TW447007B - Conveying apparatus - Google Patents

Description

4 4 7〇〇7 Λ7 ------ B? 五、發明説明（1.) 發明背景 本發明係關於一種搬運半導體設備等之搬運裝置。 習知技術 使用圖五說明習知之半導體設備的製造裝置。 裝- 本製造裝置係稱為機架方式，由多個過程機架所構成。 在個過程機I裝设多數個同一種類的處理裝置。然後’ 依這些裝置在晶片底座實施處理’以便製造半導體設備。 將製成這樣的過程機架11〜18裝設於無菌室40内。 有關上述過程機架11〜18之說明如下。 在洗滌過程機架11設置一洗滌裝置31，以此裝置洗 條晶片底座的表面》 在氧化膜形成過程機架12設置一氧化膜形成裝置32， 以此氧化膜形成裝置32，在晶片底座的表面形成作為保護 膜的氧化膜。 i-v 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 在感光劑塗敷過程機架13設置一感光劑塗敷裝置33， 以此塗敷裝置33在晶片底座表面塗敷感光劑。而且，在顯 像過程機架14設置一顯像裝置34。在此顯像裝置34，在 塗敷於晶片底座表面上的感光劑上載置現所需要圖形的屏 蔽曝光，之後，實施消除未感光部份感光劑的處理。以這 些過程機架I3、14，實施照片處理。 在藥品處理過程機架15設置一藥品處理裝置35。然 後，依此藥品處理裝置35，實施消除晶片底座表面的不需 要物質，如氧化膜一部份等的藥品處理。 在不純物擴散過程機架16設置一不純物擴散處理裝置 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X29?公贫） -4- 經濟部中央樣準局員工消費合作.杜印製 447007 447007 A7 __ Η 7 五、發明説明（2·) 36。在此裝置使不純物擴散於晶片底座内，形成不純物層。 使擴散不純物時’以便供給所形成不純物層的不純物氣體。 在濺射過程機架17設置一濺射裝置37，在此裝置， 將薄膜形成於晶片底座表面。 在檢查機架18設置一檢查裝置38。此檢查裝置38係 檢查所製造晶片底座的動作。 在上述各過程機架間，設置連接這些的單軌19。以使 未圖示出的搬運箱可移動至此單軌19上。而且，在搬運箱 載置應處理的晶片底座時，可將晶片底座搬運於個別的過 程機架11〜18。 而且，在各過程機架11〜18内，裝設經路2〇，同時將 這些經路20連接於單軌19。在上述經路2〇上，裝設_過 程機架内專用的自動搬運裝置。此自動搬運裝置，係從上 述搬運箱自動地卸下晶片底座，同時將其搬運於過程機架 内的處理裝置。而且，如果在各處理裝置内的處理結束了， 此自動搬運裝置即再度將晶片底座恢復於搬運箱。 此外’在各過程機架内設置多個相同處理裝置。然後， 以便可同時處理一次搬入多個晶片底座。 ^組合多個設定於如上述各過程機架的處理過程以構成 半導體設備的製造過程。然後，搬運箱移動至單軌19或經 路20上，將晶片底座搬運於各過程機架。被搬運的晶片底 座以其過程機架來實施各項處理。 、此外，為製造一個半導體設備所需要的處理過程數或 順序’其會因品種而異。於是，藉由控制cpu，來選擇每 ^ .—. 讲^，1Τ, —^ (ίΛικι讀背而之注意事項洱禎.ri本玎)

