TR201816450T4 - Bloklama ve parmak izine karşı dirençli olan ve iyileştirilmiş bir sertliğe sahip olan sulu kaplamalar için çok yapılı partiküller bazlı sulu polimer dağıltısı. - Google Patents
Bloklama ve parmak izine karşı dirençli olan ve iyileştirilmiş bir sertliğe sahip olan sulu kaplamalar için çok yapılı partiküller bazlı sulu polimer dağıltısı. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201816450T4 TR201816450T4 TR2018/16450T TR201816450T TR201816450T4 TR 201816450 T4 TR201816450 T4 TR 201816450T4 TR 2018/16450 T TR2018/16450 T TR 2018/16450T TR 201816450 T TR201816450 T TR 201816450T TR 201816450 T4 TR201816450 T4 TR 201816450T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- polymer
- meth
- composition
- monomer
- dispersion
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 90
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 24
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 title abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 90
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 90
- -1 acetoacetoxy Chemical group 0.000 claims description 31
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 26
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 25
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 23
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 claims description 22
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 21
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 19
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 12
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 9
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 8
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 8
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 7
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 6
- 150000002191 fatty alcohols Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 6
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 5
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 4
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IALRRZRRLSZPEQ-UHFFFAOYSA-N 2-(aziridin-1-yl)ethanol 2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.OCCN1CC1 IALRRZRRLSZPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BEWCNXNIQCLWHP-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCNC(C)(C)C BEWCNXNIQCLWHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JFMGYULNQJPJCY-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound OCC1COC(=O)O1 JFMGYULNQJPJCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 claims description 2
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 2
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 claims description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 2
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000006115 industrial coating Substances 0.000 claims description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 claims description 2
- SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N isethionic acid Chemical compound OCCS(O)(=O)=O SUMDYPCJJOFFON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 2
- 239000013615 primer Substances 0.000 claims description 2
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 claims description 2
- AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CCCS(O)(=O)=O AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 claims 2
- YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enoic acid Chemical class CC(C)=CC(O)=O YYPNJNDODFVZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- HIBWGGKDGCBPTA-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 HIBWGGKDGCBPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims 1
- 208000003351 Melanosis Diseases 0.000 claims 1
- 101100148976 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) SDS22 gene Proteins 0.000 claims 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 101150028878 aglB gene Proteins 0.000 claims 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 claims 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 abstract 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 230000009027 insemination Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000002348 vinylic group Chemical group 0.000 description 3
- YMTZCQOAGFRQHV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4,5-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound CC1=NSCC1 YMTZCQOAGFRQHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000000746 allylic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-tris(ethenyl)benzene Chemical class C=CC1=CC=CC(C=C)=C1C=C WVAFEFUPWRPQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000823183 Alcaligenes faecalis Aralkylamine dehydrogenase heavy chain Proteins 0.000 description 1
- 101000823182 Alcaligenes faecalis Aralkylamine dehydrogenase light chain Proteins 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M Didecyldimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCC RUPBZQFQVRMKDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- 240000002989 Euphorbia neriifolia Species 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000238367 Mya arenaria Species 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- YYRQHJQOVKTWER-UHFFFAOYSA-M azanium sodium hydrogen phosphate sulfuric acid Chemical compound [NH4+].[Na+].OP([O-])([O-])=O.OS(O)(=O)=O YYRQHJQOVKTWER-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000002051 biphasic effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011111 cardboard Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 235000013372 meat Nutrition 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 210000004498 neuroglial cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M rongalite Chemical compound [Na+].OCS([O-])=O XWGJFPHUCFXLBL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052572 stoneware Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D151/00—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D151/003—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F285/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to preformed graft polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/003—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Buluş, çapraz bağlanabilir veya bağlanamaz, yapılı polimer partikülleri bazlı sulu bir polimer dağıltısı ile ilgili olup; söz konusu partiküller, 60 ila 120°C arasında değişen Tg1'e sahip olan bir polimer (P1) bazlı bir maça polimer fazı, -60 ila 40°C arasında değişen Tg2'ye sahip olan bir polimer bazlı, söz konusu maçayı sarmalayan bir ikinci polimer fazı ve 120°C'yi aşmayan Tg2'den daha yüksek olan Tg3'e sahip olan ve 150.000'i aşmayan bir Mn'e sahip olan, bir polimer (P3) bazlı üçüncü dış (veya kabuk) polimer fazı içermektedir, söz konusu polimerlerin (P1, P2 ve P3) ağırlık oranları polimerin toplamına göre (P1 + P2 + P3): P1 %5 ila 60, P2 %40 ila 85, P3 %5 ila 25 oranındadır, söz konusu ağırlık oranlarının toplamı %100'dür. Buluş aynı zamanda buluş dağıltısının preparasyonuna yönelik bir yöntem ve bu dağıltının koruma ve/veya dekoratif amaçlı sulu kaplama bileşimlerinde bağlayıcı olarak kullanılması ile ilgilidir. Buluşun dağıltıları, homojen bir film ile toplaşma sırasında filmin mükemmel bir şekilde oluşmasına olanak sağlamaktadır ve oluşturulan partiküllerin kontrollü yapısı ve mükemmel yeniden üretilebilirliği nedeniyle ve TMF'in önceden tahmin edilebilirliği nedeniyle yüksek bir kohezyona sahiptir. Bu mükemmel kontrol, özellikle kimyasal ve mekanik direnç, özellikle esneklik, sertlik, parmak izi ve bloklamaya karşı dirençli olma açısından mükemmel mekanik ve başka performanslara sahip olmaya olanak sağlamaktadır.
Description
TARIFNAME
BLOKLAMA VE PARMAK IZINE KARSI DIRENÇLI OLAN VE IYILESTIRILMIS BIR
SERTLIGE SAHIP OLAN SULU KAPLAMALAR IÇIN ÇOK YAPILI PARTIKÜLLER
BAZLI SULU POLIMER DAGILTISI
Mevcut bulus, spesifik bilesim ve çok yaplIJJIpartiküllere sahip olan sulu polimer dagllüllârlîille
Bulusun dagllîillârü homojen bir film ile toplasma sBsIa filmin mükemmel bir sekilde
olusmalea olanak saglamaktadlElve olusturulan partiküllerin kontrollü yaplgjye mükemmel
yeniden üretilebilirligi nedeniyle ve TMF'in önceden tahmin edilebilirligi nedeniyle yüksek bir
kohezyona sahiptir. Bu mükemmel kontrol, özellikle kimyasal ve mekanik direnç, özellikle
sertlik, yaplSkanlllZl yas aslEtna, ve bloklama ve parmak izine karsEldirenç açIan
mükemmel mekanik ve diger özelliklerin elde edilmesine olanak saglamaktadlEI Parmak izine
karslZldirenç burada ve asagi, kaplama filmi üzerinde yüksek bir baslik; olusturuldugu
zaman kaplamanI leke veya yaplgna sergilememe kapasitesini belirtmektedir.
ve -20 ila 40°C'lik TgZ'ye sahip yumusak bir kabuk (PZ) ile çift fazlünaça/kabuk yapim]
partiküllere ve P1 + PZ üzerinde %15 ila 60'IEllemsil eden P1 ila 0 ila 50°C'lik bir TMF sahip
olan, özellikle kendiliginden çapraz baglanabilir olan sulu kaplamalar içinde uygulamalara
yönelik olan stabil sulu dagllîlüârßçllîlamaktadlü Filmlesmeye iyi bir sekilde uygun olma ve bu
sürecin filmlesmenin ve performanslar. iyi bir sekilde yeniden üretilebilirligi ile kontrolüne
ragmen bu daglliillâr, bazlîiliygulamalar için, özellikle de elde edilen filmin mekanik direnci ve
iyi bir sekilde kohezyonu ile bloklama ve parmak izine karsljtlirenç, sertlik aç-an yetersiz
performanslar sergilemektedir. Daha özellikle bu tür kaplamalari bloklama ve parmak izi
dirençleri ve sertligi bu tür performanslar gerektiren bazüliygulamalar için, özellikle kaplanmlgl
agEobjelerin (kapliâr, pencereler, mobilyalar, levhalar) kaplamanI uygulanmaslükzlan sonra
yiglI haline getirildigi endüstriyel uygulamalar ve @lila karsEiyi bir direnç (mutfak, banyo)
veya parmak izine karsElyi bir direnç (çizilmeye ve aslEinaya karsEUayanllZJEblan, yüksek
dirençli duvar boyalarDIlgerektiren dekoratif uygulamalarda yetersizdir (sert maça tarafIian
kuwetlendirilmesine ragmen çok yumusaktE).
maça kabuk seklinde bir Iateks yap-üçlKlamaktadE Bu tür bir yaplZlideal olarak takviye
için nano dolgular islevi gören ve birinci asamada in situ olarak sentetize edilen sert organik
partiküllerden yapilândlElllBilgolan bir dagllîilîllaraflEUan takviye edilmis kauçuksu bir yumusak
faz içeren polimer bir film (kaplama) vermektedir. Bu sekilde elde edilen film esnektir
(kesintisiz yumusak faz) ve sert organik nano dolgularI (maça) düzenli olarak dahil edilmesi
ile mekanik takviye, asamaIElbir takviyeyi temsil eden, uzama ile artan çekis gerilimine
dönüsmektedir. Yumusak faz kesintisiz fazdlElve bu nedenle filmlesme kalitesi homojen bir
film ile çok iyidir. Filmin mükemmel olusumu sayesinde elde edilen, filmin mekanik özellikle
iyi bir dayanUZIHJKJ ile zaman içinde stabildir. AçlKlanan yöntem öngörülebilir, yeniden
üretilebilir ve zaman içinde stabil bir TMF'in elde edilmesine olanak saglamaktadB Bununla
birlikte, endüstriyel uygulama kosullarEkjogrultusunda, bloklama veya parmak izine karsEl
direnç ve sertlik aç-ian yeni gereksinimlere, filmin kesintisiz faleZblusturan yumusak
maçalübir partikül ile ulasmak zordur.
kabuk polimeri içeren çok süillîlateks polimer bilesimlerini açilZlamakta olup, burada lateks,
düsük VOC (<50 g/l) oranIda boyalar için uygundur ve iyi bir bloklama direncine,
iyilestirilmis bir açüîl zamana ve arttlElllBilSl bir su direncine (yumusama direncine) sahiptir. Iyi
bloke edici direnç için tohum ve maça polimeri, sert bir nitelige ve daha yüksek bir Tg'ye
sahip polimerler olusturan monomerler içerirken, kabuk polimer daha yumusak bir nitelige ve
daha düsük bir Tg'ye sahip olan monomerleri içermektedir. Açilg zamanljyilestirmek için,
direncini (su ile yumusama direncini) arttlîrlnak için hidrofobik monomerler, kabuk veya maça
katmanlarII hidrofilik bölümleri üzerine tohumlanmaktadlEI
Yüksek bloklama direnci ve sertliginin elde edilmesine olanak saglayan, yumusak maçaIEl/e
sert kabuklu, yapllândlElllB'ilg polimer partiküllerine sahip olan polimer daglüillâr- sahip olan
baska çözümler de açüZIanmlStlEl Bununla birlikte, partikül yapEIhedeniyle, bu tür polimer
dagllliEZIsert ve çapraz baglanmEolan kesintisiz faz gerildigi zaman hlîllîbir sekilde kendini
bßktfgilîliçin nispeten daha az yaplgkan olan bir filme neden olmaktadlEi Son olarak,
partikülün etraflEha sert bir kabugun varl[g]üyüksek bir mükemmellik seviyesi arzu edildigi
zaman, emülsiyonun düsük TMF'sine ragmen toplasma ajanlarII kullanüßîasIEl
gerektirmektedir.
