TW463392B - Organic electroluminescence element and its manufacturing process - Google Patents

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TW463392B
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field light
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Chishio Hosokawa
Hisayuki Kawamura
Hiroaki Nakamura
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Idemitsu Kosan Co
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Description

經濟部-¾慧財產局員工消費合作社印製 4 6 3 3 9 2 Α7 ______Β7 五、發明說明(1 ) [發明所屬的技術領域] 本發明係有關於有機電場發光元件(以下稱有機£1^元h 件)及其製造方法,尤係關於在民生及工業用顯示機器(顯 示器等)中,具有適當之大發光面積,且使用各種電極材料 的有機EL元件及能有效獲得該有機£]:元件的製造方法 者。
[習用技術I 習用有機EL元件例,日本特開平3_26217()號公報所 揭示。特參照第13圖說明其構成如下: 設有機層202於第1電極201與第2電極203之間。 且至少係將第1電極201以無機半導體例如係由Gap、 GaAiAs、GaAsP、ZnS等單結晶半導體材料構成。而於第1 電極201為η型半導體時’係將該第1電極2〇1與有機層 202之接合面’作為由第1電極2〇〗至有機層202之電子 植入結合,亦即可由隧道效應,以期電子之植入。 復’於第I電極201為ρ型半導體時,係將該第1電 極201與有機層202之接合面,作為由第1電極2〇1至有 機層202之電洞植入結合,亦可由隧道效應,植入電洞。 又’於第13圖中’係將第1電極201以符號ρ、有機 層202以符號〇’而將第2電極203以符號Μ表示之。 然而’在特開平3-262170號公報揭示的有機EL元件 如第13圖所示,係使第1電極201與第2電極203予以對 向,由任何電極201、203中取出EL發光者.為此,因透 光率關係需使用透明材料,而如;受限於氧化銦(ΙΤ〇)等, 11 — ΙΉ ^ 「y,裝 -----|訂---- - C ^ f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁}
I I ο 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS)A4規格(210 X 297公麓) 1 311414 4633 92 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明(2 ) 有難於取出藍光的問題。 又於上述有機EL元件中,因係將電極201、203以單 晶半導體構成,其在製造上的限制較大,為此,欲製得大 面積有機EL元件有其困難度。 因此,在特開平8-180974號公報、特開平11-31590 公報或W097/34447號公報中即如第14圖所示,係於電極 212之一部分設補助電極213,以期電極全體的低電阻化。 然而’由於任一無機EL元件或有機EL元件皆將電極 予以對向配置’因而,依然有於電極本體使用IT〇等之透 明材料之必要。 為此,由本發明的發明人銳意檢討上述問題後,發現 在陽極或陰極的任何一方電極(第1電極),與由非單晶材 料所成之半導體層間設有機發光媒體,同時對半導體層之 端緣部’予以電氣連接另一方電極(第2電極),即可解決 習用問題。 [發明所欲解決的問題] 因此,本發明係以提供得使用多種類電極材料,且能 獲得大面積有機EL元件,以及有效地獲得該有機EL元件 之製造方法為目的。 [發明之揭示] (1)本發明的一實施形態,係於含有:陽極、半導體層 及陰極的有機電場發光元件及其製造方法中,將陽極或陰 極之任何一方電極為第i電極,而以另—方電極為第2電 極時,係於第1電極與由非單晶材料所成半導體層間設置 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS〉A4規格(21〇 x 297公釐〉 2 311414 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裂----------- _j o 3 4 6 33 92 A7 B7 五、發明說明(3〉 有機發光媒體,同時,在半導體層端緣部對第/電極予以 電氣連接者。 由上述構成方式,可使第1電極與第2電極得以實質 上的不對向,因而,由取出於外部的光量關係、,得將可使 用於該電極之材料不受限制。故得以使用低電阻之不透明 材料於任何電極。 因電極係以非單晶材料構成,故可作成大面積的 有機EL元件。 復因,由半導體層向外部取出光線時,第2電極不為 遮斷,故得以取出多量光線。 (2)於構成本發明的有機EL元件時,係將第2電極於 半導體層端緣部對水平方向延設之延長部予以電氣連接為 宜。 由上述構成方式,使第2電極與半導體層間之電氣連 接處為大面積,以使連接電阻安定化,亦可防止第2電極 與有機發光媒體間的短路β 又如後述,得於半導體層的水平延長部中,使第2電 極形成與有機發光媒體為同一平面之位置為佳,或在水平 延長部設置凹部’形成於該凹部内亦佳。 (3)又為構成本發明的有機el元件時,宜於將第2電 極以電氣連接設於半導體層2處以上之端緣部。 由上述構成方式,可將第2電極與半導體層間之電氣 連接處為大面積’即使於丨電氣連接處發生不良,可由另 一電氣連接處以確保電氣連接之導通。 尺細中卿標準(c職4規格⑽x 297 311414 ----21--1----〇 裝--------訂---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Mi
I I ο A7 4633 92 B7 —--— ------— —__ 五、發明說明(4 ) (4) 本發明有機EL元件的構成中,係以第2電極圖案 化為柵狀或疏子狀為宜。 由上述構成方式,可使有機發光媒體得以發出均勻光 線,同時,得能取出多光量於外部。 (5) 為構成本發明的有機EL元件時,宜於由非單晶材 料中之 ZnS、ZnSe、CdS、CdTe、MgSe、ZnSSe、ZnMgSSe、
ZnCdSSe及ZiiTeSe等所成群體選擇至少一種氧硫族化合 物。 如上,可由非單晶材料構成半導體層即容易使之大面 積化’亦可由該等非單晶材料構成的半導體層,可取出多 光量。 (6) 為構成本發明的有機EL元件,宜於選擇該非單晶 材料為由A卜Sn、Zn、In、Cd、Mg或Si所成群體之至少 一種金屬氧化物之非縮退半導體者。 如由上述非單晶材料構成半導體層,即容易使之大面 積化,亦可由該等非單晶材料構成的半導體層,可取出多 光量。 (7) 為構成本發明的有機EL元件,該非單晶材料宜為 非晶質碳或類鑽碳。 由該非單晶材料構成半導體層,容易獲得大面積化。 (8) 為構成本發明的有機£1^元件該非單晶材料宜為 導電性共軛聚合體、添加氧化劑聚合體、添加還原劑聚合 體、添加氧化劑低分子化合物或為添加還原劑低分子化合 物。 11IV I y 裝!!— 訂il — I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Ο 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