經濟部中央橾率局貝工消费合作社印奴 447007 Λ7 ________ B7 __ 五、發明説明（3.) 品種的搬運路，以便搬運晶片底座。 —般而言，製造屬於半導體設備的電晶體等時，晶片 底座必需經常放在高清潔度中。 習知之裝置也相同，必需將晶片底盤經常放在高清潔 度中。因此，不僅是處理裝置，而且必需預先清潔搬運晶 片底座的單軌19或經路20。 因此’以往將設置所有處理裝置和晶片底座搬運路的 房間全體，作為無菌室。 但是，如欲設置多個處理裝置及連接於此之處理裝置 的搬運經路’即需要大的空間。如欲這種大空間作為無菌 室，即需要大規模的裝置。因此，具有所謂提高設備費用 的問題。 發明目的 本發明之目的，在於以低成本提供最適合半導體設備 製造裝置之搬運裝置。 解決課題之裝置 第1的發明係關於在具備搬運清潔箱搬運裝置的搬運 路上’保持規定的間隔裝設清潔工作植，此清潔工作接朝 向上述搬運路喷出清潔空氣，在上述搬運路和清潔工作檯 間形成一清潔空間為其特徵。 第2的發明係以第丨的發明為前提，其在沿搬運路方 向的清潔工作檯端部，設置一朝向下方的空氣導件為其特 第3的發明係以第1或第2的發明為前提，其於清潔 本紙張尺度制巾關家縣（CNS ) 210X297 公潑） -6 - {誚先閱讀背而之注意亨項再"8本頁}

447007 五、發明説明（4·) 工作檯和搬送路之間，裝設一包圍清潔空間的包圍構件為 其特徵。 第4的發明係以上述發明為前提，在清潔空間的下方 裝設排風口為其特徵。 圖式簡單說明 圖一係第1實施例的搬運裝置之概略圖， 圖二係使用第1實施例搬運裝置的半導體設備製造 裝置之概略圖， 圖三係第2實施例的搬運裝置之概略圖， 圖四係第3實施例的搬運裝置之概略圖， 圖五係習知例的半導體設備製造裝置之概略圖。 本發明之實施例 圖一所示之第1實施例，係在搬運清潔箱3的搬運路 6的上方有一具備清潔工作檯4之搬運裝置。 上述清潔箱3係容納晶片底座等之搬運者。而且，此 清潔箱3係密封型、根據未圖示出的裝置可使其内部形成 清潔的狀態。 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製 i 1111----1 --t----Hi τ -·=4 (請先^"'背而之注意事項4續^-:本頁) 在上述搬運路6上裝設軌道1，以便沿此軌道1移動 框架2。以便在此框架2載置上述之清潔箱3。然後，以上 述軌道1和框架2構成本發明之搬運裝置。 在搬運路6的一方裝設壁板7。在此壁板7、搬運路6 的上方裝設清潔工作檯4。此清潔工作檯4係朝向下方的 上述搬運路6，喷出清潔空氣。然後，由此清潔空氣，在 清潔工作檯4和搬運路6之間形成清潔空間。此外，上述 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4^格（210X297公潑） 447007 ____ Η 7 五、發明説明（5· ) ^ 〜 壁板7構成本發明的包圍構件，以免清潔空氣流出於壁板 7外。 而且，在和壁板7相反侧的清潔工作檯4端部，裝設 有一朝向下方且下垂的空氣導件5，以便整理清潔空氣的 向下流動。然後，沿此空氣導件5的流動，作為空氣簾產 生功能，以免空氣從外部進入，同時以避免喷出於清潔空 間的清潔空氣’從清潔空間流出。 裝 因此，搬運路6上因這種清潔空間，而經常形成清潔 的狀態。然後，移動此搬運路6上的清潔箱3，等於栌 在清潔的空氣中搬運。 ' 圖二表示將上述搬運裝置，應用於半導體設備的製造 裝置。 圖二，於壁板7 —侧、沿搬運路6設置多個過程箱ρ。 在這些過程箱Ρ内，按照半導體設備的製造過程順序，排 列和設置於習知例過程機架1卜18内者相同種類的處理裝 置’將其歸納設置。 上述過程箱Ρ，可使從形成於壁板7的出入口 9，襞入 搬運路6上的清潔箱3。 經濟部中央標苹扃貝工消费合作社印製 而且，在各過程箱Ρ内，裝設未圖示出的晶片底座搬 運機構。依此晶片底座搬運機構，將由出入口 9裝入的^ 潔箱3搬運至位於過程箱ρ内的各處理裝置，將清潔箱3 内的晶片底座不暴露於外氣，而固定於各處理裝置。 此外’各過程箱Ρ的内部，保持和上述搬運裝置同程 度的清潔度。 & 本紙張尺度賴巾gig家辟（_CNS ) ( 2Ϊ"〖Χ297公釐) ----. 4470 0 7 Λ?