Önceki teknigin dezavantajlari. giderilmesi için, mevcut bulusa göre, sert bir maça fazlIQPl)
aç[lZIanan önceki teknigin yapüândlEllBilSl bir dagllB-I modifiye edilmesi önerilmektedir; bu
modifikasyon özellikle, yumusak kabuga (PZ) ek olarak ikinci fazlEl (P3) eklenmesinden
olusmakta olup, (P3) oligomerik olan veya olmayan, fonksiyonalize olan veya olmayan sert
veya (P2)'den daha sert bir fazdlÜ bu modifikasyon, ikinci kabugun (P3) fizikokimyasal
özellikleri, birinci kabugun (PZ) iyi bir sekilde biçim degistirmesini ve dolaylgMa filmin iyi bir
yaplýla baglüilan özellikler kaybedilmeden hedeflenen özelliklere kolayca ulasllmas- olanak
saglamaktadß Bu sekilde modifiye edilmis partikül burada mevcut bulus için, "çok yapiEllîlve
özellikle açilZlandlg'lßekilde (P1, P2, P3) olmak üzere 3 faza ve dolaylîlîla “üç katman”a sahip
olan bir partikülü belirtmektedir. FazlarI (Fox'a göre hesaplanmlgl olan) Tg'si, aglHllKl %'leri,
moleküler kütle ve fonksiyonalizasyon aç-dan, üç fazlElbu yeni yapEilçin mümkün olan çok
çesitli seçenekler ve spesifik yöntem ve bunun uygulama kolayllgiühedeflenen uygulamalar
dogrultusunda spesifik piyasa gereksinimleri ve taleplerine iyilestirilmis ve uygun bir yanlîl
verilmesine, yani daha düsük maliyete ve mevcut endüstriyel tesislerde herhangi bir
modifikasyona gerek duyulmadan, baska bir ifadeyle mevcut tesisler üzerinde uygulama
kolayl[gll3aglayarak olanak tan aktadlB
Bulusa göre, sert olan veya (P2)'den daha sert olan “üç katmanIlZI(P1 sert/PZ yumusak/P3
sert) bu yeni yapEldurumunda nihai kaplamanI çekme davranlgüasamallîbir takviyenin
davraniSIîlegil, yumusak maça/sert kabuk türünde piyasada bilinen partiküllerin durumunda
oldugu gibi bir azalma veya bir düsüs yerine sabit bir takviyeyi takip eden yüksek Young
(ikinci sert kabuk (P3) tarafIan indüklenen) modülünü sergileyen bir davranlgtlîlve WO
için daha yüksek mekanik gerilime sahiptir. Bu, yüksek sertlik seviyelerine ulasmaya ve
mükemmel esnekligi korurken filmlerin mekanik direncini daha da arttlElnaya olanak
saglamaktadlîl Bu, mevcut bulusa göre elde edilen kaplama filmlerinin, önceki teknige ait
yukar- bahsedilen daglliiilâr ile karsilâst-[glia, korunmus bir esneklige sahip daha
yüksek bir kohezyon enerjisine sahip oldugu anlam. gelmektedir.
Dolaylâlýla mevcut bulus, iyi bir esneklik, çok iyi bir filmlesme kontrolü ve yeniden
üretilebilirligi muhafaza edilirken, bloklamaya ve parmak izine karsEIyi dirençler ve iyi bir
sertlik sergileyen mükemmel kaplama formülasyonu için, kontrollü TMF'e sahip ve yeniden
üretilebilir stabil bir dagllfllElI gelistirilmesini amaçlamaktadlEl Bu nedenle mevcut bulus,
atmosfer baleIcIda radikal polimerizasyonun standart kosullarda, önceki teknige ait yapllâr
ile, zor bir sertlik/esneklik/kohezyon uzlaslgüle takviye edilmis mekanik özellikler sergileyen
bir kaplama filminin elde edilmesine olanak saglamaktadlE DolaylEMa kaplama filmi,
kontrollü TMF'e sahip olan bir emülsiyon için, önceki teknikten bilinen güncel
çözümlerinkinden çok daha iyi bir bloklama ve parmak izi direnci sunmaktadE
Mevcut bulusun bir birinci amacÇi"üç katmanlEibir partikül olusturan, çok yap[[i]]/e özellikle
de 3 spesifik faza (katmana) (P1, P2 ve P3) sahip olan polimer partikülleri içeren 5qu bir
polimer dagiIIJEEîle ilgilidir
Bulusun bir ikinci amaci: spesifik asamalara sahip olan söz konusu dagliîiII spesifik bir
preparasyon yöntemi ile ilgilidir.
Daha sonra bulus, bulusa göre en az bir 5qu polimer dag [[ÜEijiçeren 5qu bir polimer dagilfliîlîl
bilesimini kapsamaktadß
Bulusa göre belirtildigi üzere en az bir sulu dagiiliEibilesimi ve en az bir sulu polimer dagilliEEl
içeren bir kaplama bilesimi, bulusun bir parçaslßlusturmaktadlü
Bulus aynlîtamanda, bulusa göre göre belirlendigi üzere bir dagilliIlEI, sulu kaplamalar için
organik baglayiEEi/e söz konusu dagiiîiiîbilesimi veya söz konusu dagilB-I kullanilüiasEile
ortaya çiKian bir kaplama olarak kullanilfnasüle ilgilidir.
Dolaylgiýia bulusun bir birinci amacÇiasag-kileri içeren söz konusu partikül ile çok yapiIJEen
az 3 ayrijbolimer fazDîIpolimer partikülleri bazllîsiulu bir polimer dagmîiîiîile ilgilidir:
maça olarak, bir monomer (M1) bilesiminin emülsiyon polimerizasyonundan türetilen bir
polimer (Pl) bazlEbir polimer fazüburada (P1) 60 ila 120°C arasIa, tercihen 60 ila
100°C arasIa degisen, (Fox'a göre hesaplanmigl olan) bir cam geçis siîiakligil (Tgl)
sahiptir,
- söz konusu maçaylj sarmalayan, bir monomer (M2) bilesiminin emülsiyon
polimerizasyonundan çlElan bir polimer (PZ) bazlübir ikinci polimer fazüburada (PZ) -60 ila
40°C arasIda, tercihen -30 ila 30°C arasIa degisen (Fox'a göre hesaplanmlgolan) bir
cam geçis lekal[giI (TgZ) sahiptir,
- söz konusu fain (P2) sarmalayan, bir monomer bilesiminin (M3) emülsiyon
polimerizasyonundan çlKian bir polimer (P3) bazlEbir üçüncü digi(veya kabuk) polimer fazÇi
burada (P3), TgZ'den daha yüksek, özellikle de (TgZ'den) 5°C daha yüksek olan ve
arasIa bulunan (Fox'a göre hesaplanmlg olan) bir cam geçis lelakl[g]lBh (Tg3) ve
THF içinde boyut dlglama Kromatografisi veya GPC ile ölçülen saylîla ortalama moleküler
bir müktleye (Mn) sahiptir.
burada toplam polimer (Pl + P2 + P3) aglîlllg. göre ag lEllllZl oranüsaglki sekildedir:
- %5 ila 50 oranIa P1
- %40 ila 85, tercihen %45 ila 80 oran-a P2
- %5 ila 25, tercihen %10 ila 20 oranIa P3
ve söz konusu aglEIlllZloranIarII toplamEaPl + P2 + P3) %100'e esittir ve
ve (P3)'ten türetilen söz konusu bilesimin (M3) ve (P2)'den türetilen söz konusu bilesimin
(M2), etilenik doymamlgligla ek olarak, sunlar arasIan seçilen: asetoasetoksi, diaseton,
metilol veya alkoksisilan, karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya oksiran), fosfat,
fosfonat, fosfinat, sülfat, sülfonat, amid, imid, aziridin, oksazolin, imidazol, siklik karbonat,
benzofenon, üreido en az bir fonksiyonel grubu (X) taslýlan etilenik olarak doymamEen az bir
monomer içermektedir; fonksiyonel (X) grup tasMan birden fazla monomerin varl[glü
durumunda, söz konusu gruplar (X) söz konusu dagHBII preparasyonu slßslrîha veya
depolama sßsßtla kendi aralarlEtla reaksiyona girememektedir.
Daha özellikle (P3), (P2)'den daha az hidrofobiktir ve daha özellikle (PZ), (P1)'den daha
hidrofobiktir.