4 311414 4 6 3 3 9 2 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(5 ) 由該構成’容易為大面積化及構成表面具有優異、, 性的半導體層,亦能使元件欠陷減少。 平 (9) 為構成本發明的有機EL元件,該半導體層< 隙(band gap)係以2.7eV以上之值為宜D 頻 由該構成’可提高半導體層之透明性,故得以取出 量之EL光量於外部。 多 (10) 為構成本發明的有機EL元件,該半導體層 以1至700nm範圍之值為宜。 厚度 由該構成’可獲得所定強度’同時,得提高半導體層 之透明性,故得以取出多量之EL光量於外部。 (11) 為構成本發明的有機EL元件,係將該半導體層之 比電阻作成ϊχ ΙΟ·3至1χ 104Ω · cm範圍之值為宜。 由該構成’可使有機EL元件之驅動電壓更低,同時, 亦可於發光面使亮度均勻化。 (12) 為構成本發明的有機EL元件,該半導體層之電荷 濃度係以lx 1〇12至lx 1020cm3範圍之值為宜。 由該構成’可使有機EL元件之驅動電壓更低,同時, 亦可防止在有機發光媒體中激發狀態時之消光現象。 (13) 為構成本發明的有機EL元件,該半導體層之透光 率係以10%以上之值為宜。 由該構成,得以取出多量之EL光量於外部。 又因半導體層之透光率係受透過光波長的影響,通 常,該透光率雖為10%左右,若係小於半導體層頻帶隙的 能量(波長)之光時,可容易地獲得80%以上的透光率。 滑 帶 — —Ίιτ— ^Λ/y i 11----訂-! V.. .、 ^ 〈靖先閱讀背面之;i意事項再填寫本買} 0. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 5 311414 463392 A7 B7 五、發明說明(6 ) (14) 為構成本發明的有機EL元件,需在該第2電極與 有機發光媒體間設置電氣絕緣部為宜β ' 由該構成,可確實防止第2電極與有機發光媒體間< 短路及串音(crosstalk)。 (15) 為構成本發明的有機EL元件,係以構成由丰 卞等體 層向外部取出EL發光為宜。 由該構成’可於第1電極得能使用各種電極材料。 (16)為構成本發明的有機EL元件,係於第2電極與半 導體層間設置導電層為宜。 由該構成’可使第2電極與半導體層間的連接電阻值 減低,得將電子或電洞容易地予以植入。 (17) 又為構成本發明的有機EL元件,係以對第2電極 設置補助電極為宜。
由該構成,可使第2電極為更低電阻化,能為有機EL 元件之低電壓驅動。 (18) 本發明的另一樣態係於含有:陽極、半導體層、 有機發光媒體及陰極的有機EL元件製造方法中, 將陽極或陰極之任何一方電極為第1電極,而以另一 方電極為第2電極時,包含··形成第2電極之工序,· 使用非晶材料在第2電極,能以電氣連接於半導體層 端緣部的位置形成半導體層之工序; 形成有機發光媒體之工序,及 形成第1電極之工序者。 由於實施該方式,得能容易地製造各樣態有機EL元 2F先閲靖背面vii意事項再填寫本頁)
I 3. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公Μ ) 6 311414 A7 463392 B7___ 五、發明說明(7 ) 件’亦於使用非單晶材料形成半導體層,其製造上的限制 少’故可製造大面積的有機EL元件。 (19) 又為實施本發明有機EL元件之製造方法,係於形 成第2電極之工序中,包含圖案化工序為宜。 如上述實施方式’可使有機EL元件以所定圖案形狀 發光,又於具有複數圖案時’得以獨立方式發光。亦因實 施該方式’使第2電極與半導體層間之接觸面積增大,得 以低電壓驅動有機EL元件。 (20) 又為實施本發明有機EL元件之製造方法,係以包 含形成覆蓋第2電極的絕緣膜、非植入性半導體層或金屬 層之工序為宜。 由該構成’得能將第2電極以機械式或化學式保護, 亦能防止短路的發生,亦可防止由第2電極之電洞或電子 的植入。 [實施發明的最佳形態] 兹參照附圖’就本發明的實施形態予以具體說明如 下: 上述參照圖,係以能理解本發明程度之方式將各成分 大小、形狀及配置關係予以概略式的揭示者。因此,本發 明並不限定於圖示例。又於圖中,在表示其為剖面時’有 省略其陰影(hatching)的時候。 [第1實施形態] 茲以第1圖說明本發明有機EL元件的第1實施形態 如下: —Μ—-----^-----„----訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中龍家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) 7 311414 A7 463392 五、發明說明(8 ) 第1圖為第1實施形態中有機£1元件100之構造剖 面圖。首先,在支持(指示)基板15上,依序形成以非單晶 材料所成的半導體層14,有機發光媒體12及陰極(第1電 極)1〇。然後,由半導體層14之端緣部17對延設於水平方 向的延伸部18 ’以電氣連接陽極(第2電極)16。 以該構成,可由半導體層14取出多量的光於外部。又 因陽極(第2電極)16與陰極(第丨電極)1〇未為實質上的對 向,得以使用多種電極材料,且與外部的電氣連接容易。 更因,以非單晶材料構成半導體層14,可形成大面積半導 體層14。因此,得以在其上方形成有機發光媒體12,因而, 可獲得大面積的有機EL元件1〇〇。 Π)有機發來嫫艚 ①構成材料: 作為有機發光層的構成材料使用的有機發光材料,需 具備下列三機能為宜。 (a) 電荷植入機能:在施加電場時,得由陽極或電洞植 入層植入電洞,同時,亦可由陰極或電子植入層植入電子 之機能。 (b) 輸送機能:將植入之電洞或電子予以移動的機能。 (0發光機能:提供電子與電洞的再結合場地,以使該 結合導致發光的機能。 唯,不須具備上述(a)至(c)中之全部,如:電洞植入輸 送性較電子植入輸送性為極優異的物件中,亦有宜以作為 有機發光材料者。因此,若能促進有機發光層中的電子移 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公愛) Η3裝 l·---訂--------- {請先閱讀背面之注意事項再填寫本買) 311414 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 463392 A7 —~一 ___ B7___________ 五、發明說明(9 ) 動’能於有機發光層中央附近可與電洞再結合的材料,即 可適於使用。 此時’為提升有機發光層中的再結合性,宜以將有機 發光材料的電子移動度設為1X 10-7cni2/v · S以上。其理由 在於該值為未滿lx l〇-7cm2/V .S時,或有有機EL元件的 高速回答困難及發光亮度低落的時候。 因此’宜以使有機發光材料的電子移動度為11χ 1〇-7 至2x l〇-3cm2/v· S以上之值,更宜為L2X 10-7至2 χ 1〇-3 cm2/V · s範圍内之數值。 電子移動度係以較有機發光層中之有機發光材料的電 洞移動度小為宜。因該電子移動度較電洞移動度為大時, 可使用於有機發光層之有機發光材料,有過度受限之時 候’因而可能使發光亮度下降。 有機發光材料的電子移動度係大於電洞移動度之 1/1,000倍為宜’因電子移動度過小時’其與電洞在有機發 光層中央附近之再結合發生困難,亦有發光亮度下降時 候。 因此,有機發光層中有機發光材料的電洞移動度(私J 與電子移動度(# β) ’係以滿足# h/2>/z e>" h/500之關係為 宜。若能滿足以h/3># h/100的關係更好。 於第1實施形態中,應在有機發光層使用以下式表示 具有笨乙烯基芳族環化合物為宜。 如上述,由於使用具有苯乙烯基芳族環化合物,可使 上述有機發光層中有機發光材料的電子移動度及電洞移動 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 x 297公釐) 9 311414 ί請5b閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 寰----l· — 訂----- ί. r 3. 16 33 9 2 五、發明說明() 度的條件得以容易滿足 A7 B7
Ar·, ^ Ar3c = c (1) [一般式(1)中,Ar1為碳數6至50的芳基,Ar2、Ar3及Ar4 分別為氫原子或碳數6至50的芳基,Ar1、 Ar2、Ar3及Ar4中之至少一個為芳基,且其縮合數η 為1至6的整數者]
