sentetik Örnek 8"Bir reçine bilesimi 8, kütle olarak 75 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) ve kütle olarak 20 kisim butadien polimerinin (Japan Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BROZ; kati konsantrasyonu: %100) bir karisiminin, kütle olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-l 1; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilinasi haricinde, Sentetik Ornek l°deki aynimetotla hazirlanir."Sentetik Ornek 9"Bir reçine bilesimi 9, kütle olarak 25 kisim stiren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindaii imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) ve kütle olarak 40 kisim butadien poliinerinin (Japan Synthetic Rubber tarafindan imal edilen BROZ; kati konsantrasyonu: %100) bir karisiminin, kütle olarak 125 kisim süren-butadien lateksinin (Nippon A&L tarafindan imal edilen Cyatex NA-ll; kati konsantrasyonu: %40; anyonik sürfaktan, bir emülsiyonlayici olarak kullanilir) yerine kullanilmasi haricinde, Sentetik Ornek lideki aynimetotla hazirlanir. "Örnek 1"Sentetik Ornek l”de elde edilen bir reçine bilesimi 1, bir polyester esasli yapiskan tabakayla kaplanmis, 125 um”lik bir kalinliga sahip bir polietilen tereftalat filinden olusan bir destek, ve polivinil alkol içeren bir yapiskan olmayan tabakayla kaplanmis, 100 um°lik bir kalinliga sahip bir polietilen tereftalat filmden olusan bir örtücü film arasinda sandviç haline getirilir, böylece yapiskan tabaka ile yapiskan olinayan tabaka, reçine bilesimiyle temas ederler, ve ardindan 1 dakika boyunca 105°C”de ve 10 MPa°lik bir basinçta bir isiyla bastirma makinesinde bastirilirlar, böylelikle 1.14 mm”lik bir kalinliga sahip bir levha benzeri fotosensitif reçine kalibi elde edilir. Bu fotosensitif reçine kalibi, ilk olarak, bir UV pozlama cihazi (Philips tarafindan imal edilen lOR) kullanilarak destegin bulundugu taraftan 300 mJ/ciri2”lik bir toplam yüzey pozlama islemine tabi tulur ve ardindan karsi taraf üzerindeki örtücü film uzaklastirilir, bunu bir negatif film vasitasiyla 4,000 mJ/cm2”lik bir görüntü pozlama islemine tabi tutulma takip eder. Ardindaii, kalip indirme islemi, bir yikama cihazi (Toyobo tarafindan imal edilen CRS 600; 40°C°de %l°lik yikama sabunu sulu çözeltisi) kullanilarak 7 dakika boyunca yürütülür Bundan sonra, kalip yüzeyi üzerindeki su damlalari, bir su süzme çubugu kullanilarak uzaklastirilir. Soiira, bir amino modifiye silikon bilesiginin (Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF859; amino grubu esdegeri: 6,000 g/mol; dinamik viskozite: 60 mm2/saniye) agirlik olarak %O.4”ünü içeren bir etanolik çözelti, kalibin üzerine, bir püskürtücü kullanilarak püskürtülür. Bunun ardindan, kurutma islemi, bir kurutucu kullanilarak 10 dakika boyunca 60°C,de yürütülür, vesonra pozlama sonrasi islemi (Philips tarafindan imal edilen lOR;4,000 mJ/cmz) yürütülür ve (5 dakika boyunca) bir sterilize edici lambayla islemden geçirme yapilir, böylece hedeflenen baski kalibielde edilir. Belirlemenin sonucu, Tablo 17de gösterilir."Ornek 2"Örnek l”dekiy1e ayni belirleme, Sentetik Ornek 2”de hazirlanan reçine bilesimi 2 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Örnek 3"Örnek 1'dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 3'de hazirlanan reçine bilesimi 3 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Örnek 4"Örnek 1°dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 4°de hazirlanan reçine bilesimi 4 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir.

"Kiyaslama Örnegi 1" Ornek l”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 5”de hazirlanan reçinebilesimi 5 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir.