Genel bir sekilde “hidrofobik” monomer ile su ile az afiniteye sahip olan veya su içinde az
çözünebilen bir monomer anlasllB1aktadlEl Bu hidrofobikligin tahmin edilmesine yönelik bir
yöntem, Ülesim katsay-I loagirtmasElile ifade edilen hidrofobiklik ile, oktanol ve su
arasHa degerlendirilecek olan maddenin bu ülesim katsay-I ölçülmesidir. Bir monomer
Için hidrofobiklik degeri (IogKow), tahmin için SRC'nin (Syracure Research Corporation)
KowWin yazlIJEliII kullanllBiaslýla, molekülün yaplglal fragmentleri ve atomlarI katHJIîliü
yöntemi ile oktanol ve su arasiaki ülesim katsay-!El logaritmasII (log P) hesaplanmlglbir
tahminidir. Bu yöntem, Pharm. Sci. 84:83-92'de “Atom/fragment contribution method for
estimating octanoI-water partition coefficients'^de 1995'te W. M. Meylan ve P.H. Howard
tarafIan açÜZIanmStlEl Ülesim katsaylîlîlP) dengeli iki faza sahip olan bir sistemde sulu faz
içindeki kimyasal konsantrasyona göre oktanol fazlîilçinde kimyasal konsantrasyonun oran.
karslmîl gelmektedir. Bir kopolimer, özellikle de bulusa göre bir polimere iliskin olarak,
oktanol/su ülesim katsaylgîlogaritmas- dayanan, bulusa göre genel hidrofobi degeri, söz
konusu polimeri olusturan monomerlerin tümü üzerinde aglEIlilZl olarak ortalama deger
seklinde belirlenmektedir ve bu özellikle, yukarldia açlElanan ve dolaylîlýla bu tanna göre
asagßlakine karslIJKl gelen, KowWin yöntemi ile hesaplanan ayrEIlogKow degerlerinin, bilesen
monomerlerinin tümü üzerinde aglHllKça ortalama olarak hesaplanmlgtlEi
genel hidrofobi degeri:
genel hidrofobi degeri: ZI[x,*(logKow)i]
2,: i üzerinde bilesen monomerlerinin toplamEI
xi: söz konusu kopolimerde i monomerin aglEIlHZJ olarak fraksiyonu,
(logKow).~: söz konusu monomer i için KowWin yöntemi ile hesaplanmlg olan hidrofobi
burada Kow, oktanol/su ülesiminin hesaplanan katsay_ karsHJIEJ gelmektedir ve IogKow, bu
katsay IogaritmasIE
Tercihen bu prensibe göre hesaplanmlgl ortalama hidrofobi degeri (P3) ve (PZ) araletla en
az 0,2, özellikle en az 0,5 olmak zorundadlEl (PZ), (P3)'ten daha yüksek (daha hidrofobik)
olan hesaplanmlgortalama bir IogKow degerine sahiptir.
Bulus dagüülîlîbzellikle, bir tohum monomerleri bilesimi (M0) içinde bir anyonik yüzey aktif
madde ve monomerler (M'l) bilesimi içinde iki farkIElyüzey aktif madde olmak üzere üç
anyonik yüzey aktif madde varligllda gerçeklestirilmekte olup, burada (M0) ve (M'1)'den
türetilen genel bilesim söz konusu monomer bilesimine (M1) kars- gelmektedir ve söz
konusu bilesimin (M2) söz konusu emülsiyon polimerizasyonu en az iki yüzey aktif madde
varligiia gerçeklestirilmektedir; bunlardan birisi iyonik degildir, tercihen alkoksillenmis yag
alkollerinden seçilmektedir ve digeri ise anyonik olan ve (M1) için yukarlflla belirtilen iki yüzey
aktif maddeden birisi ile aynlZl/eya farklEblabilmektedir, daha özellikle tohum bilesimininki
(M0) ile aynüleya farklljilabilmektedir.
(M0, M'1 ve M2)'de kullanllfhaya uygun olan anyonik yüzey aktif maddeler olarak sülfat,
sülfonat, fosfat veya fosfonat veya fosfinat grubunu taslýlan yüzey aktif maddelerden,
özellikle asaglkilerden bahsedilebilmektedir:
- istege bagllZblarak alkoksillenmis, Cg-Cig alkil sülfosüksinatlarEKistege baglEbIarak
alkoksillenmis Cg-Cig alkoller ile sülfosüksinik asit diesterleri)
- istege baglEblarak alkoksillenmis Cg'clg, tercihen C9-C14 alkil sülfat, sülfonat, fosfat
veya fosfonat veya fosfinat
- istege baglEblarak alkoksillenmis Cg-Cig alkil ile (alkil ile ikame edilmis aril) aril alkil
sülfat, sülfonat, fosfat veya fosfonat veya fosfinat.
Söz konusu alkiller alkoksillenmis oldugu zaman alkoksi ünitesi etoksi ve/veua propoksi
olabilmektedir, etoksi en tercih edilen ünitedir. Alkoksi ünitelerinin saylîEE ila 30 araslîitla,
tercihen 2 ila 10 arasßtla degisebilmektedir.
Daha özellikle, söz konusu anyonik yüzey aktif madde dodesilbenzensülfonat, sodyum sülfat
amonyum fosfat Ioril veya sülfosüksinatlar arasßtlan ve daha tercihen sülfosüksinatlar
araletlan seçilmektedir.
Tercihen (M1 ve M2) içindeki söz konusu yüzey aktif maddelerden en az birisi
sülfosüksinattlEl
Bulus dag [IE-I özellikle tercih edilen bir opsiyonuna göre söz konusu bilesim (M2) ve sonuç
olarak (M2)'den türetilen söz konusu polimer (PZ) en az bir suda çözünebilir transfer ajanEI
içermektedir. Daha özellikle söz konusu bilesim (M3) ve sonuç olarak (M3)'ten türetilen söz
konusu polimer (P3) en az iki transfer ajanEiçermektedir; bunlardan birisi suda çözünebilir,
baska bir ifadeyle su içinde çözünebilen bir transfer ajanü'e bir yag içinde çözünebilir, baska
bir ifadeyle organik fazda çözünebilen, baska bir ifadeyle monomer içinde çözünebilen bir
transfer ajanIE Daha tercihen bu tür bir durumda, fazlarI tümü P2 ve P3 (PZ + P3) için su
içinde çözünebilen (saf) transfer ajanII yag içinde çözünebilen (saf) transfer ajan. aglEllEl
olarak oranEIZ'nin altlEldadE ve tercihen 0,5'in altIadE Tercihen bu transfer ajanlarü
merka ptanlardlü
Uygun suda çözünebilen transfer ajanlarüblarak, düsük bir say. karbon atomuna, örnegin
en fazla 4 karbon atomuna sahip olan iyonik veya iyonize edilebilir bir grup içeren transfer
ajanlarIan bahsedilebilmektedir. Iyonik ve iyonize edilebilir gruplara örnek olarak -COZH
veya -SO3H gruplarIan bahsedilebilmektedir.
Uygun yagda çözünebilen transfer ajanlarlîcblarak, yüksek saylîilla karbon atomuna, örnegin en
az 6 karbon atomuna sahip olan transfer ajanlarIan bahsedilebilmektedir.
Söz konusu gruplar (X), söz konusu daglit'III preparasyonu slûsia veya depolama
slBisIa kendi aralarlEUa reaksiyona girememektedir. Nitekim bu tür fonksiyonalize (X)
monomerden birden fazla bulundugu zaman, fonksiyonalite (X) üzerindeki bu sIlEllama, nihai
uygulama veya kullanIidan önce 5qu dagHIJII herhangi bir sekilde prematüre çapraz
baglanmasII önlenmesini gerektirmektedir.
Grup (X)'in fonksiyonu olarak, grup (X)'i taslýan söz konusu monomer grup (X) ile asaglîlhki
sekilde seçilebilmektedir:
- karboksi/anhidrit için: (met)akrilik asit, itakonik asit/anhidrit, fumarik asit, maleik anhidrit,
tetrahidroftalik asit/anhidrit (THP)
- hidroksi için: istege baglüalarak alkoksillenmis, alkil Cz ila C4 ile hidroksil (met)akrilatlar,
özellikle alkoksilenmis veya alkoksillenmemis hidroksietil (met)akrilat (HE(M)A),
hidroksipropil (met)akrilat (HP(M)A), hidroksibütil (met)akrilat HB(M)A
- epoksi için: (M)AGLY glisidil (met)akrilat, (met)akrilat epoksitlenmis disiklopentenil,
epositlenmis sikloheksenil, epokstilenmis tetrahidroftalik, epoksitlenmis norbornenil
arasIan seçilen epoksitlenmis bir sikloalifatik grubunu taslaktadlEl
- amin için: C2 ila C4 alkil ile aminoalkil (met)akrilatlar veya aminoallkil (met)akrilamidler,
örnegin MADAME (Dimetil amino etil metakrilat) MATBAE (t-bütil aminoetil metakrilat)
- amid için: (met)akrilamid
- imid: maleimid
- siklik karbonat için: gliserol karbonat (met)akrilat
- fosfat için: istege baglElolarak alkoksillenmis olan, hidroksi alkil (met)akrilatlar mono
ve/veya diester fosfatlarÇlalkoksiIlenmis tercihen etoksillenmis ve/veya propoksillenmistir
- fosfonat için: istege baglEblarak alkoksillenmis olan, hidroksialkil (met)akrilatlar ester
fosfatlarÇlalkoksillenmis tercihen etoksillenmis ve/veya propoksillenmistir
- fosfinat için: fosfinik asit ile hidroksialkil (met)akrilat esterler, alkoksillenmis tercihen
etoksillenmis ve/veya propoksillenmistir
- sülfat için: hidroksi alkil (met)akrilatlar esterleri, alkoksillenmis tercihen etoksillenmis
ve/veya propoksillenmistir
- sülfonat için: istege bagIEblarak (alkil) allkoksillenmis, hidroksialkil (met)akrilatlar veya
hidroksialkil (met)akrilamidler sülfonat esterlerleri; alkoksillenmis tercihen etoksillenmis
ve/veya propksillenmistir, hidroksi etil sülfonat (met)akrilat veya akrilamid propan
sülfonat (asit veya tuz formu da dahildir) gibi sülftonatlar
- imidazol için: 2-etiI(2-0kso-imidazolidin-1-iI) metakrilat
- oksazolin için: hidroksi alkil 2-oksazolin (met)akrilatlarü
- üreido için: N-(2-metakriloiloksietiI) etilen üre
- benzofenon için: benzofenon (met)akrilat
- aziridin için: 1-(2-hidroksietil) aziridin metakrilat
- asetoasetoksi: asetoasetoksietil (met)akrilat (AAEM)
- diaseton: diaseton akrilamid (DAAM)
- metilol: N-metilolakrilamid (NMA)
- alkoksisilan için: alkoksisilanlar (met)akrilatlar
Daha tercih edilen bir opsiyona göre söz konusu grup (X) reaktif bir gruptur ve sunlar
araletIan seçilmektedir: asetoasetoksi, diaseton, N-metilol, alkoksisilan; söz konusu grubu
(X) tasiyan tercih edilen monomerler asetoasetoksietil (met)akrilat (AAEM), diaseton
diakrilamid (DAAM), N-metilol akrilamid, alkoksisilan (met)akrilatlar. Alkoksisilanlar asllElda
alkoksi gruplar tarafüdan bloke edilmis silanlardE Bu tür gruplarI (X) ve bu tür bir grubu
taslýhn ilgili monomerlerin ilgi çeken yönü, kurutma esnaletla, baska bir ifadeyle filmin
olusumu ve suyun giderilmesi süshîda kendiliginden çapraz baglanabilen sulu daglBîllârI
elde edilmesinde yatmaktadB ve dolayßîda kendiliginden çapraz baglanabilen sulu
kaplamalar için ilgi çekmektedir.