Ar 5 、Ar7 (2) <請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) r m 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [一般式(2)中,Ar5為碳數6至50的芳基,Ar6及 Ar7分別為氫原子或碳數6至50的可取代芳基,且其 縮合數η為1至6的整數者] (3) [一般式(3)中,Ar8及Ar14為碳數6至50的芳基,Ar9及 Ar13分別為氫原子或碳數6至50的芳基,且其縮合數p 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 10 311414 丨—訂---------MU. 463392 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ------------- 五、發明說明(11 ) q、r、s分別為0或1者] 此處所謂的’上述芳基宜以使用核原子數為5至40 的芳基。有:苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、六苯并苯 基、聯苯基、聯三苯基、吡咯基、呋喃基、噻吩基、苯并 噻吩基、噚二唑基、二苯基蒽基、吲哚基、咔唑基、吡啶 基、苯并喹啉基及二笨并篇基等β 同樣’該核原子數為5至40的伸芳基有:伸苯基、伸 萘基、伸蒽基、伸菲基、伸芘基、伸六苯并苯基、伸聯苯 基、伸聯三苯基、伸吡咯基、伸呋喃基、伸噻吩棊、苯并 伸噻吩基、伸噚二唑基、二苯基伸蒽基、伸吲哚基、伸昨 唑基、伸吡啶基、伸苯併喹啉基及二苯并;|基等。 唯上述芳基可經其他取代基取代。適宜取代基為碳數 為1至6的烷基(乙基、甲基、異-丙基、正-丙基、第二_ 丁基、第三-丁基、戊基、己基、環戊基、環己基)碳數為1 至6的烷氧基(乙氧基、甲氧基、異-丙氧基 '正丙氧基、 s-丁氧基、t-丁氧基、戊氧基、己氧基、環戊氡基、環己氧 基等),核原子數為5至40的芳基,以核原子數為5至4〇 的芳基取代的胺基,具有核原子數5至40的芳基之醋基、 具有核原子數1至6的芳基之酯基、氰基、確基、齒素原 為有機發光層宜以使用苯并二唑系、苯并咪唾系、苯 并吗唾系等螢光增白劑或併用二苯乙烯系化合物、以8_嗤 啉衍生物為配位子之金屬配位體為宜。 又以聯笨乙烯基芳基(distryl arylene)為骨架的有機發 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 11 311414 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
BK I 5 Γ· 463392 A7 B7 五、發明說明(U ) 光材料’係以4,4、雙(2,2-二苯基乙烯基)聯基等為主劑, 於該主劑摻雜,如香豆素系或與主劑為同樣螢光色素之藍 色至紅色為止的強螢光色素之材料亦可。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 0形成方法: 其次’就有機發光層的形成方法說明於^ : 有機發光層的形成並無特別限制,如,真空蒸锻法, 旋塗法’鑄造法,LB(Langimxir Blodgett)法,減锻法等皆 可採用。唯以真空蒸鍍法時’係採用於蒸鍍溫度5〇至450 °C在不活性氣體中,以真空度ιχ 1〇-7至ix i〇-3Pa、成臈 速度0.1至50nm/秒、基板溫度50至300°C之條件為寞。 又如’將結合劑及有機發光材料以溶劑溶解為溶液狀 態後’再以旋塗法等予以薄膜化,亦可形成有機發光層, 此時使用的結合劑應為透明樹脂,有聚碳酸酯、聚苯乙稀、 聚烯烴、聚醯亞胺及聚珮等。 ③臈厚: 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 有機發光膜的膜厚並無特別限制,可對應於狀況作適 宜的選擇,通常係以5nm至5//m為宜。若有機發光臈的 膜厚未滿5nm時,其發光亮度及耐久性有低落時,而於有 機發光層膜厚超過5em時,其施加電壓值有需較高時候。 因此,為獲得發光亮度及施加電壓的平衡良好,應將 有機發光層膜厚設定於10nm至3#ηι為宜。而以20nm至 lem的範圍更適宜。 (2)丰導體層 Φ辑成材料: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 12 311414 A7 4633 92 五、發明說明(i3 ) 非早晶材料即可用於半導體層構成材料’可分_為下 述氧硫族化物(chaicogenide)材料、金屬氧化物之非縮埤半 導體及有機半導體材料為宜。由上述有機半導體材料形成 半導體層,得容易獲得大面積化。又因以該非單晶材料構 成半導體層’即因透明性高’得以取ώ多光量於外部。 作為氧硫族化物材科可由:ZnS、ZnSe、CdS、CdTe、
MgS、MgSe、ZnSSe、ZnMgSSe、ZnCdSSe 及 ZnTeSe 群體 中選擇其一為之。 該氧硫族化物材料若為ZnSSe<三元系氧硫族化物材 料時’可由ZnSxSey(x+y=i,〇<x<i,〇<y<1)表示的範圍予 以混晶化。若為ZnMgSSe之四元系氧硫族化物材料時,即 可由 ZnpMgsSxSey(p + g=l,〇<p<卜 〇<g<lx+y=1,〇<χ<1, 〇<y<l)表示的範圍予以混晶化。 亦可於氧硫族化物材料摻雜接收體材料或施體材料, 以使半導體層低電阻化為宜。此時,該接收體材料係於半 導體層,為作出電洞而添加的化合物。另一方的施體材料 係於半導體層,為作出電子而添加的化合物。摻雜上述接 收體材料及施體材料係以;Li、Cu、]Sia、Ag、N、F等為 宜。 又,上述接收體材料及施體材料的摻雜量(添加量)雖 無特別的限制,唯以0.01至5莫耳%範圍内之值為宜。因 該添加量未滿0_01莫耳%時,有未能發揮其添加效果的時 候,而於添加量超過5莫耳%時,將有凝集現象致使難於 形成均質的半導體層的時候。因此’該接收體材料及施體 -r'" ^ 裝 „----訂---- C請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 13 311414 4 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 633 92 A7 _____________B7_____ 五、發明說明(I4 ) 材料的摻雜量係以〇‘ι至2莫耳%為最適當。 金屬氡化物之非縮退半導體,有由:Al、Sn、Zn、In、 Cd、Mg及Si等所成群體中選擇其一者。 金屬氧化物之非縮退半導體(電荷濃度未滿ΐχ 1〇2〇 cm3)通常係使用三元系或四元系者。可由控制其摻量及氧 孔隙數,或控制其組成比,使其為適宜電荷濃度或為該比 電阻值範圍内之值。例如:Sn〇2及八丨的組合通常係用為 縮退半導體者。若將A1為施體摻質,予以添加3至1〇原 子% ’即可作成非縮退半導體。InZn〇通常係作為縮退半 導體使用者。亦可將Si、Mg、八丨為施體摻質添加t至2〇 原子%時’可作為非縮退半導體。 良好有機半導體材料有;非晶質碳或鑽石碳者。 該有機半導體材料得以含有氫原子,或宜以添加硼、 鱗等接收體性材料或施體性材料,作成P型或η型半導體 材料。 又於構成本發明的有機EL元件時,該非單晶材料應 以使用導電性共軛聚合體、添加氧化劑的聚合體、添加還 原劑的聚合體、添加氧化劑的低分子化合物,或添加還原 劑的低分子化合物為宜。 上述導電性共軛聚合體有:聚苯胺及其衍生物、聚噻 吩及其衍生物(參照日本專利;特開平8-48858號及特開平 7-90060號公報)《>添加氧化劑的聚合體及添加氧化劑的低 分子化合物有:烯丙胺(allyl amine),亦可使用於主鏈含有 噻吩低聚合物或含於側鏈之聚合體者。而添加還原劑的聚 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 14 311414 ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 裝 ill·· — — 訂! —