W 五、發明説明（6.) 一方面’在載置於搬運路6上框架2的清潔箱3，容 納晶片底座。此清潔箱3朝箭頭符號X方向移動至搬運路 6上，將晶片底座搬運於各過程箱。此時，如上述說明， 由於在搬運路6上形成清潔空間，因此可以經常清潔的狀 怨搬運清潔箱3。 上述製造裝置的作用說明如下： 裝 框架2移動至搬運路6上的清潔箱3，在出入口 9停 止’從此出入口 9裝入過程箱p内p在裝入清潔箱3的過 程釦P内’對晶片底座實施規定的處理以後，將晶片底座 容納於清潔箱3，並恢後於框架2上。載置清潔箱3的框 架2，移動於隔壁的過程箱p。因此，依序將晶片處座搬運 於隔壁的過程箱P，以各過程箱P實施規定的處理。因此， 完成半導體設備。 在這種製造裝置’如以前所說明’搬運裝置的搬運路 6上’經常保持為清潔的狀態。因此，搬送此搬運路6上 的晶片底座，可—面經常保持清潔的狀態，一面移動。 經濟部中央楯率局貝工消费合作社印裴 如果根據本發明第1實施例’藉由在搬送路6和清潔 工作檯4之間形成清潔空間，而可實現清潔的搬運經路。 因此’可以清潔的狀態搬運晶片底座。 以往’雖需要設置所有處理裝置和搬運路的大無菌室， 但如果根據本發明第1實施例的搬運裝置，即不需要這種 大热菌室。由於取代使房間全體清潔的設備，使用簡單的 清潔工作檯，因此可降低該部份的設備成本。 圖二所示的第2實施例’係在清潔工作檯4和搬運路 本紙張尺度適CNS ) ( 2丨GX]97公釐) — -9- 4470 q 7 Λ7 ------- Η 7 五、發明説明（7.) —— ' … 6之間，裝設構成本發明包圍構件的拉門21。此拉門 從外部賴清潔空間，減少清潔空氣线漏於外面。如果這 樣做，儘管清潔空氣的流量少，仍可維持清潔的狀態，因 此可達成更有效的乾淨化。 但疋’本發明第2實施例的清潔箱3的搬運裝置和第 1實施例相同。 此外’在拉門21的下方，形成由多個小孔22所成的 排風口。如果在清潔空間的下方裝設這種排風口，由於清 潔空氣朝此排風口，因此流動更容易向下備齊。 而且，由於包圍構件為一拉門21，因此如果打開它， 即從框架2上卸下，或載置清潔箱3時，更容易作業。 並且，如果以透明的玻璃等形成拉門21，即可從外面 以目視確認清潔箱3的搬運狀況。 然後’這種搬運裝置不需要大的清潔箱的效果，和第 1實施例相同。 經濟部中央標举局員工消费合作枉印策 H - n n -----fi^-- n _ 1— I__丁 (請先M讀背,EI之注意事項再ίΛ·Λ7本頁) 圖四所示的第3實施例，係以沖孔板構成第1實施例 的搬送路6的面。上述沖孔板有多個貫通孔23，同時將此 貫通孔23作為清潔空氣的排風口。 而且’在搬運路6面的下方裝設排氣裝置24。此排氣 裝置24係從貫通孔23，將搬運路6面上的清潔空氣，排 出於搬運路6面下的裝置。 如果根據本發明第3實施例，由於在貫通孔23下裝設 排氣裝置24來強制排氣，因此來自清潔工作檯4的清潔空 氣流動’再朝下方整理。然後，如果清潔空氣不浪費地朝 本紙張尺度1¾财(训謂公楚} ^ -10- 447007 五、發明説明（8. ) — 一~ 搬運路6面’即可減少該部份來自«X作檯4的清潔空 氣流量，也可將清潔工作檯加以小型化。 而且，本發明第3實施例的搬運裝置，也和其他的實 施例相同可利用於半導體設備的製造裝置。 此外，在使用第1實施例搬運裝置的圖二半導體設備 製造裝置，雖按照處理順序串聯排列所有的處理裝置，但 也可利用於圖五所示配置習知處理裝置的裝置。此時，取 代圖五所示的過程機架’使用過程箱，取代單軌19使用本 發明的搬運裝置即可。然後，在一個過程箱内設置一種處 理裝置，如圖五的單軌19將本發明的搬運裝置的搬運路形 成環狀。並且，雖將晶片底座容納於清潔箱，但清潔箱來 回搬運路上骑毅間巾’將晶片紐搬運於各過程箱内 的處理裝置。 