Özel bir baska opsiyona göre söz konusu grup (X) sunlar aras-an seçilmektedir:
karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya oksiran), imid, aziridin, oksazolin, imidazol,
siklik karbonat. Bu gruplar ve bunlarEItasElan monomerlerin ilgi çeken yönü, dagllîîü
bilesimlerinin ve daha özellikle çapraz baglanabilir kaplama bilesimlerinin, söz konusu
polimerin söz konusu gruplarE(X) ile reaktif en az iki grubu tasülan bir çapraz baglanma
ajan !El uygulanmasi. nihai bilesim içine eklenmesi ile elde edilmesidir.
Grubu (X) taslýhn bir monomer mevcut oldugu zaman, mmol/g polimer (polimer burada: P1
Tercih edilen bir olasIIJIjh göre söz konusu polimerlerin (P1, P2 ve P3) her birisi, sadece
(met)akrilik monomerler veya (met)arkilik monomerlerin en az bir aromatik vinil ile
karlSlEiilarIan olusan söz konusu monomer bilesimlerinden (M1, M2 ve M3) türetilmektedir,
stiren tercih edilen aromatik vinil monomeridir.
Özel bir baska olasililjla göre söz konusu polimer (Pl), iç çapraz baglama ajanlîcblarak en az
bir monomer içeren bir monomer bilesiminden (M1) türetilmektedir. Bu, söz konusu konusu
çapraz baglama ajanIlEl, çapraz baglanmlgbir polimer (Pl) vermek için söz konusu bilesimin
(M1) emülsiyon polimerizasyonu süsia polimerize edilebilir en az iki etilenik doymamlgllgb
sahip oldugu anlam. gelmektedir. Çapraz baglama ajan. uygun örnek olarak, en az 2
akrilik (metakrilik de dahildir), allilik veya vinilik grubu fonksiyonalitesine sahip
multifonksiyonel monomerlerden bahsedilebilmektedir. Akrilik çapraz baglaylEIJjanlara uygun
örnekler olarak etilen glikol di(met)akrilat, propilen glikol di(met)akrilat, bütan diol
di(met)akrilat, heksan diol di(met)akrilat, trimetilol propran tri(met)akrilat, vs.'den
bahsedilebilmektedir. “Akrilikler” terimi burada hem akrilik hem de metakrilik anlam-
gelmektedir ve “akrilatlar” terimi ise hem akrilatlar hem de metakrilatlar anlamlEla
gelmektedir. Akrilik ve allilik çapraz baglama ajan. örnek olarak allik metakrilattan
bahsedilebilmektedir. Vinilik çapraz baglama ajanlîûlarak, en az iki vinilik doymamlglllgtaslýlan
bir monomerden, örnegin di- ve tri-vinil benzenlerden söz edilebilmektedir.
Bulusun ikinci amacÇl bulusun çesitlerinden birisinde belirtildigi üzere bir dagllBEIIçin bir
preparasyon yöntemi ile ilgilidir, bu yöntem asaglki emülsiyon polimerizasyonu asamalarIEl
içermektedir:
i) bir tohum monomeri bilesiminin (M0) bir emülsiyon ön polimerizasyonunu içeren bir
tohumlama asamasüburada tohum partikülleri, 40 nm'ye esit veya daha düsük bir
boya sahiptir ve söz konusu polimer fazII(P1) aglElllgll göre aglEIlilZl olarak %2 ila
arasIa ve tercihen %5 ila 20 arasIa bir oranmlusturmaktadlîl
ii) bir polimer (P'l) veren, böylece asama i)'de elde edilen tohum polimeri (PO) ile
birlikte partikülün söz konusu maçasII söz konusu polimer fazlüPl) olusturan bir
monomer bilesiminin (M'1) emülsiyon polimerizasyonu asamaslîlsöz konusu monomer
bilesimi (M'1) söz konusu tohum bilesimi (M0) ile aynEl/eya farklIlEl(eger M0 ile aynlZl
ise söz konusu monomerlerinkine (M1) karslEEJ gelmektedir) ve bunlar. aglîllüîl olarak
genel ortalama bilesimi (M0 + M'1) söz konusu monomerlerinkine (M1) karsHJE
gelmektedir, opsiyonel olarak asama ii)'deki ürün (dagllBDJ depolanabilmektedir ve
daha sonra sonraki asama iii) için ham madde olarak, baska bir ifadeyle söz konusu
monomer bilesiminin (M2) eklenmesi ve polimerizasyonu için kullanilâbilmektedir,
iii) söz konusu polimer fazIE(P2) olusturan bir monomer bilesiminin (M2) emülsiyon
polimerizasyonuna yönelik bir asama; söz konusu asama iii) baslangßta bir
tohumlama içermektedir ve istege baglEblarak suda çözünebilen bir transfer ajanEl
varl[g]Ia gerçeklestirilmektedir,
iv) dlglkatmanda söz konusu polimerin (P3) elde edilmesi amacliîla, söz konusu polimer
fazIIJPB) olusturan bir monomer bilesiminin (M3), tercihen merkaptanlar arasßdan
seçilen, istege bagllIrMarak biri suda çözünebilen ve diger ise yagda çözünebilen olmak
üzere iki transfer ajan Elarl [gia emülsiyon polimerizasyonuna yönelik bir asama.
Karlglml (M0+M'1) aglEllllZl olarak ortalama genel bilesimi, söz konusu polimer fazdan (Pl)
türetilen söz konusu monomer bilesimine (M1) karslIJKIgeImektedir.
Opsiyonel olarak asama ii)'deki ürün (dagmim depolanabilmektedir ve daha sonra sonraki
asama iii) için ham madde olarak, baska bir ifadeyle söz konusu monomer bilesiminin (M2)
eklenmesi ve polimerizasyonu için kullanilâbilmektedir.
Söz konusu yöntemin bir birinci çesidine göre:
- tohumlama asamasEil), toplam aglîlllgb (P1 + P2 + P3) göre aglHlßZJ olarak %0,01 ila 0,5,
tercihen %0,05 ila 0,2 oran a anyonik bir yüzey aktif madde (yüzey aktif madde ürünü
kuru olarak varsayüßîaktadü baska bir ifadeyle %100 oranlEba yüzey aktif madde)
varligia gerçeklestirilmektedir
- monomer bilesiminin (M'l) emülsiyon polimerizasyonu asamasEii), toplam aglEll[gla (Pl +
ile, baska bir ifadeyle tohumlama asamasEi)'de kullanllân ile aynü/eya farklüblan, ancak
aynübldugu zaman söz konusu asama ii)'ye eklendigi anlamlEb gelen bir birinci anyonik
yüzey aktif madde ve bu asama ii)'nin birincisinden farkIEblan bir ikinci anyonik yüzey
aktif madde varl[glütla gerçeklestirilmektedir; fazI (P1) bu iki anyonik yüzey aktif
maddesinin agülllg olarak oranütoplam aglEl[gb (P1 + P2 + P3) göre aglEIlllZi olarak %0,1
ila 3, tercihen %0,1 ila 1,5 oranIadIEI
- monomer bilesiminin (M2) emülsiyon polimerizasyonu asamasEilii), toplam aglîll[g`b (P1 +
P2 + P3) göre aglElllE olarak %0,1 ila 3, tercihen %0,2 ila 2,5 arasIda en az iki yüzey
aktif madde a) ve b) varllglIa; a) alkoksillenmis yag alkolleri, daha tercihen
alkoksillenmis Ciz ila Cm yag alkolleri, daha da tercihen etoksi ve/veya propoksi
ünitelerinin alkoksi üniteleri gibi, özellikle etoksi üniteleri arasIdan seçilmis olan iyonik
olmayan bir birinci yüzey aktif maddedir ve daha özellikle söz konusu alkoksi ünitelerinin
saylEEB ila 50 arasIa ve daha tercihen 5 ila 40 arasIa degismektedir ve b) asama
ii)'ninki ile aynlj/eya farklüblabilen bir anyonik yüzey aktif maddedir, söz konusu asama
iii) baslanglga bir tohumlama içermektedir ve opsiyonel olarak suda çözünebilen en az bir
transfer ajan varIEgiia gerçeklestirilmektedir
- söz konusu bilesimin (M3) polimerizasyon asamasEiv), yüzey aktif maddelerin varlgia
veya yoklugunda gerçeklestirilmektedir ve yüzey aktif maddelerin varl[glIa
(gerçeklestirilir) ise bu durumda asama iii) ile aynElkosullarda yüzey aktif maddeler
varl[g]ia ve opsiyonel olarak bir suda çözünebilen ve bir yagda çözünebilen olmak üzere
en az iki transfer ajan varllgilüda gerçeklestirilmektedir.