n I I 3. 4633 92 A7 B7 經 濟 部 智 慧 財 k 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明(u ) 合體或低分子化合物即為含策複數環化合物。 添加於聚合體或低分子化合物的氧化劑有:路易士 酸’例如:氣化鐵、氣化銻、氣化鋁等。同樣,添加於聚 合體或低分子化合物的還原劑有:鹼土金屬、稀土金屬, 鹼族化合物、鹼土族化合物、及稀土族化合物。而在該化 合物中’亦包含上述驗金屬及鹼土金屬的有機複合物(配位 子為有機物)。 0半導體層的特性 為使由半導體層有效地向外取出光線,半導體層的透 光率以10%以上為宜。若能為5〇%以上更佳。以7〇%為最 佳。 又,因該半導體層的發光亮度值得以擴大,故將頻帶 隙(band gap)設為2.7eV以上之值為宜。 理由為’將頻帶隙設定為大於2.7eV以上之值時,可 獲優異電子障壁效果,及電洞障壁效果,而使電子或電洞 得能超越有機發光媒體向半導體層移動者減少。為此,可 提升電洞與電子的再結合效率,得以提高有機EL元件之 發光亮度。 又,於半導體層中之電荷濃度,係以lx 1〇12至1Χ 102Gcm·3範圍内之值為宜。 其因在於’半導體層中之電荷濃度未滿lx l〇12em-3 時’驅動電壓顯著提高,有發光不均勻時候,而於半導體 層中之電荷濃度超過lx 102°cm_3時,多發生作為金屬作 用,因之於有機發光媒體產生的激勵狀態,有容易失活的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 15 311414 (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁)
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五、發明說明(16 ) 時候。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此,以半導體層中之電荷濃度為1X 1〇13至1χ 1019cxn-3的範圍内之值較宜。若能設定於1〇14至1χ 1018cnr3js範圍内之值更佳》 半導體層的比電阻值以lx 1〇·3至lx 1〇9Ω · cm範圍 之值為宜。理由為:半導體層的比電阻值未滿1χ 1〇_3Ω · cm時’有發生為金屬之作用以致使有機發光媒體產生的激 勵狀態’有容易失活的時候。若半導體層的比電阻值超過 1χ 109Ω · cm時’驅動電壓有顯著提高的時候β 唯’為形成典型的大有機EL元件的畫素(如,3〇〇ym X 300〆m)以直流驅動(DC驅動)時,該半導體層的比電阻 值以lx 10至lx 10 Ώ · cm範園之值為宜。若能使半導 體層的比電阻值為所定範圍的值,即可獲得更均勻的發 光。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而於形成典型的大有機EL元件的畫素,以脈波驅動 時,即以半導體層的比電阻值設定於lx 1〇-3至1Χ 1〇4Ω · cm範圍之值為宜。若設定半導體層的比電阻值為所定範圍 内之值時’可對應於其工作比(duty ratio),得於在所定時 間内流出大電流。 ③膜厚 半導體層的臈厚以1至700 nm範圍之值為宜。若半導 體層的膜厚為未滿lnm,有不為連續膜的時候,又若半導 體層的膜厚超過為7 〇〇nm時,即有取光效率低落狀況。 因此,半導體層的膜厚以1至500nm範園内之值為 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 16 311414 4633 92 A7
經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 五、發明說明(Γ7 ) 佳,右能為1〇至300nm範圍之值更佳。 (3)Si : 如依本發明,陽極與陰極得以實質上的不對向,馬由 半導體層向外取出光線,可由透光率等的觀點得顯著減 低各種類限余J。又☆本發a月中,#設該陽極纟陰極之任何 一方為第-電極時,另-方即為第2電極。因此,得將陽 極為第1電極,而將陰極為第2電極,或將陰極為第!電 極,而將陽極為第2電極。 兹就使用於電極的材料舉例說明如下:該第2電極若 如前述,能對半導體層的植入良佳,即可任意使用各種金 屬’或導電性化合物。 唯,由第2電極之陽極或陰極,植入電子及電洞時, 該電荷即通過半導體層端緣部的接電處,移向面積較大的 半導體層部分,為此,需考慮該接電處之連接電阻,選定 大2電極的形勢材料為宜。 ①陽極 陽極係以使用工作係數較大(如’4〇ev以上)的金屬' 合金、導電性化合物’或該混合物為宜。通常,係以IT〇(銦 錫氧化物)、ΙΖΟ(銦辞氧化物)、氧化辞、Au、Pt、Pd等之 一種或組合二種以上,予以使用。 又’陽極的膜厚不特別限定’唯以1〇至l〇〇〇nm的範 圍之值為宜。若以10至200的範圍之值為佳。 0陰極 陰極係以使用工作係數較小(如,未滿4.OeV)的金屬、 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 17 311414 c請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁}
^裝---------訂---I I 3. 463392 A7 B7 五、發明說明(18 ) 合金、導電性化合物,或該混合物為宜。有:Mg、AI、ln、 Li、Na、Ag、W、Ta · W 合金、Ti、Cr、A1 · W 合金、Ai · Ti合金等之一種或組合二種以上,予以使用。 陰極的膜厚不特別限定,唯以10至lOOOnm的範圍之 值為宜。若以10至200的範圍之值為佳。 ③電極位置 特就陽極或陰極電接於半導體層端緣部作為第2電極 使用時的該第2電極位置,及連接構造,以參照第1圖至 第11圖說明如下:又,此處所謂的「電接」,係以陽極咬 陰極連接或接觸於半導體層,以成可通電的狀態者。為此, 宜以將連接電阻設定於lk Ω以下之值。而以1〇〇 下之 值為佳。 唯’本發明中之第2電極位置,並不限定於第丨圖至 第11圖之所示位置’得以將該所示構造予以適當組合。亦 可位於能連接半導體層端緣部之圖示以外的適當位置。 第1圖係表示第1實施形態中有機EL元件1〇〇 的第2 電極16之位置’在由半導體層14端緣部I?,向水 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ’方向 延伸的延長部18,設有一凹部20,而於該凹部2〇内, 陽極(第2電極)16者。 > 成 體層14間的電接處為大面積,得防止短路發生亦 外部的電接較容易。如於讓位置形成第2電極16, 2電極16上面與半導體層μ上面成為同一平扭 •〜半 一叫’對猫 緣性的處理較易。 &張尺度適用中國國家違.準規χ 297公楚 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 如於上述位置形成第2電極,可使第2電極16虚 Ί Λ 與半導 能使與 可使第 311414 4633 92 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ;------ B7 五、發明說明(l9 ) 第2圖係表示於第1實施形態變形例(一)的有機EL元 件102中之篦9带43: 罘2電極16位置者。係於半導體層14端緣部 17,向水平方向延伸的延長部18表面,形成陽極(第2 極)16 β 如於該位置形成第2電極16 ,可使第2電極16與半 導體層14間的電接處為大面積,亦使第2電;& 16與有機 發光媒體12間的距離拉長,因而,得有效地防止短路的發 生。更因’第1電極10與第2電極16分別為同一方向, 而於第2圖中’係露出於上面方向,因此,得以利用為與 外部電接容易。 ’ 第3圖係表示於第1實施形態變形例(二)之有機El元 件104中之第2電極16的位置者。係於半導體層14端緣 砵17,向水平方向延伸的延長部18,設置有機發光媒體 12 —側的反對侧形成第2電極16。 如於該位置形成第2電極16,可使第2電極]6與半 導體層14間的電接處為大面積,亦可不須施行電氣絕緣性 處理而使第2電極16與有機發光媒體12間,有效地防止 短路的發生。復於本示例令,與第丨圖所述之同樣理由, 在延長部18設凹部20,而於該凹部20内形成陽極(第2 電極)16。 