因此，不必像以往將房間全體建成無菌室。因此，不 需要像實施房間全體清潔的大型設備。 而且，並不是在上述搬運裝置的壁板7的背面裝設過 程箱，也可直接安裂處理裝置。此時，使裝入各處理裝置 清潔箱3的裝入口，和形成於壁板7的出入口 9 一致。 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 J ^^1 I - ^^^1 ^n— ^^^1 ^^^1 H<^.. 1 ^^^1 ^^^1 ^^^1 )OJ {讣先聞讀评而之ii意亨項.fi蛾-5VJ本β ) 上述各處理裝置具備崎潔雜，從裝人清潔箱3將 晶片底座搬運至處理部的機構。而且，處理裝置内部分別 依固有的機構，以便保持清潔度。於是，如果在壁板7直 接安裝處理裝置，此處理裝置的外部即不需要特別設定為 清潔的狀態。 因此，不僅是無菌室，也不需要如上述的過程箱。 本紙張X度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（2】〇χ297公势） -11 - 447007 Α7 Β7 五、發明説明（9 發明效果 如果根據本發明，由於僅將清潔工作檯限於所謂搬運 路上的地方’作為清潔㈣，因此η要實施賴全體的 清潔。 由於’不需要像實施房間全體清潔的大規模裝置，因 此可降低設備成本。 而且，由於以往實施房間全體的清潔，因此房間越大， 即愈使實施清潔的裝置大型化，但由於本發明的搬運裝置， 僅在搬運路面上形成清潔空間即可’因此不受設置其裝置 的房間大小的影響。 由於在第2〜第4的發明’清潔空氣的流動方向不偏離 於清潔芏間的外侧，可整理以便朝向搬運經路，因此可有 效地形成清潔空間。 因此，可減少從清潔工作檯噴出的清潔空氣流量，將 清潔工作檯加以小型化。因此可達成更低成本化。 尤其是在第3的發明’由於在清潔工作檯和搬運路之 間有一包圍構件，因此更能抑制從清潔空間洩漏於外部的 清潔空氣量。 而且，在第4的發明，由於在清潔空間的下方裝設有 一排風口，因此可更有效地整理清潔空氣朝向排風口，亦 即朝向下方的流動。 ' 本紙张尺廋ii」㈣規格（ 2 κΓχ 297公釐） -12- (誚先閱讀背而之注意事項再項巧本頁) 裝· ,1Τ 4470 07 A7 B7 五、發明説明（10.) 圖號說明 1 軌道 2 框架 3 清潔箱 4 清潔工作檯 5 空氣導件 6 搬運路 7 壁板 、 21 拉門 22 小孔 23 貫通孔 (誚先閱請背1&之注意事項洱^$本頁) 好、次部t"#ir局P-T消fr合竹私印" i紙張尺度沩州中闼1¾家橾;1* ( (’NS ) Λ4规格（210X297公f ) -13-

Claims (1)

1. 六、申請專利範圍 复·§2116303號春利案申請專利蔽岡m中 L —種搬運裝置’其特徵為，在具備搬運清潔箱之搬運裝 置的搬運路上，保持規定的間隔裝設一清潔工作檯，由 此清潔工作檯朝向上述搬運路喷出清潔空氣，在上述搬 運路和清潔工作檯之間形成一清潔空間，在此清潔空間 之周圍裝設包圍構件，同時在上述清潔空間的下方裝設 —排風口。 2·—種搬運裝置，其特徵為，在具備搬運清潔箱之搬運装 置的搬運路上，保持規定的間隔裝設一清潔工作檯，由 此清潔工作檯朝向上述搬運路噴出清潔空氣，在上述搬 運路和清潔工作檯之間形成一清潔空間，同時，沿搬運 路方向的清潔工作檯的端部，裝設有一朝向下方之空氣 導件。 n HI I m 1^1 n n n —^i IP : _ 一aJI ΐ_.· · -: <n ^11 ^^1 ·__ I {請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -14-