Daha özellikle bulusa göre söz konusu yönteme iliskin olarak:
- asamalar i) ve ii) 75 ila 90°C'lik bir slîlaklllîta gerçeklestirilmektedir
- söz konusu monomer bilesiminin (M3) polimerizasyon asamasEliv) gibi söz konusu
monomer bilesiminin (M2) polimerizasyon asamaslZliii), söz konusu yöntem atmosfer
basEtlEtla uyguland[gl|3aman Tgl'in altüda bir slîtikllEta gerçeklestirilmektedir.
Daha tercihen söz konusu asamaya iliskin olarak, söz konusu polimeri (P1) veren genel
monomer bilesiminin (M1) emülsiyon polimerizasyonu asamasEIi) ve söz konusu polimeri
(PZ) veren söz konusu bilesimin (M2) emülsiyon polimerizasyonu asamasüii), söz konusu
monomer bilesiminin (M3) eklenmesinden önce en az %95 oranIa, daha tercihen en az
Bulusun üçüncü amacübir sulu polimer dagEülîElbilesimi ile ilgili olup; bu bilesim, bulusa göre
yukar- açiKlanan çesitlerden birisinde belirtildigi üzere ve bulusa göre yöntem ile elde
edilen en az bir 5qu dagHEEilçermektedir.
Söz konusu dagilEEbilesiminin özel ve tercih edilen bir durumuna göre söz konusu daglllîü
(P3)'te ve istege baglElolarak (P2)'de fonksiyonalize monomerler (X) içeren yukarlah
belirtildigi üzere bir daglIIiElolup; burada söz konusu grup (X) bir asetoasetoksi veya
diasetondur; söz konusu bilesim, söz konusu gruplar (X) ile gizli reaksiyon (polimer
patiküllerinin filmlesme kurumasElsEileUa) yoluyla en az iki grup taslýbn en az bir katkEl
maddesini dagEIEÜhaIinde içermektedir; tercihen söz konusu gizli reaksiyon katklIilnaddesi bir
dihidrazittir, özellikle (X)'in bir diaseton oldugu durumda adipik asit dihidrazittir ve (X) bir
asetoasetoksidir, söz konusu katkEtnaddesi tercihen bir poliamindir, özellikle diamin veya
akrilat gruplaria multifonksiyonel olan (MFA) bir ester akrilattlE Bu tür bir bilesimin ilgili
çeken yönü, kuruma ve suyun giderilmesi ile filmlesme slüs-a bilesimlerin ve daha özellikle
kendiliginden çapraz baglanabilir olan sulu kaplama bilesimlerinin elde edilmesidir.
Tercih edilen özel bir çeside göre söz konusu 5qu polimer dagillilîlîlbilesimi, bulusa göre söz
konusu daglIHûb ek olarak en az bir baska 5qu polimer daglIHlgElçermektedir; tercihen söz
konusu diger dagilflÇlsunlar aras-an seçilen reçineler veya polimerler dagliîi-lîi - doymus
ve/veya doymamlgl tercihen doymamlgl polyester bazlEbolyester dagUIlEZlJe daha tercihen
modifiye edilmis veya modifiye edilmemis alkid reçineleri dagilîilîüakrilik, tamamen akrilik ve
stiren-akrilik kopolimer dagiliiEEKemülsiyonu), vinilik kopolimer daglliilîIZl akrillenmis akrilik
oligomer dag Uîllglgdoymamlg poliüretanlar, özellikle de akrillenmis olanlar dahil olmak üzere
poliüretanlar dagilHlgDkolofan ile modifiye edilmis reçineler dgallülgîl/eya kolofan esterleri
dahil olmak üzere kolofan reçinesi dagilfllîlîleya hidrokarbon reçinesi dagilfllîlîl
Alkid dagilEIErEiarasIa modifiye edilmis, özellikle de akrilik monomerler ile veya stiren gibi
atomatik vinil monomerler ile veya üretan motfileri ile veya amid motifleri ile modifiye edilmis
veya kolofan ile ve özellikle düsük yag ile modifiye edilmis aldik dagüflllârlîbulunmaktadß
Daha özellikle söz konusu alkid, kullanllân ham maddelere göre biyokaynaklIE Bu tür bir
Söz konusu dagilflEbilesimi, bulusa göre sulu dagiIIJII preparasyon slîhkliglia veya düsük
bir lethHZta gerçeklestirilen söz konusu dagillilErI karlSIEliüle hazlEIhnabilmektedir.
Bir opsiyona göre söz konusu polimer dagilîilîEbilesimi yukarüia belirtildigi üzere sßsüa
monomer bilesimlerinden çlKlan (P3) ve istege bagllîilarak (PZ) ile yukar- belirtildigi üzere
bulusa göre bir daglIBEl içermektedir; (P3) için ve istege baglEl olarak (PZ) için;
karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya oksiran), imid, aziridin, oksazolin, imidazol,
siklik karbonat arasIan seçilen X ile fonksiyonalize monomerler içermektedir ve (söz konusu
dagllEEbilesimi) ayrEh söz konusu gruplar (X) ile en az iki reaktif grup taslýhn en az bir
çapraz baglama ajanüiçermektedir. Bu tür bir bilesim, çapraz baglanabilir bilesimler ve
özellikle de çapraz baglanabilir kaplama bilesimleri için özel bir ilgi olusturmaktadlEl
Bulusun bir baska amacül›ir kaplama bilesimi, özellikle de sulu kaplama bilesimi ile ilgilidir; bu
bilesim, bulusa göre belirlendigi üzere bir yöntem ile elde edilen veya yukari belirtildigi
üzere bulusa göre belirlendigi üzere en az bir sulu dagllülîiçermektedir veya söz konusu
kaplama bilesimi yukar- bulusa göre belirlendigi üzere en az bir dagEIEEI bilesimi
içermektedir.
Özellikle, bulusa göre söz konusu kaplama bilesimi kendiliginden çapraz baglanabilmektedir
ve dolaylîlîla kendiliginden çapraz baglanabilir kaplama bilesimleri için yukarlîzlh açllZIandEglEl
üzere söz konusu daglIHEleya söz konusu dagllBElbilesimini içermektedir.
Bir çeside göre söz konusu kaplama bilesim; karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya
oksiran), imid, aziridin, oksazolin, imidazol, siklik karbonat arasßtlan seçilen fonksiyonalize
monomerler (X) içeren monomer bilesimlerinden türetilen polimer (P3) ve istege bagllZd›Iarak
polimere (PZ) sahip olan (barIBin) söz konusu kaplama bilesimi, söz konusu daglllîII söz
konusu polimerinin söz konusu gruplar. (X) sahip olan en az iki grubu tasiyan en az bir
çapraz baglama ajanElçermektedir veya söz konusu kaplama bilesimi, söz konusu daglllilîlîl
içeren en az bir daglIBElbilesimini içermektedir.
Daha özellikle söz konusu kaplama bilesimi toplasma ajanEilçermemektedir. Bu, filmlesme ve
toplasma için bu tür bir ajana ihtiyaç duyulmadlglßnlamlüla gelmektedir.
Mevcut bulusun kapsad [glEbir baska amaç, bulusa göre olan ve bulusa göre bir yöntem ile
elde edilen bir sulu dagEßIEJ, sulu kaplamalar için, baska bir ifadeyle sulu kaplama bilesimleri
içinde organik baglayElIrbIarak kullanllüiasllîl
Daha özellikle bu kullani, kendiliginden çapraz baglanabilenler dahil olmak üere, çapraz
baglanabilir sulu kaplamalara iliskin olabilmektedir.
Söz konusu kullanIi özellikle sunlar aras-an seçilen, endüstriyel kaplamalar, koruyucu
kaplamalar ve/veya dekoratif kaplamalar ile ilgilidir: boyalar, vernikler, cilalar, astarlar,
mürekkepler, yapISkanIar ve/veya bitirme (topcoats), slîdlElnainlZi cam isleme, fiber, özellikle
kumas isleme, dokunmus veya dokunmamlgldoku isleme kaplamalarEl
Özel bir opsiyona göre söz konusu kullann, altlilZlarI kimyasal ve/veya mekanik koruma
kaplamalarlîlarasian seçilen koruma kaplamalarEliIe ilgili olup, aItIIKlar özellikler sunlar
aras-an seçilmektedir: metal, beton, fiber çimento, alçÇlahsap, karton, plastik, kompozit,
cam, (oyuk veya oyuk olmayan) fiberler, kumas, baklEl ve sentetik veya selülozik dokular
olabilen dokunmus veya dokunmamlglürünler.
Son olarak bulus aynüamanda, bulusa göre yukar- açlElandlglEsekilde olan veya yukar-
açilZlandlgiEüzere bulus yöntemi ile elde edilen en az bir dagiliîII kullanIiEl/e yukari
bulusa göre açmandigiîüizere bir dagllîiElbilesiminin kullanIilEldan çilZlan, nihai ürün olarak bir
kaplamayEkapsamaktadE Daha özellikle söz konusu kaplama çapraz baglanmaktadlEl
Asagi gösterilen örnekler, bulusun ve bulusun performanslarllîgösterme amaçlEblarak
verilmistir ve hiçbir sekilde bulusu kEIHbyElîiitelikte degildir.