第4圖係表示於第1實施形態變形例(三)之有機el元 件106中之第2電極16的位置者。係將第2電極16直接 對著半導體層14端緣(側端)部17,予以形成者。 如於該位置形成第2電極16,可使橫方向有機£1>元 %---I----「-裝----K----訂--------- (請先閱讀背面之庄意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 19 311414 463392 經 濟 部 智 慧 財 產 局 貝 工 消 費 合 作 社 印 製 311414 A7 五、發明說明(20 ) 件106的構成為較緊湊小型化(c〇mpaet)。 第5圖係表示第1實施形態之變形例(四)。係柃 元件U2中設二所,第2電極16、23的示例者。亦機 係對半導體層14端緣(側端)部17兩侧,介由延長部η, 設第2電極16、23者。 ’ 如上述’形成複數第2電極16、23時,可使該第2 電極16、23與半導體層14甲延長部18之接觸面積擴大2, 而使電子及電洞的植入容易。且於第2電極 ^ J疋任何 一方與半導體層14中延長部18間,發生導通不良時亦 可經由另一方的第2電極16、23與半導體層14中之另一 方延長部18間維持導通現象。 第6圖係表示第1實施形態之變形例(五)。係於半導 體層14之端延部設傾斜面24。且在該傾斜面24上形成第 2電極16者。 如上述方式在半導體層14與第2電極16形成傾斜 時,其接觸面積擴大,使電子及電洞的植入容易。 又於第1實施形態的變形例(五)中,第6圖表示,雖 係將傾斜面24形成為向下之傾斜狀,唯該傾斜得以形成為 向上的傾斜。亦可將第6圖所示之第1實施形態變形例(五) 中之傾斜面24部分之三角形剖面作成為梯形剖面。 第7圖為第1實施形態之變形例(六)。係於第1電極 10側亦τ>Χ半導體層9的示例者。亦即係表示於半導體層9 側端之端緣部形成第1電極10者。 如以上述方式形成第1電極10,即可解除對第1電極 本紙張尺度適用中國5^7&^41格( χ 297公楚) ;; .1 「> 裝----Κ----訂----- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 463392 五、發明說明(Μ ) 的限制’同時,可以使用不透明的低電阻材料,使電子及 電洞的植入容易。 第8圖為第1實施形態之變形例(七)。係表示於半導 體層14於端延部設階梯,且於該階梯上形成導電層25, 在該導電層25上形成第2電極16者。 如上述方式,可使半導體層14與第2電極16形成為 階梯狀接觸,同時,由於形成有導電層25,而使接觸面積 擴大,易為低電阻化。 第9圖為表示半導體層14與第2電極16之連接狀態 及連接位置者。係以第9圖(a)及第9圖(b)表示平面圖,而 以第9圖(c)及第9圖(d)表示剖面圖。 若採用該形態可宜以使接觸面積擴大,或因可獲得優 異的連接可靠性,係以第9圖(a)所示之半導體層14前端 部的分又構造,或如第9圖(b)所示,於半導體層14前端 部成開孔的構造為宜。 又因上述同樣理由,可如第9圖(c)於半導體層14前 端部設凹部,或如第9圖(d)所示,得於半導體層14前端 部形成契齒狀為宜。 第1 〇圖係表示第1實施形態變形例(八)中之有機EL 元件108的第2電極34的位置’係以省略有機發光媒體及 第1電極的狀態表示。本示例係將第2電極34予以圖案化 為複數條執道而設置者。該半導體層32亦沿第2電極 予以圖案化為複數條軌道β且第2電極34係沿半導體層 32的端緣部(端側,予以電接。 F紙張尺度適用t _家標準(CNS)A4規格⑽χ撕公愛) 311414 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁〕 ^J^^ ----r 111 訂---11 3. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 21 4633 92 A7 五、發明說明(22 ) 因此’如上述位置形成第2電極34,係於第1電極(未 圖不)與第2電極34間施加電壓時,得以防止於半導體層 32(未圖示)因電阻值造成電壓的下降效果。 又若於該位置形成第2電極34時,可在第2電極34 之垂直方向配置第丨電極的時候,得將有機EL元件(畫 素)1 配置成矩陣狀。因而,能由大面積半導體層32的 發光面多取出光量,且能於同時提供薄型顯示裝置。 第U圖係表示第1實施形態變形例(九)中之有機el 凡件110的第2電極40位置者。第Π圖(a)係以平面方式 表不將第2電極40圖案化為柵狀,形成於支持基板42上 者°第11圖(b)係以剖面方式表示’設有全面覆蓋第2電 極40及一部分露出之支持基板42的半導體層44。又於第 11圖(c)以剖面方式表示,於第】j圖(b)所示之半導體層 44上全面形成有機發光媒體46,又於其上形成圖案化第1 電極48的有機EL元件11〇中,可由符號τ所示地方取出 光線者。 因此’如於該位置形成第2電極40,即可在第2電極 40與半導體層44間使電接處為大面積,以防止半導體層 因電阻值造成電壓下降效果。若於上述位置形成第2電極 40,即可與第1電極(未圖示)間的配置關係上,將有機EL 元件(畫素)110配置為矩陣狀。因而,得以由大面積半導體 層44的發光層取出多量光d 亦得於一畫素中之第2電極與半導體層包含上述構 成。更可於第11圖所示構成體為晝點(畫素之一部分),作 <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -y裝----l·! — 訂----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 22 311414 463392 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(23 ) 成2次元配列的矩陣構造。 (4)支持基板: 其次,就有機EL元件中之支持基板說明如下: 上述支持基板,若具有優良機械強度,且為水分透過 性及透氧性較少者,如,可將此種常用於有機EL元件之 厚度100至2000私m的玻璃基板及陶瓷(ceramic)基板等直 接予以使用。 又’若須介由形成於支持基板上的半導體層向外取出 光線時,該支持基板的透光率應以90%以上為宜。若能為 93%以上較好,若透光率為98%即最佳。 (5)構成例: 第1實施形態中之有機EL元件,係以陽極為第2電 極’而以陰極為第1電極,實質上為①的構成,唯可將其 他構成要素,如以電洞植入層及電子植入層的組合獲得② 至④的有機EL元件之構成為宜。 亦可以陽極為第1電極’而以陰極為第2電極, 口J獲 得⑤至⑧的有機EL元件構成。 级將較佳的有機EL元件構成例,例示如①至⑧。 ①基板/半導體層(+陽極(第2電極))/有機發光層/陰極 (第1電極) 0基板/半導體層(+陽極)/電洞植入層/有機發光層/陰 極 ③基板/半導體層(+陽極)/有機發光層/電子植入層/陰 極 本紙張尺度適用㈣國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) 1-------- 23 3!1414 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝! l·—--訂----- L63392 h A7 - 1 "1 B7 ^_ 五、發明說明(24 ) ④ 基板/半導體層(+陽極}/電洞植入層/有機發光層/電 子植入層/陰極 ⑤ 基板/半導髏層(+陰極(第2電極})/有機發光層/陽極 (第1電極) ⑥ 基板/半導體層(+陰極)/電子植入層/有機發光層/陽 極 ⑦ 基板/半導體層(+陰極)/有機發光層/電洞植入層/陽 極 ⑧ 基板/半導體層(+陰極穴電子植入層/有機發光層/電 洞植入層/陽極 [第2實施形態] 其次以第12圖(a)至⑷,說明本發明第2實施形態 的有機EL元件的製造方法如下: 第12圖(a)至(d)為表示有關第2實施形態之製造方法 各工序中,有機EL元件模式的說明圖。而於下記說明中, 係以有機EL元件的製造方法為重點予以說明,其構成材 料等係與第1實施形態中之内容相同β (1)陽極(第2電極)的形成: 第12圖(a)係表示於支持基板上設置陽極(第2電 極)16的狀態者。 