"Kiyaslama Örnegi 2"Örnek l”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 6”da hazirlanan reçine bilesimi 6 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Kiyaslama Örnegi 3"Ornek l'dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 7sde hazirlanan reçine bilesimi 7 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Örnek 5"Ornek 17dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 8°de hazirlanan reçine bilesimi 8 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Ornek 6"Ornek l ”dekiyle ayni belirleme, Sentetik Ornek 9”da hazirlanan reçine bilesimi 9 kullanilarak yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Örnek 7" (Referans Ornek)Ornek l°dekiyle ayni belirleme, bir amino modifiye silikonun (Shin-Etsu Chemical tarafindan iinal edilen KF393; islevsel grup esdegeri: 350 g/mol; dinamik viskozite: 70 mmZ/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”degösterilir."Ornek 8"Örnek l'dekiyle ayni belirleme, bir amiiio modifiye silikonun (Asai Kasei-Wacker Silicone tarafindan imal edilen L656; islevsel grup esdegeri: 800 g/mol; dinamik Viskozite: 25 mmZ/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Örnek 9"Ornek l°dekiyle ayni belirleme, bir amino modifiye silikonun (Shin- Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF880; islevsel grup esdegeri: 1,800 g/mol; dinamik viskozite: 650 minzlsaniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l°degösterilir."Kiyaslama Örnegi 4"Ornek l”dekiy1e ayni belirleme, bir karboksi modifiye silikonun (Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen X22-162C; islevsel grup esdegeri: 2,300 g/mol; dinamik viskozite: 220 mmZ/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 5 "Ornek l”dekiyle ayni belirleme, bir metakril modifiye silikonun (Shin- Etsu Chemical tarafindan imal edilen X22-164A; islevsel grup esdegeri: 860 g/mol; dinamik Viskozite: 25 mmz/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasi haricinde yapilir. Belirlemenin sonucu,Tablo 1 ”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 6"Örnek l”dekiyle ayni belirleme, bir modifiye edilmemis silikonun (Shin-Etsu Chemical tarafindan imal edilen KF96-50CS; dinamik Viskozite: 50 n1m2/saniye) bir silikon bilesigi olarak kullanilmasiharicinde yapilir. Belirlemenin sonucu, Tablo l”de gösterilir."Kiyaslama Örnegi 7"Bir silikon bilesigi bir baski kalibiyla temas ettirilmez. Ornek 1°dekiyle ayni belirleme, yukaridakiler haricinde yapilir. Belirleinenin sonucu, Tablo 1°de gösterilir.Tablo I°den, amino modifiye bir bilesik, kütle olarak %50”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla temas ettirildiginde, uzun süreli bir baski isleminden sonra dahi noktalar arasinda bir köprü olusumuna neden olmadigi görülebilir. Bunun tersine, Kiyaslama Örnekleri 1, 2 ve 3,de gösterildigi gibi, düsük jelasyon derecesine sahip lateksin kullanildigi veya lateksin kullanilmadigi bir baski kalibi içerisinde, baski islemisirasinda mürekkep itme etkisi önemli ölçüde azalmaz ve noktalararasinda köprü olusumu korkunç bir haldedir. Ayrica, Kiyaslama Ornekleri 4”de, 5”de ve 6”da gösterildigi gibi, amino grubuna sahip olmayan bir silikon bilesiginin kullanilmasi durumunda, uzun süreli bir baski isleminde mürekkep itme etkisinin azalmasi dikkat çeker ve noktalar arasinda köprü olusumu da kötülesir. Yukarida açiklanan hususlar dikkate alindiginda, kütle olarak %50an daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir baski kalibi bir amino modifiye silikon bilesigiyle temas ettirildiginde, su itme etkisinin uzun süre mükemmel sürdürülebilecegi ve noktalar arasindaköprü olusumunun önlenebilecegi anlasilir. 33[Tablo 1] * bir Referans Örnegi gösterir reçine yüzey noktalar baski bilesimi gerilimi arasinda kaliciliginin (mN/m) köprü belirlenmesi olusturma reçine kullanilan lateks silikon bilesigi bilesimi jelasyon lateks baskinin baskidan baskinin baskidan numarasi derecesi inuhteviyati baslangiç sonra baslangiç sonra (kütle (kütle %,si) asamasi asamasi %,si) Örnek 1 l 95 50 amino 25 25 A A >1000 in modifiye silikon bilesigi KF859 Örnek 2 2 86 50 amino 25 25 A A >1000 in Mevcut bulusun imalat metoduna göre, mükemmel sürdürülebilirlige sahip bir kalip yüzeyi kontaminasyonu önleme etkisi, bir fleksografik baski kalibina kazandirilabilir. Bunun bir sonucu olarak, uzun bir süre stabil bir sekilde yüksek kaliteli bir baski isleminin yürütülmesi artikmümkündür ve bu olanak endüstriye büyük fayda saglar.

TARIFNAME IÇERISINDE ATIF YAPILAN REFERANSLARBasvuru sahibi tarafindan atif yapilan referanslara iliskin bu liste, yalnizca okuyucunun yardimi içindir ve Avrupa Patent Belgesinin bir kismini olusturmaz. Her ne kadar referanslarin derlenmesine büyük önem verilmis olsa da, hatalar veya eksiklikler engelleneinemektedirve EPO bu baglamda hiçbir sorumluluk kabul etmemektedir.Tarifname içerisinde atifta bulunulan patent dökümanlari:. JP 10171111 A [0009] . JP 2002292985 A [0009] . JP 63088555 A [0009] - WO 2005064413 A [0009] . JP 5134410 A [0009] . WO 2007116941 A [0009]° .IP 51047805 A [0009]

Claims (6)

ISTEMLER

1. Bir fleksografik baski kalibinin imalati için bir metot olup, karakterize edici 'Özelligi, ainino modifiye bir silikon bilesigi içeren bir sivinin, kütle olarak %50°den daha az olinayan bir jelasyon derecesine sahip bir lateks içeren bir fleksografik baski kalibiyla temas ettirilmesi, burada 500 g/mol”den daha az olmayan amino grubu esdegerine sahip bir ainino modifiye silikon bilesiginin kullanilmasidir.

2. Istem lse uygun imalat metodu olup, burada kütle olarak %50”den daha az olmayan jelasyon derecesine sahip lateksin muhteviyati, bir baski kalibi reçinesi bilesimi içerisinde kütle olarak %30sdan daha az degildir.

3. Istein l°e veya 2”ye uygun imalat metodu olup, burada fleksografik baski kalibi ayrica bir emülsiyonlastirici da içerir.

4. Istein 3°e uygun imalat inetodu olup, burada emülsiyonlastirici, bir anyonik sürfaktandir.

5. l”den 4”e kadar olan isteinlerden herhangi birine uygun imalat metodu olup, burada lateks, kütle olarak %70”den daha az olmayan bir jelasyon derecesine sahiptir.

6. l°den 5°e kadar olan istemlerden herhangi birine uygun imalat metotlarindan herhangi biriyle iinal edilen bir fleksografik baski