Dene sel k-i
A) Sulu polimer daGHBHârlElI Dreparasyonu ve özellikleri
1) Kullanüân ham maddeler (bakIiZlasaGIki tablo 1)
Tablo 1: DaGIJEUBrI sentezi icinde kullanllân ham maddeler
Ticari bilesen ismi veya Teknik fonksiyon Kimyasal nitelik Tedarikçi
kimyasal isim
Aerosol® A102 Anyonik yüzey Etoksillenmis yag alkolü sülfosüksinatlZI su Cytec
aktif madde içinde %30 oranIa çözelti halinde sodyum
Disponil® FES 32 Anyonik yüzey Eter poliglikol yag alkol sülfatÇlsu içinde %31 Cognis
aktif madde oran a çözelti halinde sodyum tuzu
Emulan®TO 4070 Iyonik olmayan %70 oran-a, 40 etoksi ile ikincil BASF
yüzey aktif madde; etoksillenmis yag alkolü
SR 351 Çapraz baglaylElI Triakrilat propan trimetilol Sartomer
ABu Monomer Bütil akrilat Arkema
MAM Monomer Metil metakrilat Arkema
Sty Monomer Stiren Arkema
AMA Monomer Metakrilik asit Arkema
DAA Çapraz baglaylEII Diaseton akrilamid DSM
AADH çapraz baglaylEE Dihidrazit adipik asit DSM
ajan vs X
nDDM Yagda çözünebilen N-dodesilmerkaptan Acros
transfer ajanEl
MAA Suda çözünebilen Merkaptoasetik asit Acros
transfer ajanEl
Nazszog Peroksit Sodyum persülfat Aldrich
TBHP Peroksit %70 oran a hidroperoksit ter-bütil Aldrich
SFS Indirgeyici Sodyum sülfoksilat formaldehit Bruggeman
Amonyak Nötralizasyo Amonyum hidroksidi Prolabo
Acticide MBS Biyosit Metilizotiyazolin (MIT) ve benzizotiyazolinon Thor
(BIT) sulu çözeltisi (%
Polimer fazlarI (P1, P2 et P3) Tg'leri, asagi belirtildigi üzere, homopolimerlerin Tg
degerlerinden Fox baglEtlîlîlogrultusunda hesaplanmaktadlîi
Monomerler Klglaltma Tg (°C)
Akrilik asit AA 106
Metakrilik asit AMA 228
Bütil akrilat ABu -54
Stiren STY 100
Metil metakrilat MAM 105
Diaseton akrilamid DAA 77
Bulusa göre asagi açllZlanan deneyin durumunda, farklEfazlarI hesaplanan Tg'leri, aglEIllE]
daglIlEJilarEle Mn'leri asaglfllaki tablo 2'de belirtilmistir:
Tablo 2: FazlarI (P1, P2, P3) %'leri, Tq'leri ve Mn'leri
P1 P2 P3
°C cinsinden 80,5 -26,5 81,6
2) DaGIIEHErI preparasyonunun qenel isletim bicimi
Asagi açiKlanan isletim biçimi, asagi açiKlanan örnek dogrultusunda bulus dagilB-I
preparasyonununkine karsiIJIZlgelmektedir.
2.1) Kullanüân materyal
I'Iik (iç hacim), çelikten yapilüîlgl çift muhafaza ile donatilBiigl etkili bir karlgtlElna
(vorteks), üçlü aklglElbir sogutucu bir kontrol ve madde slîlakliglüiyarlamasülle donatllüilgl bir
reaktör kullanilBiaktadlÜ Reaktör, farklEbiIesenlerin ayrEbIarak girmesinin yanElslü, inert
atmosfer altIa çalismak için azota tahsis edilmis bir giris için gerekli saylîlia talimat
baglantllârlîilçermektedir. Slîülîinazlilîl her bir preparasyondan önce dogrulanmaktadE Tesis,
bilesenlerin giris debilerinin kontrol edilmesine olanak saglayan bir sistem ile donatllîhaktadlEl
Polimerizasyon, atmosfer baletIa yarüdgil türündedir.
2.2) Teknenin avaGIa baslancilîldolqusunun preparasvonu
çözündürülmektedir. Teknenin ayag leiaklig1E80°Cye getirilmektedir.
Claims (10)
1. Çok yapllllîien az 3 ayrüaolimer fazDJpolimer partikülleri bazlEiiulu polimer daglüilgüilup, söz konusu partikülün asaglkileri içermesi ile: -maça olarak, bir monomer (M1) bilesiminin emülsiyon polimerizasyonundan türetilen polimer (Pl) bazlübir polimer fazÇIburada (P1) 60 ila 120°C arasIia, tercihen 60 ila 100°C arasIda degisen, Fox'a göre hesaplanmlglolan bir cam geçis slîiakllgl. (Tgl) sahiptir, -söz konusu maçaylîl sarmalayan, bir monomer (M2) bilesiminin emülsiyon polimerizasyonundan türetilen polimer (PZ) bazlllir ikinci polimer fazlglburada (P2) - 60 ila 40°C arasIa, tercihen -30 ila 30°C arasIda degisen, Fox'a göre hesaplanmlgl olan bir cam geçis slîlakligllüh (TgZ) sahiptir, -söz konusu fazlIl (PZ) sarmalayan, bir monomer bilesiminin (M3) emülsiyon polimerizasyonundan türetilen polimer (P3) bazlEbir üçüncü dlgl(veya kabuk) polimer fazÇlburada (P3) TgZ'den daha yüksek, özellikle de 5°C daha yüksek olan ve 120°C'yi bulunan, Fox'a göre hesaplanmlgl olan bir cam geçis sElakIiglEb (Tg3) ve 150.000'i kütlesine (Mn) sahiptir, burada toplam polimer (P1 + P2 + P3) aglîll@lEla göre aglîlillZJ oranüsaglîlhki sekildedir: -%5 ila 50 oranIa P1 -%40 ila 85, tercihen %45 ila 80 oranlEUa PZ -%5 ila 25, tercihen %10 ila 20 oranIa P3 söz konusu ag [ElllZl oranlarII toplamEGPl + P2 + P3) %100'e esittir ve ve (P3)'ten türetilen söz konusu bilesimin (M3) ve istege baglüblarak (P2)'den türetilen söz konusu bilesimin (M2), fonksiyonel (X) grup taslýan birden fazla monomerin varligilîl durumunda, söz konusu gruplar (X) söz konusu dagllElElI preparasyonu slüsIa veya depolama slßsia kendi aralarIda reaksiyona girememesi sartlîla, etilenik doymamlâllgil ek olarak, sunlar araslütlan seçilen en az bir fonksiyonel grubu (X) taslýlan etilenik olarak doymamlgl en az bir monomer içermesi ile karakterize edilmektedir: asetoasetoksi, diaseton, metilol veya alkoksisilan, karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya oksiran), fosfat, fosfonat, fosfinat, sülfat, sülfonat, amid, imid, aziridin, oksazolin, imidazol, siklik karbonat, benzofenon, üreido. .
Söz konusu bilesimin (M1) söz konusu emülsiyon polimerizasyonunun, bir tohum monomer bilesimi (M0) içinde bir anyonik yüzey aktif madde ve monomer bilesimi (M'l) içinde iki farkIü/üzey aktif madde olmak üzere üç anyonik yüzey aktif madde varllglia gerçeklestirilmesi, burada (M0) ve (M'1)'den türetilen genel bilesimin söz konusu monomer bilesimine (M1) karslülîl gelmesi ile ve söz konusu bilesimin (M2) söz konusu emülsiyon polimerizasyonunun en az iki yüzey aktif madde varllglIa gerçeklestirilmesi; bunlardan birisinin iyonik olmamasÇl tercihen alkoksillenmis yag alkolleri arasian seçilmesi ve digerinin ise anyonik olmasEl/e (M1) için yukar- belirtilen iki yüzey aktif maddeden birisi ile aynlZl/eya farklEblabilmesi ile ve (M1) ve (M2) içindeki söz konusu anyonik yüzey aktif maddelerden en az birisinin en az bir sülfosüksinat olmasElile karakterize edilen, Istem 1'e göre dag [IEIZI .
Söz konusu bilesimin (M2) ve dolayElýla (M2)'den türetilen söz konusu polimerin (P2) suda çözünebilen en az bir transfer ajanüçermesi ile, söz konusu bilesimin (M3) ve dolaylîlsîla (M3)'ten türetilen söz konusu polimerin (P3), bir suda çözünebilen ve bir yagda çözünebilen olmak üzere en az iki transfer ajanlîilçermesi ve fazlarI P2 ve P3 (P2 + P3) tümü için suda çözünebilen (saf) transfer ajanII yagda çözünebilen (saf) transfer ajanlîia aglEllHZl oranII 2'nin altliîda ve tercihen 0,5'in altlEda olmasEile karakterize edilen, Istem 1 veya Z'ye göre dagEIIlIZI .
Istemler 1 ila 3'ten birine göre dag [Ililîilup, grubu (X) taslýlan söz konusu monomerin grup (X) bas. asaglîllaki sekilde seçilmesi ile karakterize edilmektedir: -karboksi/anhidrit için: (met)akrilik asit, itakonik asit/anhidrit, fumarik asit, maleik anhidrit, tetrahidroftalik asit/anhidrit (THP) -hidroksi için: istege baglElolarak alkoksillenmis, alkil C2 ila C4 ile, hidroksialkil (met)akrilatlar, özellikle alkoksilenmis veya alkoksillenmemis hidroksietil (met)akrilat (HE(M)A), hidroksipropil (met)akrilat (HP(M)A), hidroksibütil (met)akrilat HB(M)A -epoksi için: MAGLY glisidil (met)akrilat, (met)akrilat; epoksitlenmis disiklopentenil, epoksitlenmis sikloheksenil, epokstilenmis tetrahidroftalik, epoksitlenmis norbornenil arasIan seçilen epoksitlenmis bir sikloalifatik grubunu taslaktadlEl -amin için: C2 ila C4 alkil ile aminoalkil (met)akrilatlar veya aminoallkil (met)akrilamidler, örnegin MADAME (Dimetil amino etil metakrilat) veya MATBAE (t- bütil aminoetil metakrilat) -amid için: (met)akrilamid -imid: maleimid -siklik karbonat için: gliserol karbonat (met)akrilat -fosfat için: istege baglüolarak alkoksillenmis, hidroksi alkil (met)akrilatlar mono ve/veya diester fosfatlarEl -fosfonat için: istege baglEioIarak alkoksillenmis, hidroksialkil (met)akrilatlar ester fosfatlarEl -fosfinat Için: istege baglEl olarak alkoksillenmis, fosfinik asit ile hidroksialkil (met)a krilat esterleri -sülfat için: istege bagllîiolarak alkoksillenmis alkil ile, hidroksi alkil (met)akrilat esterleri -sülfonat için: Istege baglEloIarak allkoksillenmis, hidroksialkil (met)akrilatlar veya hidroksialkil (met)akrilamidler sülfonat esterlerleri; hidroksi etil sülfonat (met)akrilat veya akrilamid propan sülfonat (asit veya tuz formunda) gibi sülftonatlar -imidazol için: 2-etil(2-okso-imidazolidin-1-il) metakrilat -üreido Için: N-(2-metakriloiloksietil)etilen üre -oksazolin için: hidroksi alkil 2-0ksazolin (met)akrilatlarEl -benzofenon için: benzofenon (met)akrilatü -aziridin için: 1-(2-hidroksietil) aziridin metakrilatEl -asetoasetoksi için: asetoasetoksietil(met)akrilat (AAEM) -diaseton: diaseton akrilamid (DAAM) -metilol: N-metilolakrilamid (NMA) -alkoksisilan Için: alkoksisilan (met)akrilatlarü
5. Istemler 1 ila 4'ten birine göre daglJIJiîcblup, söz konusu grup (X) reaktif bir grup olmasüe sunlar arasIan seçilmesi ile karakterize edilmektedir: asetoasetoksi, diaseton, N- metilol, alkoksisilan; söz konusu grubu (X) taslîclan tercih edilen monomerler asetoasetoksietil (met)akrilat (AAEM), diaseton diakrilamid (DAAM), N-metilol akrilamid, alkoksisilan (met)akrilatlar araleUan seçilmektedir.