上述陽極16的形成方法並無特別限制,可將濺鍍法 (沈積法)與微影法予以組合後,形成於所定位置。也就是 說•可由濺鍍法在支持基板15上全面形成陽極層後,再以 微影法予以圖案化,在與半導體層14之端緣部17電接的 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝----^- — 1—訂!丨 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 24 311414 A7 463392 五、發明說明(25 ) 位置上’正確地形成陽極16。 亦可於支持基板上的陽極形成位置設置凹部,在該凹 部形成陽極’以使支持基板上面位置與陽極表面位置得以 -致為平坦面。如以上述方式形成陽極,即可於後工序中 形成半導料’能使半㈣相料料_實地電接在 -起。若以上述方式形成陽極’能將陽極埋設於具絕緣性 之支持基板内’因@ ’可無需使用絕緣性材料得能與後工 序形成之有機發光媒體確實保持其絕緣性。 (2) 半導體層的形成: 第12圖(b)係表示於支持基板15上之陽極(第2電 極)16鄰接一設置半導體層14的狀態者。也就是說:係表 示將陽極16於端緣部17配設為能與半導體層14電接狀態 者。 該半導體層14的形成方法亦無特別的限制可於前工 序後’續以實施濺鍍法(沈積法)於所定位置上予以形成。 亦即於前工序蝕刻陽極層後,剝離抗蝕臈,於全面再形成 半導體層14’由微影法予以圖案化,即可將半導體層14 以短時間内容易地形成在所定位置上。 如需以陽極16及半導體層14為一部分重疊狀,可如 第3圖所示,設凹部22’形成半導體層14,再以微影法將 半導體層14形成於所定的位置為宜。 (3) 有機發光媒體的形成 第12圖(c)係表示於半導體層14設置有機發光媒體12 的狀態者。該有機發光媒體12的形成亦無特別的限制,唯 I I ^1 — I — I Λ — · I I I I \丨.' C請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 木紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 25 311414 4633 92 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ------B7___五、發明說明(26 ) 於濺鍍時’可使用開孔遮罩將該有機發光媒體12形成於所 定位置。若係以發光層、電洞傳送層、電洞植入層、中間 介面層等所構成時,可於各層形成時分別重複濺鍍工序, 即能正確地予以形成》 又於形成有機發光媒體12時’可於陽極16上設絕緣 層(未圖示)’以覆蓋陽極為宜。由上述方式形成絕緣層即 可確實確保陽極16與有機發光媒體12間的絕緣性,因此, 得以有效防止構成有機EL元件時的短路及串音(cross talk) 發生。 上述絕緣層係以光硬化性環氧系樹脂、丙烯基系樹脂 或矽氧烷系樹脂等構成為宜。亦可由非電荷植入性的半導 體層或金屬層替代上述絕緣層。 (4)陰極(第1電極)的形成: 第12圖(d)係表示於有機發光媒體12上設置陰極,(第 i電極)10’以構成有機EL元件時的狀態者。上述陰極(第 夏電極)10亦可由濺鍍法及微影法的組合形成於所定位 置。 如上述,於第2實施形態,係將半導體層14的形成排 在陽極16形成後實施,但得以將該順序予以顛倒。也就是 說:首先形成半導體層14,再形成陽極16,以獲得如第1 圖、第2圖及第10圖所示的有機EL元件100、1〇2、1〇8。 亦可於基板上形成第2電極以外時,將第1電極設於基板 上’再設有機發光媒體、半導體層後,於半導體層端緣部 配設第2電極。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 裝-----„----訂- --- 3. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS>A4規格(210 X 297公釐) 26 311414 4633 92 A7 B7 五、發明說明(27 ) 實施例: 茲將以實施例詳述本發明如下: [實施例1] (1)有機EL元件的製造: ①陰極(第2電極)的形成: 在厚:1.1mm、長:200mm、寬:20 0mm的透明玻璃 基板’以異丙醇作超音波清洗,再於N2(氮氣)環境中乾燥 後’使用UV(紫外線)及臭氧予以1 〇分鐘的清洗。其次, 於清洗後的玻璃基板上,使用濺鍍機器(曰本真空技術株式 會社製造)形成由Al/Si合金(Si濃度為1原子。/〇)所成的薄 膜(膜厚:100nm)〇由微影法於該Al/Si合金薄膜上形成如 第11圖(a)所示的柵狀圖案(線寬:20仁m、柵距:32〇# m)。 因此’得以將陰極(第2電極)於半導體層之端緣部構成為 電接狀。 0半導體層的形成: 對形成有陰極的玻璃基板施行argon電漿清洗後, 以真空沈積裝置在玻璃基板上,同時由ZnSe及ZnCl2沈積 而成之膜厚150nm之n型半導體層。而該沈積作業係於真 空度為 lx l〇-6Torr(l_33x l〇-4Pa),加熱溫度為 760 至 780 。(:的條件下實施,其中,ZuC〗2的沈積係以半導體層之比 電阻值3χ 109Ω · cm為原則而予以實行。 又半導體層之電荷濃度係以4端子法測量,確定其為 5x 1015cm·3。 ③有機發光媒體的形成: 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 311414 (請先闓讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝----l·---訂----- 5. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 27 4633 92 A7 B7 五、發明說明(28 ) 其次’由下記構成材料依序沈積為各骐層厚度形成有 機發光媒體。其中’ Alq為發光層,;NPD為電洞轉送層, TPD74為電洞植入層’而CuPc即為中間介面層
Alq(8-羥基喹啉 ’ 8-hydroxyquinoline 之 A1 配位基): 60nm NPD(N,N’-二(1_ 萘基)二苯基 _4,4,-聯基胺,>1,;^,-(^-(l-naphthyl)-diphenyl-4,4,-benzidine) : 20nm TPD74(4,4’-雙二(間-甲苯胺基)_4”_苯基-三苯 胺 ’ 4,4’-bis-(N,N’-di(m-tolylamino)-4’’-phenyl triphenylamine) : 20nm CuPc(酞菁銅):20nm ④陽極(第1電極)的形成: 最後沈積Au 20nm,A1 lOOnm,以獲得實施例1的有 機EL元件。 (2)有機EL元件的評估: 於製得的有機EL元件,在陽極(第1電極)與陰極(第2 電極)間施加7V直流電壓,可介由半導體層獲得綠色發 光。流過電流為3mA/cm2,此時的發光亮度為54cd/m2。 若以初期發光亮度為lOOcd/m2的定電流運轉,獲得480小 時的壽命半減效果。 [實施例2] (1)有機EL元件的製造: ①陽極(第2電極)的形成: 與實施例1 一樣,以柵狀圖案化(線寬:20 // m、柵距: (請先闓讀背面之注意事項再填寫本頁) 一,裝----K----訂----- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 28 311414 463392
五、發明說明(29 ) 3 20〆m)的Al/Si合金薄膜形成陽極(第2電極 ②半導體層的形成: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於形成陽極的玻璃基板施行Argon氬電漿清洗後,在 該基板上使用真空沈積裝置(曰本真空技術株式會社製 造),同時沈積臈厚為30nm的CdS與Cu之p型半導體屠。 該沈積作業係於真空度為lx l〇-6Torr(1.33xl0.4Pa),加熱 溫度160°C之條件下予以進行。該Cu之沈積係以半導體層 之比電阻值2χ ϊ〇Ω · cm為原則而予以進行。該半導體層 之電荷濃度係以4端子法測量,確定其為4x 1017m-3。 又’如應用物理’ ϋ,1770(1992年)之記載,由另法 確認獲得CdS與Cu組合之半導體層為表示p型半導體特 性者。 0有機發光媒體的形成: 再其次,將於實施例1中使用之TPD74、NPD及Alq 依序沈積為膜厚200nm、20nm及60nm的有機發光媒體, 分別由TPD74為電洞植入層、NPD為電洞轉送層、Alq為 發光層。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ④陰極(第1電極)的形成: 最後,沈積LiF(0.5nm) ’再沈積A1膜200nm厚度, 以得實施例2之有機EL元件。 (2)有機EL元件的評估: 於製得的有機EL·元件,在陰極(第1電極)與陽極(第2 電極)間施加7V直流電壓,可介由半導體層獲得綠色發 光。流過電流為2.7mA/cm2,此時的發光亮度為32cd/m2。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公髮) 29 311414 463392 A7 B7 五、發明說明(3〇 ) 若以初期發光亮度為100cd/m2的定電流運轉,獲得62〇小 時的壽命半減效果》 [實施例3] (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (1) 有機EL元件的製造: 在實施例3中檢討有機半導體層的效果,亦即,以表 示半導性為高分子的PEDOT(3,4-聚伸乙二氧基噻吩, 3,4-polyethlene dioxythiophene ’ 拜耳公司製)代替實施例 2 中之CdS與Cu組合之半導鱧層形成膜厚70nm之半導體 層,以水溶液狀態予以旋轉鍍膜後,再以12(TC^空乾燥 予以形成外’其餘與實施例2相同方式製得有機el元件。 (2) 有機EL元件的評估: 在陰極(第1電極)與陽極(第2電極)間施加7V直流電 壓,其流過電流為5.2mA/cm2,介由半導體層,可獲得發 光亮度為180cd/m2的綠色發光。若以初期發光亮度為 100cd/m2的定電流運轉,獲得790小時的壽命半減效果。 結果如表1所示。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此時之半導體層面電阻為1.6kQ,此電阻值為ι.1χ ΙΟ2 Ω · cm 〇 [比較例1】 (1)有機EL元件的製造: 製造一種’除未形成實施例1中之柵狀圖案化(線寬·· 20从m、柵距:320从m)的Al/Si合金薄膜(陰極)外,其餘 與實施例1相同的有機EL元件。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐〉 30 311414 463392 A7 B7 五、發明說明(31 ) (2)有機EL元件的評估: 於製得的有機EL元件,在半導體層與陽極(第1電極) 間施加7V直流電壓,即於半導體層施電處附近,僅獲得 直徑約5mm之聚光型發光。 亦即,若不設陰極而於3χ 103Ω . cm高電阻半導體層 直接施加電壓,即幾乎不發光,確認為不能為有機EL元 件予以作用。 [比較例2] (1) 有機EL元件的製造: 製造一種全面形成實施例1中之Al/Si合金薄膜(陰極) 而未以栅狀圖案化外,其餘與實施例1相同的有機EL元 件。 (2) 有機EL元件的評估: 於製得的有機EL元件中,在Al/Si合金薄膜與 Au/Al(陰極)間施加7V直流電壓,其流過電流為 3.6mA/cm2,發光亮度為〇.6cd/m2。與實施例1比較,取出 於外部的光量降落為1/50 ^介由全面形成的陰極及半導體 層向外部取光,即造成由陰極及半導體層吸收EL發光的 現象。 由此,可確認如實施例1將Al/Si合金薄膜(陰極)予以 圖案化後,電接於半導體層端緣部之優位性。 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁〕 裝-----„---—訂-----
ϋ I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準<CNS>A4規格(210 X 297公釐) 31 311414 4633 92 A7 -----------B7 五、發明說明(32 ) 表1 實施例1 女施例2 實施例3 比較例1 比較例2 第2電極 圖案化 陰極 圖案化 陽極 圖案化 陽極 無 非圖案化 陰極 半導體層 ZnSe/ZnCl2 CdS/Cu PEDOT ZnSe/ZnCl2 ZnSe/ZnCl2 EL發光 取出面 半導體層 半導體層 半導體層 半導體層 陰極/ 半導體層 發光輝度 (cd/m2、 54 32 180 未發光 0.6 半減壽命 (時間) 480 620 790 0 0 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) [產業上的利用性] 如依本發明之有機EL元件,係於第1電極(陽極或陰 極)與非單晶材料所成的半導體層間設有機發光媒體,且於 半導體層端緣部電接第2電極(陰極或陽極),使第1電極 與第2電極得以免除實質對向,由此,可獲得下記效果。 ①第1電極與第2電極得以免除實質對向,因而,可 由半導體層向外部取出EL發光。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由此,得以使用往昔因透光率等關係未能使用的電極 材料,故其選擇範園顯著地擴大,因而,可使用低電阻金 屬材料’且能以低電壓驅動’故能提供消耗電力低,而應 答速率較快的有機EL元件。 亦因由半導體層取出EL發先時,第2電極係設於半 導體層的端緣部,因而不成為第2電極的遮光構件,得以 順利且有效地將EL發光取出於外部。 更因透光率關係,於習用半導體結晶中,因被吸收而 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) 32 311414 463392 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 A7 五、發明說明(33 有取出困難的藍光亦可以有效地取出於外部。 0因由非單晶材料形成半導體層,故得以有效地將大 面積半導體層予以形成。由此,可在該半導體層上形成有 機發光媒體,提供特性均勻且大面積的有機EL元件。 ③ 因將第2電極位置設於有機發光媒體的橫方向,得 防止第2電極位與第1電極的短路》因短路現象為元件顯 不缺陷’由本發明的構成得以有效地免除上述顯示缺陷。 ④ 若於半導體層使用無機半導體層時,其耐熱性、耐 久性優異,雖經1000小時之長時間驅動,該半導體層及第 2電極並無剝離現象,且能提供一種發光亮度極少退化的 有機EL元件。 如依本發明之有機EL元件製造方法,係將陽極或陰 極的任何一方電極為第1電極,而以另方電極為第2電極 時,係包含有:形成第2電極之工序;使用非單晶材料, 於第2電極端緣部可電接的位置上形成半導體層的工序, 及形成第1電極之工序,以使各形成工序的選擇性擴大。 亦因使用非單晶材料於半導體層,而容易製造具均勻特性 之大面積有機EL元件。更因,無須使第1電極與第2電 極對向’故其取出光量增多,同時,亦能使用較寬擴範圍 的電極材料α [圖面的簡單說明] 第1圖為說明第1實施形態中之有機EL元件構件之 剖面圖。 第2圖為說明第1實施形態之變形例中之有機EL元 本紙張尺錢财(CNS)A4祕⑽x 297-^il --—- 33 311414 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 褒-----„---—訂 ----- 463392 A7 ___________B7 ___ 五、發明說明(34 ) 件構造之剖面圖(一)。 第3圖為說明第1實施形態之變形例中之有機元 件構造之剖面圖(二;)。 第4圖為說明第1實施形態之變形例中之有機el元 件構造之剖面圖(三)。 第5圖為說明第1實施形態之變形例中之有機元 件構造之剖面圖(四)。 第6圖為說明第i實施形態之變形例中之有機EL元 件構造之剖面圖(五)。 第7圖為說明第1實施形態之變形例中之有機£1元 件構造之剖面圖(六)。 第8圖為說明第丨實施形態之變形例中之有機£1元 件構造之剖面圖(七)。 