6. Istemler 1 ila 4'ten birine göre dagiiliEblup, söz konusu grubun (X) sunlar arasIan seçilmesi ile karakterize edilmektedir: karboksi/anhidrit, hidroksi, amin, epoksi (veya oksiran), imid, aziridin, oksazolin, imidazol, siklik karbonat.
7. mmoI/g polimer (polimer: P1 + P2 + P3) cinsinden verilen gruplarI (X) indisinin, 0,002 arasIa degismesi ile karakterize edilen, Istemler 1 ila 6'dan birine göre daglIHlZl
8. Söz konusu polimerlerin (P1, P2 ve P3) slüislîla, sadece (met)akrilik monomerler veya (met)akrilik monomerlerin en az bir aromatik vinil monomeri ile karlgüilarlian olusan söz konusu monomer bilesimlerinden (M1, M2 ve M3) türetilmesi, stirenin tercih edilen aromatik vinil monomeri olmasEile ve söz konusu polimerin (P1), iç çapraz baglama ajanlîl olarak en az bir monomer içeren bir monomer bilesiminden (M1) türetilmesi ile karakterize edilen, Istemler 1 ila 7'den birine göre daglIEEl
9. Istemler 1 ila 8'den birine göre bir dagllBII preparasyonuna yönelik yöntem olup, söz konusu yöntemin asagülaki emülsiyon polimerizasyonu asamalarEl içermesi ile karakterize edilmektedir: bir tohum monomeri bilesiminin (M0) bir emülsiyon ön polimerizasyonunu içeren bir tohumlama asamasüburada tohum partikülleri, 40 nm'ye esit veya daha düsük bir boya sahiptir ve söz konusu polimer fazII (P1) aglîlllgl. göre aglElllEJ olarak bir polimer (P'1) veren, böylece asama i)'de elde edilen tohum polimeri (PO) ile birlikte partikülün söz konusu maçasII söz konusu polimer fazIE(P1) olusturan bir monomer bilesiminin (M'l) emülsiyon polimerizasyonu asamasü söz konusu monomer bilesimi (M'l) söz konusu tohum bilesimi (M0) ile aynEl/eya farkIIlEl (eger (M0) ile aynüse söz konusu monomerlerinkine (M1) karsllllîl gelmektedir) ve bunlar. aglîlllKI olarak genel ortalama bilesimi (M0 + M'1) söz konusu monomerlerinkine (M1) karsiIJIZJ gelmektedir, opsiyonel olarak asama ii)'deki ürün (dagllELIl depolanabilmektedir ve daha sonra sonraki asama iii) için ham madde olarak kullanllâbilmektedir, iii) söz konusu polimer faleîiPZ) olusturan bir monomer bilesiminin (M2) emülsiyon polimerizasyonuna yönelik bir asama; söz konusu asama iii) baslanglgta bir tohumlama içermektedir ve istege bagIIJJIarak suda çözünebilen bir transfer ajanEl varl [glEtla gerçeklestirilmektedir, iv) dlgl katmanda söz konusu polimerin (P3) elde edilmesi amaclîla, söz konusu polimer faleZiiP3) olusturan bir monomer bilesiminin (M3), tercihen merkaptanlar arasIan seçilen, istege baglEbIarak biri suda çözünebilen ve diger ise yagda çözünebilen olmak üzere iki transfer ajanü/arügilütla emülsiyon polimerizasyonuna yönelik bir asama.
10. Istem 9'a göre yöntem olup, asaglEllakiler ile: -tohumlama asamasEi), toplam aglElllgb (P1 + P2 + P3) göre aglHHEIolarak %0,01 ila 0,5, tercihen %0,05 ila 0,2 oranIda anyonik bir yüzey aktif madde varllgiia gerçeklestirilmektedir -monomer bilesiminin (M'l) emülsiyon polimerizasyonu asamaslîli), toplam aglEllig'b tohumunki (M0) ile aynü/eya farklIZiblan bir birinci anyonik yüzey aktif madde ve bu asama ii)'nin birincisinden farkIEblan bir ikinci anyonik yüzey aktif madde varllgilüda gerçeklestirilmektedir; fazI(P1) bu iki anyonik yüzey aktif maddesinin aglEIl[lZ| olarak oranÇltoplam aglIlllgh (P1 + P2 + P3) göre aglElHZJ olarak %0,1 ila 3, tercihen %0,1 ila 1,5 oran adlEl -monomer bilesiminin (M2) emülsiyon polimerizasyonu asamasüii), toplam aglB][gla yüzey aktif madde a) ve b) varllgllîîtja; a) alkoksillenmis yag alkolleri, daha tercihen alkoksillenmis Cu ila Cm yag alkolleri, daha da tercihen etoksi ve/veya propoksi ünitelerinin alkoksi üniteleri gibi, özellikle etoksi üniteleri araslîidan seçilmis olan iyonik olmayan bir birinci yüzey aktif maddedir ve daha özellikle söz konusu alkoksi ünitelerinin saylîB ila 50 arasIda ve daha tercihen 5 ila 40 arasIa degismektedir ve b) asama ii)'ninki ile aynüleya farklüilabilen bir anyonik yüzey aktif maddedir, söz konusu asama iii) baslanglga bir tohumlama içermektedir ve opsiyonel olarak (söz konusu asama iii) için) suda çözünebilen en az bir transfer ajan varlEgllEtla gerçeklestirilmektedir -söz konusu bilesimin (M3) polimerizasyon asamasEliv), yüzey aktif maddelerin varllgiIa veya yoklugunda gerçeklestirilmektedir ve yüzey aktif maddelerin varlEgilEda gerçeklestirilir ise asama iii) ile aynükosullarda ve opsiyonel olarak bir suda çözünebilen ve bir yagda çözünebilen olmak üzere en az iki transfer ajan varl[g]lEUa gerçeklestirilmektedir ve asaglkiler ile karakterize edilmektedir: -asamalar i) ve ii) 75 ila 90°C'Iik bir slîlaklllzta gerçeklestirilmektedir -söz konusu monomer bilesiminin (M3) polimerizasyon asamasElv) gibi söz konusu monomer bilesiminin (M2) polimerizasyon asamasüii), söz konusu yöntem atmosfer baslüblühla uygulandlgiüaman Tgl'in altIa bir lebkliEta gerçeklestirilmektedir. Polimeri (Pl) veren genel monomer bilesiminin (M1) emülsiyon polimerizasyonu asamasEl ii) ve polimeri (PZ) veren söz konusu monomer bilesiminin (M2) emülsiyon polimerizasyonu asamasElii)'ün, söz konusu monomer bilesiminin (M3) eklenmesinden önce en az %95 oranIa, daha tercihen en az %98 orania ve daha tercihen %100 oranIa bir dönüsüm oran-a devam etmesi ile karakterize edilen, Istem 9 veya 10'a göre yöntem. Istemler 1 ila 8'den birine göre olan veya Istemler 9 ila 11'den birine göre yöntem ile elde edilen en az bir sulu dagllBEilçermesi ile karakterize edilen, sulu polimer daglllilglj bilesimi. Söz konusu dagillilîbilesiminin Istem 6'ya göre olmasüle ve söz konusu grubun (X) bir asetoasetoksi veya diaseton oldugu durumda; söz konusu bilesimin, söz konusu gruplar (X) ile gizli reaksiyon (polimer patiküllerinin filmlesme kurumasßlûsia) yoluyla en az iki grup taslsîian en az bir katkünaddesini dagilliüalinde içermesi; tercihen söz konusu gizli reaksiyon katkünaddesinin bir dihidrazit olmasüözellikle (X)'in bir diaseton oldugu durumda adipik asit dihidrazit olmasü/e (X)'in bir asetoasetoksi olmasüsöz konusu katkEl maddesinin tercihen bir poliamin olmasü özellikle diamin veya akrilat gruplarlîilda multifonksiyonel olan (MFA) bir ester akrilat olmasEile karakterize edilen, Istem 12'ye göre bilesim. Istem 12 ila 13'e göre bilesim olup, söz konusu daglllîlýla ek olarak en az bir baska 5qu polimer dagillilglîliçermektedir; tercihen söz konusu diger dagiiüII sunlar arasIEtlan seçilen reçineler veya polimerler dagllîilgîcblmaslîile karakterize edilmektedir: doymus ve/veya doymamSJ tercihen doymamlgl polyester bazIEipoIyester dagüülgjve daha tercihen modifiye edilmis veya modifiye edilmemis alkid reçineleri daglitilgü akrilik, tamamen akrilik ve stiren-akrilikler dahil olmak üzere akrilik kopolimer daglliEEI (emülsiyonu), vinilik kopolimer dagIIEIQÇI akrillenmis akrilik oligomer daglmlg: özellikle akrillenmis, doymamlgpoliüretanlar dahil olmak üzere poliüretan dagIIlîlgühidrokarbon reçineleri dagillîlîüveya kolofan reçineleri veya kolofan ile modifiye edilmis reçineler dagülilîü Istem 6'ya göre bir dagiIfJEiçermesi ile ve üstelik söz konusu gruplar (X) ile en az iki reaktif grubu taslýlan en az bir çapraz baglama ajanEIçermesi ile karakterize edilen, Istemler 12 ila 14'den birine göre bilesim. Istemler 1 ila 8'den birine göre olan veya Istemler 9 ila 11'den birine göre yöntem ile elde edilen en az bir 5qu dagHEÜ/eya Istem 12 ila 15'ten birine göre bir dag [[EEhilesimi içermesi ile karakterize edilen kaplama bilesimi. Toplasma ajanülçermemesi ile karakterize edilen, Istem 16'ya göre bilesim. Istemler 1 ila 8'den birine göre olan veya Istemler 9 ila 11'den birine göre yöntem ile elde edilen en az bir sulu daglliiIlEl, kendiliginden çapraz baglanabilir olanlar dahil olmak üzere, çapraz baglanabilir sulu kaplamalar için organik baglaylEßlarak kullanIiD Istem 18'e göre kullan! olup, özellikle sunlar arasIan seçilen endüstriyel kaplamalar, koruyucu kaplamalar ve/veya dekoratif kaplamalara iliskin olmasElile karakterize edilmektedir: boyalar, vernikler, cilalar, astarlar, mürekkepler, yaplgkanlar ve/veya bitirme (topcoats), slîdlEinazlllZl cam isleme, fiber, özellikle kumas isleme, dokunmus veya dokunmamlgldoku isleme kaplamalarlîl Istemler 1 ila 8'den birine göre olan veya Istemler 9 ila 11'den birine göre yöntem ile elde edilen en az bir sulu dagIJEII kullanIiüleya Istemler 12 ila 15'den birine göre bir daglliiübilesiminin kullanIilZIle ortaya çilZinaleIe karakterize edilen kaplama.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1361206A FR3013352B1 (fr) | 2013-11-15 | 2013-11-15 | Dispersion aqueuse de polymere a base de particules multi-structurees pour revetements aqueux a resistance au blocking et a l'empreinte et avec une durete ameliorees. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201816450T4 true TR201816450T4 (tr) | 2018-11-21 |