第9圖(a)為說明第2電極與半導體層間連接構造之說 明圖(一之(a))。 第9圖(b)為說明第2電極與半導體層間連接構造之說 明圖(一之(b))。 第9圖(c)為說明第2電極與半導體層間連接構造之說 明圖(一之(c))。 第9圖(d)為說明第2電極與半導體層間連接構造之說 明圖(一之(d))。 第10圖為說明第2電極與半導體層間連接構造之說明 圖(二)。 第11圖(a)為說明第2電極與半導體層間連接構造之 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) !l·! — 訂-! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 χ的7公釐) 34 311414 4633 92 A7 B7 五、發明說明(35 ) 說明圖(三之(a))。 第11圖(b)為說明第2電極與半導體層間連接構造 說明圖(三之(b)) 第11圖(c)為說明第2電極與半導體層間連接構造 說明圖(三之(c)) 第12圖(a)為說明有關第2實施形態之製造方法之气 面圖(一之(a))。 第12圖(b)為說明有關第2實施形態之製造方法之剖 面圖(一之(b))。 第12圖(c)為說明有關第2實施形態之製造方法之剖 面圖(一之(C)) ° 第12圖(d)為說明有關第2實施形態之製造方法之剖 .面圖(一之(d))。 第13圖為說明習用有機EL元件構造之剖面圖(_)。 第14圖為說明習用有機El元件構造之剖面圖(二)。 [符號的說明] 之 之 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
裝---I r----訂---II 3. 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 100,102,104,106,108,110,112,114,116,118 有機 EL 元件 9 半導體層 10 陰極 12 有機發光媒體 14 半導體層 15 支持基板 16 陽極(第2 17 端緣部 18 延長部 20 凹部 23 第2電極 24 傾斜面 25 導電層 29 前端部 ’ 30 丈·持基板 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 35
3114U 463392 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明(36 ) 32 半導體層 34 第2電極 36 端緣部 40 第2電極 42 支持基板 44 半導體層 46 有機發光媒體 48 第1電極 200 有機EL元件 201 第1電極 202 有機層 203 第2電極 210 有機EL元件 212 電極 213 補助電極 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裂-----^----訂----- 3. 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 36 311414

Claims (1)

  1. 修正 463392 H3 第89108193號專利申請案 ^ 申請專利範園修正本 (90年7月27曰) 1. 一種有機電場發光元件,係於含有陽極、半導髏屠及陰 極的有機電場發光元件及其製造方法中, 將陽極或陰極之任何一方電極為第1電極,而以另 方電極為第2電極時,於第1電極與由非單晶材料所成 半導體層間設置有機發先媒體,同時,在半導趙廣端緣 雙對第_ 2電極予以電氣連接者。 2. 如申請專利範園第1項記載之有機電場發光元件,係從 第2電極於半導體層之端緣部,對其水平方向延設之廷 長部予以電氣連接者。 3. 如申請專利範園第1項記載之有機電場發光元件,其係 將第2電極以電氣連接,接於半導體層2處以上之端緣 部者。 〇 4. 如申請專利範圍第1項記载之有機電場發光元件,其係 將第2電極予以圖案化為栅狀或梳子狀者》 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 5. 如申請專利範圍第1、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件,其係由非單晶材料中之ZnS、ZnSe、CdS、CdTe、 MgSe、ZnSSe、ZnMgSSe、ZnCdSSe 及 ZnTeSe 等所成 群體選擇至少一種氧硫族化合物(chalcogenide)者。 6. 如申請專利範圍第1、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件,其係由Al、Sn、Zn、In、Cd、Mg或Si等之 群體中,選擇至少一種金屬氧化物之非缩退半導體為該 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )A4規格(210 X 297公楚) 1 311414 463392
    非單晶材料者 8,如事請專利範園第 7‘如申請專利範固第h、3或第4項記載之有機電場發 光元件《非單晶特料為非晶質碳或類鑽礙者。 3或第4項記載之有機電場發 光元件’該非單晶材料為導電性共軛聚合體添加氧化 劑聚α體、添加還原劑聚合體、添加氧化劑低分子化合 物或為添加還原劑低分子化合物者β 9.如申請專利範園第卜2、3或第4項記載之有機電場發 光元件,其半導體層之頻帶隙(band钟…係2 7eV以上 者β 1〇·如申請專利範圍第1、2、3或第4項記載之有機電場發 光70件’其半導體層之厚度係1至7〇〇nm範園内之值 者。 11·如申請專利範圍第1、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件’該乎導體層之比電阻係1Χ 1〇*3至1〇4q -cm範面之值者。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 12. 如申請專利範面第i、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件’該半導體層之電荷濃度係1Χ 1〇丨2至lx l〇2〇cm3 範圍者。 13. 如申請專利範園第1、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件*該半導體層之透光率為1〇%以上者。 14. 如申請專利範園第i、2、3或第4項記載之有機電場發 光元件,係於第2電極與有機發光媒體間設置電氣絕緣 部者。 本紙張尺度適用中國國家標準(C N S ) A 4規格(210 X 297公變) 2 311414 463392 H3 15‘如申請專利範圍第1、2 於从咕 或第4項記載之有機電場發 光兀件’係於第2電極與古換_ 者。 有機發光媒體間設置導電層 16. 如申請專利範園第i、2 光元件,係由半導鍾層向:部二項記載之有機電場發 17, 如申請㈣範園第卜2、二部rEL發光之構成者。 土一从 ^ 魂•第4項記載之有機電場發 光兀件,係設有第2電極之 補助電極者〇 18·—種有機電場發光顯示元 之製造方法,係於含有陽 極、半導體層、有機發光 疋媒趙及陰極的有機EL元件製 造方法申, 將陽極或陰極之任柄·— 士办 n 方電極為第1電極,而以另 一方電極為第2電極時,包含: 形成第2電極之工序; 使用非晶#料在第2電^能以電氣連接於半導趙 層端緣部的位置形成半導髏廣之工序; 形成有機發光媒體之工序,& 形成第1電極之工序者〇 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 19‘如中請專利範園第18項記載之有機電場發光顯示元件 之製造方法,係於形成第2電極之工序中,包含圖案化 工序者。 20-如申請專利範園第18或19項記載之有機電場發光顯示 元件之製造方法,係含有形成覆蓋第2電極的絕緣臈、 非植入性半導體層或金屬層之工序者β 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210X297公爱) 3 311414
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