Family
ID=50101997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2018/16450T TR201816450T4 (tr) | 2013-11-15 | 2014-11-12 | Bloklama ve parmak izine karşı dirençli olan ve iyileştirilmiş bir sertliğe sahip olan sulu kaplamalar için çok yapılı partiküller bazlı sulu polimer dağıltısı. |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10035923B2 (tr) |
| EP (1) | EP3068814B1 (tr) |
| CN (1) | CN105899555B (tr) |
| DK (1) | DK3068814T3 (tr) |
| ES (1) | ES2694348T3 (tr) |
| FR (1) | FR3013352B1 (tr) |
| PL (1) | PL3068814T3 (tr) |
| TR (1) | TR201816450T4 (tr) |
| WO (1) | WO2015071590A1 (tr) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3013353B1 (fr) * | 2013-11-15 | 2018-01-05 | Arkema France | Dispersion aqueuse de polymere a base de particules multi-structurees pour revetements aqueux muraux resistant a la salissure et a l'abrasion humide. |
| CA2958240C (en) * | 2014-08-22 | 2022-02-15 | Arkema Inc. | Voided latex particles |
| EP3240831A1 (en) | 2014-12-31 | 2017-11-08 | Basf Se | Acid-containing polymers as coalescing agents for latexes |
| FR3043405B1 (fr) * | 2015-11-10 | 2017-12-29 | Arkema France | Revetements ayant une resistance amelioree aux taches et salissures |
| CN110072952B (zh) * | 2016-12-28 | 2022-03-08 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 水性聚合物分散液和其制备方法 |
| CN107266626B (zh) * | 2017-06-08 | 2019-08-02 | 北京化工大学 | 一种室温多重自交联核壳型共聚物乳液及其制备方法和应用 |
| CN107892508B (zh) * | 2017-11-22 | 2021-07-06 | 广州市绿奥环保科技有限公司 | 一种水性肌理壁膜涂料及其制备方法 |
| EP3856701A1 (en) | 2018-09-27 | 2021-08-04 | Dow Global Technologies LLC | Coating composition for pourous construction materials |
| EP4077405A1 (en) * | 2019-12-20 | 2022-10-26 | Basf Se | Combination of crosslinkers to improve coating properties |
| US11685800B2 (en) * | 2020-07-06 | 2023-06-27 | Columbia Insurance Company | Multi-stage polymer with low MW shell and high Tg core for early block resistance |
| WO2022072264A1 (en) | 2020-09-30 | 2022-04-07 | Rohm And Haas Company | Methods of making coated substrates having block resistance |
| US20230265015A1 (en) * | 2020-10-16 | 2023-08-24 | Rohm And Haas Company | Thin fiber cement roof tiles comprising core-shell emulsions having improved impact resistance |
| CN112592433A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-04-02 | 擎天材料科技有限公司 | 水性丙烯酸树脂、涂料组合物及其应用 |
| CN114574143B (zh) * | 2022-03-02 | 2024-04-26 | 绍兴文理学院 | 一种合成革用高性能水性聚氨酯胶粘剂的制备方法 |
| CN115785321B (zh) * | 2022-11-14 | 2025-08-01 | 湖南航天三丰科工有限公司 | 一种梯度聚合合成自交联乳液及其制备方法 |
| CN117106354B (zh) * | 2023-10-23 | 2024-01-05 | 江苏凯伦建材股份有限公司 | 一种热塑性聚烯烃用水性底涂剂及其制备方法和用途 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3353351B2 (ja) * | 1991-12-05 | 2002-12-03 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 多層構造重合体、これを含む熱可塑性樹脂組成物及びその成形品 |
| TW246657B (tr) | 1991-12-05 | 1995-05-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | |
| JP3654820B2 (ja) | 2000-06-20 | 2005-06-02 | 大日本塗料株式会社 | 水性塗料用樹脂組成物 |
| KR100405308B1 (ko) * | 2000-12-18 | 2003-11-12 | 주식회사 엘지화학 | 인조안료 및 그의 제조방법 |
| DE10260089A1 (de) * | 2002-12-19 | 2004-07-01 | Röhm GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von wässrigen Dispersionen |
| US20080058473A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Yakov Freidzon | Latex for low VOC paint having improved block resistance, open time and water-softening resistance |
| FR2948374B1 (fr) | 2009-07-23 | 2012-06-08 | Cray Valley Sa | Dispersion aqueuse de polymere autoreticulable, a base de particules de polymere structurees en coeur dur et ecorce molle et compositions de revetements ou de traitement |
| JP5588885B2 (ja) | 2010-01-20 | 2014-09-10 | 株式会社日本触媒 | 建築塗料用水性樹脂組成物 |
| CN104105550B (zh) * | 2012-02-10 | 2017-04-05 | 阿科玛股份有限公司 | 用于包含很少或不含有机溶剂的水性涂料组合物的多相乳液聚合物 |
-
2013
- 2013-11-15 FR FR1361206A patent/FR3013352B1/fr active Active
-
2014
- 2014-11-12 EP EP14814919.8A patent/EP3068814B1/fr active Active
- 2014-11-12 TR TR2018/16450T patent/TR201816450T4/tr unknown
- 2014-11-12 US US15/035,852 patent/US10035923B2/en active Active
- 2014-11-12 CN CN201480062653.0A patent/CN105899555B/zh active Active
- 2014-11-12 DK DK14814919.8T patent/DK3068814T3/en active
- 2014-11-12 PL PL14814919T patent/PL3068814T3/pl unknown
- 2014-11-12 ES ES14814919.8T patent/ES2694348T3/es active Active
- 2014-11-12 WO PCT/FR2014/052878 patent/WO2015071590A1/fr not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR3013352A1 (fr) | 2015-05-22 |
| EP3068814A1 (fr) | 2016-09-21 |
| US20160289489A1 (en) | 2016-10-06 |
| CN105899555A (zh) | 2016-08-24 |
| CN105899555B (zh) | 2018-11-20 |
| US10035923B2 (en) | 2018-07-31 |
| PL3068814T3 (pl) | 2019-01-31 |
| ES2694348T3 (es) | 2018-12-20 |
| EP3068814B1 (fr) | 2018-08-08 |
| DK3068814T3 (en) | 2018-11-26 |
| WO2015071590A1 (fr) | 2015-05-21 |
| FR3013352B1 (fr) | 2018-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TR201816450T4 (tr) | Bloklama ve parmak izine karşı dirençli olan ve iyileştirilmiş bir sertliğe sahip olan sulu kaplamalar için çok yapılı partiküller bazlı sulu polimer dağıltısı. | |
| KR101379633B1 (ko) | 경질-코어, 연질-쉘 구조의 중합체 입자로 제조된 수성 자가-가교성 중합체 분산액, 및 코팅 또는 처리 조성물 | |
| ES2383234T3 (es) | Dispersión acuosa de polímero estructurado en núcleo/corteza, su procedimiento de preparación y su aplicación en revestimientos | |
| US8900669B2 (en) | Clear matte coating | |
| CN1276958C (zh) | 可常温固化的聚合物 | |
| CA2771763C (en) | Stabilized aqueous compositions comprising cationic polymers that deliver paint and primer properties in a coating | |
| JP2013534946A (ja) | 水性結合剤組成物 | |
| EP3452519B1 (en) | Amine functional anionic polymer dispersion and coating compositions thereof | |
| JP2011506055A (ja) | 基板上にポリマー粒子の水性分散液を用いてフィルムまたはコーティングを作る方法と、得られた塗膜または被覆 | |
| NZ577765A (en) | Waterborne polymeric dispersions | |
| AU2011379400B2 (en) | New and stable aqueous hybrid binder | |
| US10465078B2 (en) | Aqueous dispersion of polymer made from multistructured particles for aqueous wall coatings resistant to dirt and wet abrasion | |
| CN113498431B (zh) | 包括多级聚合物颗粒的水性分散体 | |
| JP5958735B2 (ja) | エマルションの製造方法およびエマルションを含む塗料組成物 | |
| AU2015215924A1 (en) | Aqueous coating compositions having low or zero vocs and comprising encapsulated or polymer adsorbed pigments and letdown binders | |
| AU2016353049B2 (en) | Coatings having improved resistance to stains and dirt | |
| US20230312972A1 (en) | Coating composition with improved block and humidity resistance, direct to metal adherence and low voc content | |
| CN115768840A (zh) | 多级聚合物颗粒的水性分散体及其制备方法 | |
| JPH0328212A (ja) | 水性樹脂組成物 |